公开(公告)号：KR1020160113983A

公开(公告)日：2016-10-04

申请号：KR1020160033474

申请日：2016-03-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히라노타이치 ,  이시바시준지 ,  이토케이키 ,  사토쿠니히로

IPC: H01J37/32

CPC classification number: H01J37/32091 ,  H01J37/32146 ,  H01J37/32174 ,  H01J37/32577

Abstract: 하부전극에의고주파전력의공급에수반하여피처리체상에서발생하는플라즈마시스에대한전자의튕김에기인하는, 상부전극측에서의방전을억제하는것이다. 전원시스템은, 피처리체를배치하기위한하부전극에플라즈마생성용의고주파전력을공급하는고주파전원과, 하부전극에대향하도록배치된상부전극에음의제 1 직류전압또는제 1 직류전압보다절대값이큰 음의제 2 직류전압을공급하는직류전원과, 고주파전력의공급과이 공급의정지를교호로반복하고, 고주파전력이공급되고있는기간중, 고주파전력의공급의개시시부터의제 1 기간에, 제 1 직류전압및 제 2 직류전압의공급을정지하고, 당해기간중, 제 1 기간을제외한제 2 기간에, 제 1 직류전압을공급하고, 고주파전력의공급이정지되어있는기간에, 제 2 직류전압을공급하는전원제어처리를실행하는제어부를구비한다.