公开(公告)号：KR101575391B1

公开(公告)日：2015-12-07

申请号：KR1020120085871

申请日：2012-08-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스가와라유도

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4401 ,  C23C16/52

Abstract: 처리용기의내벽등에부착된불필요한막의막 균열을검출하여파티클의발생가능성을리얼타임으로인식하는것이가능한막 균열검출장치를제공한다. 피처리체(W)를수용하는처리용기(4)를갖는동시에피처리체의표면에박막을형성하는성막장치(2)에설치되어막 균열검출조작을행하는막 균열검출장치(40)에있어서, 성막장치에장착되어탄성파를검출하는탄성파검출수단(42)과, 탄성파검출수단의검출결과에기초하여처리용기(4)의클리닝의필요여부를판단하는판단수단(44)을구비한다. 이에의해, 처리용기의내벽등에부착된불필요한막의막 균열을검출하여파티클의발생가능성을리얼타임으로인식한다.

公开(公告)号：KR101501322B1

公开(公告)日：2015-03-10

申请号：KR1020120078165

申请日：2012-07-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스가와라유도

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/22 ,  H01L21/02

Abstract: 본 발명의 과제는 기판 보유 지지구에 기판을 반송할 때에 파티클의 기판에의 부착을 방지하고, 또한 열처리 후에 기판 보유 지지구가 로딩실에 언로드되었을 때에 로딩실의 상부측의 온도 상승을 방지할 수 있는 기술을 제공하는 것이다. 로딩실 내에서 급기구로부터 배기구를 향하여 청정 기체에 의한 횡방향의 기류를 형성하는 기체 순환 기구와, 상기 급기구에 설치되고, 상기 기류에 대해서 로딩실의 하부측의 통기 유량에 대한 상부측의 통기 유량의 유량 비율을 조정하는 기류 조정 기구를 구비하도록 장치를 구성한다. 상기 기류 조정 기구는, 열처리 후의 기판을 보유 지지한 기판 보유 지지구가 언로드 위치에 대기하고, 열처리 후의 기판의 전달이 개시되기 전의 상태에 있어서의 상기 유량 비율이, 상기 기판 보유 지지구에 대하여 기판의 전달을 행할 때의 상기 유량 비율보다도 커지도록 작동하여, 로딩실의 상부측의 냉각을 촉진한다.

公开(公告)号：KR1020130011944A

公开(公告)日：2013-01-30

申请号：KR1020120078165

申请日：2012-07-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스가와라유도

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/22 ,  H01L21/02

Abstract: PURPOSE: A heating treatment apparatus is provided to prevent the temperature rise of a loading room by supplying clean gas to the upper side of the loading room. CONSTITUTION: A gas circulation tool forms airstream from an air supply outlet(51) to an air outlet(55). An airstream adjusting device is installed in the air supply outlet and controls the flow rate of an upper and a lower ventilation. The airstream adjusting device promotes cooling an upper part of a loading room.

Abstract translation: 目的：提供一种加热处理装置，通过向装载室的上侧供给清洁气体来防止装载室的温度上升。 构成：气体循环工具从空气供应出口（51）形成气流到空气出口（55）。 气流调节装置安装在空气供应出口中，并控制上部和下部通风的流量。 气流调节装置促进冷却装载室的上部。

公开(公告)号：KR1020140011970A

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：KR1020130084742

申请日：2013-07-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스가와라유도 ,  하세베가즈히데

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/205

CPC classification number: G01N29/14 ,  G01N29/11 ,  G01N29/40 ,  G01N29/42 ,  G01N29/4427 ,  G01N2291/0237

Abstract: The purpose of the present invention is to provide a film crack detecting device which recognizes possibility of a particle in real time by detecting a film crack of an unnecessary film attached to a probe unit which is installed within a processing container. The present invention is a film crack detecting device (40) which has a processing container (4) for receiving a processed body (W) and performs film crack detection operation by being installed in a film forming device (2) for forming a thin film on the surface of the processed body. The film crack detecting device comprises; a probe unit (41) which is installed within the processing container; an elastic wave detection unit (42) which detects an elastic wave by be attached to the end of the probe unit; and a determination unit (44) which determines the necessity of maintenance of the processing container based on a detection result of the elastic wave detection unit. Therefore, the film crack detecting device recognizes possibility of the particle in real time by detecting the film crack of the unnecessary film attached to the probe unit which is installed within the processing container. [Reference numerals] (10) (Maintenance unit) wafer board; (2) Film formation unit; (28) Gas supply system; (36) Discharge system; (38) Heating unit; (4) Processing container; (40) Film crack detecting device; (41) Probe unit; (42) Elastic wave detection unit; (44) Determination unit; (45) Display unit; (46) Vertical probe unit; (48) Probe main body; (4A) Internal container; (4B) External container; (50) Attachment back end unit; (68) Strength filter unit; (74) Equipment control unit; (76) Storage medium; (AA) Gas; (BB) Vacuum exhaust; (CC) Cooling gas

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种薄膜裂纹检测装置，其通过检测安装在处理容器内的探针单元上附着的不必要膜的膜裂纹来实时识别颗粒的可能性。 本发明是一种薄膜裂纹检测装置（40），其具有用于接收加工体（W）的处理容器（4），并且通过安装在用于形成薄膜的成膜装置（2）中进行薄膜裂纹检测操作 在加工体表面。 薄膜裂纹检测装置包括： 安装在处理容器内的探针单元（41）; 弹性波检测单元，其通过附接到探针单元的端部来检测弹性波; 以及基于弹性波检测单元的检测结果确定处理容器的维护必要性的确定单元（44）。 因此，膜裂纹检测装置通过检测安装在处理容器内的探针单元上附着的不必要膜的膜裂纹来实时识别粒子的可能性。 （附图标记）（10）（维护单元）晶片板; （2）成膜单元; （28）供气系统; （36）放电系统; （38）加热单元; （4）加工容器; （40）薄膜破裂检测装置; （41）探头单元; （42）弹性波检测单元; （44）确定单位; （45）显示单元; （46）垂直探头单元; （48）探头主体; （4A）内部容器; （4B）外部容器; （50）附件后端单元; （68）强度过滤器单元; （74）设备控制单元; （76）存储介质; （AA）气; （BB）真空排气; （CC）冷却气体

公开(公告)号：KR1020130019349A

公开(公告)日：2013-02-26

申请号：KR1020120085871

申请日：2012-08-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 스가와라유도

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4401 ,  C23C16/52 ,  H01L22/12

Abstract: PURPOSE: A film crack detecting apparatus and a film forming apparatus are provided to easily detect a crack of a film by including a determining device which determines the cleaning of a process container and an elastic wave detecting device. CONSTITUTION: An elastic wave detecting device(42) is mounted on a film forming device and detects an elastic wave. A determining device(44) performs an operation based on the elastic wave detecting device and determines whether to clean a processing container(4). An intensity filtering device outputs a signal over preset intensity as an elastic wave detection signal. [Reference numerals] (44) Determining device; (45) Display unit; (61) Intensity filter device; (70) Device control unit; (72) Memory medium; (AA) Gas; (BB) Vacuum exhaust

Abstract translation: 目的：提供薄膜裂纹检测装置和成膜装置，通过包括确定处理容器和弹性波检测装置的清洁的确定装置来容易地检测薄膜的裂纹。 构成：弹性波检测装置（42）安装在成膜装置上并检测弹性波。 确定装置（44）基于弹性波检测装置执行操作，并确定是否清洁处理容器（4）。 强度滤波装置输出超过预设强度的信号作为弹性波检测信号。 （附图标记）（44）确定装置; （45）显示单元; （61）强度过滤装置; （70）设备控制单元; （72）存储介质; （AA）气; （BB）真空排气