公开(公告)号：KR1020160110188A

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：KR1020160028333

申请日：2016-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리야테루히코 ,  후쿠나가노부타카 ,  시마다료

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  H01L21/54 ,  H01L21/60

Abstract: 분위기의조정시간을단축할수 있는기판처리장치및 기판처리방법을제공한다. 에너지선조사유닛(U4)은, 웨이퍼(W)에에너지선을조사하는조사부(54)와, 웨이퍼(W)를반송하는반송부(56)와, 상부토출구(71)로부터웨이퍼(W)의처리용의가스를공급하는가스공급부(70)와, 배출구(81)로부터처리용의가스를배출하는가스배출부(80)와, 상부토출구(71)로부터배출구(81)에이르는처리용의가스의유로를차단하는제 1 위치로웨이퍼(W)를반송하도록반송부(56)를제어하는것, 제 1 위치에웨이퍼(W)가위치하고있을때 처리용의가스를상부토출구(71)로부터공급하도록가스공급부(70)를제어하는것, 가스공급부(70)에의해공급된처리용의가스가웨이퍼(W)의표면상에개재되는상태에서웨이퍼(W)의표면에에너지선을조사하도록조사부(54)를제어하는것을실행하도록구성된제어부(100)를구비한다.

Abstract translation: 本发明提供能够减少气氛调整时间的基板处理装置和基板处理方法。 根据本发明，能量束照射单元（U4）包括：用能量束照射晶片（W）的照射单元（54） 返回单元（56）以返回晶片（W）; 气体供给单元（70），其从上部出口（71）供给用于处理所述晶片（W）的处理气体; 和排气单元（80），用于从排出孔（81）排出处理气体; 和控制单元（100）。 控制单元（100）使返回单元（56）将晶片（W）返回到第一位置，以阻止处理气体从上部出口（71）流到排出孔（81）的流动路径; 当将晶片（W）置于第一位置时，气体供给单元（70）从上排出孔（71）供给处理气体; 并且使得照射单元（54）在由气体供应单元（70）供应的处理气体吸附在晶片（W）的表面上的状态下用能量束照射晶片（W）的表面。