샤워 헤드 어셈블리 및 플라즈마 처리 장치
    1.
    发明公开
    샤워 헤드 어셈블리 및 플라즈마 처리 장치 审中-实审
    淋浴头组件和等离子体加工设备

    公开(公告)号:KR1020150054655A

    公开(公告)日:2015-05-20

    申请号:KR1020140144034

    申请日:2014-10-23

    Abstract: 본발명은열의응답성및 균열성(均熱性)이좋은샤워헤드어셈블리를제공하는것을목적으로한다. 본발명에의하면, 전극판과상기전극판을지지하는세라믹스의기체(基體)를가지며, 가스를공급하는샤워헤드어셈블리로서, 상기세라믹스의기체는, 상기기체의중심측및 주연(周緣)측에형성되는제1 및제2 가스확산공간과, 상기제1 및제2 가스확산공간의상방위치에형성되는제1 및제2 히터전극층과, 상기제1 및제2 가스확산공간의상방위치이며상기제1 및제2 히터전극층의상방또는하방의위치에형성되는제1 및제2 냉매유로와, 상기제1 및제2 가스확산공간을통해가스를공급하는제1 및제2 가스공급로를갖고, 상기기체의내부에접합면이없도록제작되어있는샤워헤드어셈블리가제공된다.

    Abstract translation: 本发明的目的是提供一种具有良好的热响应性和热均匀性的喷淋头组件。 根据本发明,淋浴头组件供应气体并且包括电极板和陶瓷基体以支撑电极板。 陶瓷基体包括:形成在基体的中间或周边上的第一和第二气体分散空间; 形成在第一和第二气体分散空间上的第一和第二加热电极层; 第一和第二制冷剂通道,其形成在第一和第二气体分散空间的上方,在第一和第二加热器电极层的上方或下方; 以及第一和第二气体供给通道,用于通过第一和第二气体分散空间供应气体。 淋浴头组件在基体内没有接触表面。

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