公开(公告)号：KR100391026B1

公开(公告)日：2003-07-12

申请号：KR1020007012604

申请日：2000-03-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 쉬니리키히로시 ,  마츠모토켄지

IPC: C23C16/40

CPC classification number: H01L21/67017 ,  C23C16/409 ,  H01L21/31691

Abstract: The vacuum degree in a reactor 101 is set to as low as 0.1 Torr. In this state, a butyl acetate solution in which Pb(DPM)2 is dissolved at a concentration of 0.1 mol is transported from a Pb source generator 105 to an evaporator 105b, while the flow rate of the butyl acetate solution is controlled to a predetermined flow rate by a massflow controller 105a, to evaporate the Pb(DPM)2 dissolved together with the butyl acetate by the evaporator 105b. Helium gas is added to these at a flow rate "250 sccm", and the mixed gas is transported to a shower head 103. With this operation, source gases are supplied to a wafer 104 in the reactor 101, while the partial pressure of each source gas is set low.

Abstract translation: 反应器101中的真空度设定为低至0.1乇。 在该状态下，将Pb（DPM）2以0.1mol的浓度溶解于其中的乙酸丁酯溶液从Pb源发生器105输送到蒸发器105b，同时乙酸丁酯溶液的流量被控制为预定的 通过质量流量控制器105a的流量，蒸发器105b蒸发与乙酸丁酯一起溶解的Pb（DPM）2。 氦气以“250sccm”的流速添加到这些气体中，并且混合气体被输送到喷头103.通过该操作，将源气体供应到反应器101中的晶片104，同时将分压 每种源气都设定为低。 ＆lt;图像＆GT;

公开(公告)号：KR1020010043512A

公开(公告)日：2001-05-25

申请号：KR1020007012604

申请日：2000-03-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 쉬니리키히로시 ,  마츠모토켄지

IPC: C23C16/40

Abstract: 반응기(101)내의 진공도는 0.1Torr 의 저진공 상태로 하고, 이 상태에서 Pb 원료 생성부(105)로부터, Pb(DPM)
2 가 0.1 몰 농도로 용해되어 있는 아세트산부틸 용액을 유량 제어 수단(105a)에 의해 예정된 유량으로 유량 제어하여 기화기(105b)에 수송하고, 아세트산부틸과 함께 용해되어 있는 Pb(DPM)
2 를 기화기(105b)로 기화한다. 이들에 헬륨 가스를 유량 "250sccm" 으로 첨가하여 샤워 헤드(103)에 수송함으로써, 반응기(101)내의 웨이퍼(104)상에 각각의 분압을 낮춘 상태에서 각 원료 가스를 공급한다.