公开(公告)号：KR1020120114146A

公开(公告)日：2012-10-16

申请号：KR1020120001901

申请日：2012-01-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 세키신이치 ,  도미타히로시 ,  후쿠나가노부타카 ,  소하라도시후미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G06T7/0004 ,  G01N21/9501 ,  G06T2207/30148 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and recording medium are provided to prevent substrate processing to be stopped when an error is generated and to reduce an installation area. CONSTITUTION: A rotation driving unit(34) rotates the center of a substrate holding unit. A transfer unit comprises a moving drive unit which horizontally transfers the substrate holding unit. A radiation unit radiates light to a peripheral exposure unit. The peripheral exposure unit performs a peripheral exposure process. A substrate inspection unit(70) performs a substrate inspection process based on an image which is recorded. A controller(80) controls the peripheral exposure unit and the substrate inspection unit.

Abstract translation: 目的：提供基板处理装置，基板处理方法和记录介质，以防止在产生错误时停止基板处理并且减小安装面积。 构成：旋转驱动单元（34）使基板保持单元的中心旋转。 传送单元包括水平地传送基板保持单元的移动驱动单元。 辐射单元将光辐射到外围曝光单元。 外围曝光单元进行周边曝光处理。 基板检查单元（70）基于记录的图像进行基板检查处理。 控制器（80）控制外围曝光单元和基板检查单元。

公开(公告)号：KR1020160110188A

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：KR1020160028333

申请日：2016-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리야테루히코 ,  후쿠나가노부타카 ,  시마다료

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/677 ,  H01L21/54 ,  H01L21/60

Abstract: 분위기의조정시간을단축할수 있는기판처리장치및 기판처리방법을제공한다. 에너지선조사유닛(U4)은, 웨이퍼(W)에에너지선을조사하는조사부(54)와, 웨이퍼(W)를반송하는반송부(56)와, 상부토출구(71)로부터웨이퍼(W)의처리용의가스를공급하는가스공급부(70)와, 배출구(81)로부터처리용의가스를배출하는가스배출부(80)와, 상부토출구(71)로부터배출구(81)에이르는처리용의가스의유로를차단하는제 1 위치로웨이퍼(W)를반송하도록반송부(56)를제어하는것, 제 1 위치에웨이퍼(W)가위치하고있을때 처리용의가스를상부토출구(71)로부터공급하도록가스공급부(70)를제어하는것, 가스공급부(70)에의해공급된처리용의가스가웨이퍼(W)의표면상에개재되는상태에서웨이퍼(W)의표면에에너지선을조사하도록조사부(54)를제어하는것을실행하도록구성된제어부(100)를구비한다.

Abstract translation: 本发明提供能够减少气氛调整时间的基板处理装置和基板处理方法。 根据本发明，能量束照射单元（U4）包括：用能量束照射晶片（W）的照射单元（54） 返回单元（56）以返回晶片（W）; 气体供给单元（70），其从上部出口（71）供给用于处理所述晶片（W）的处理气体; 和排气单元（80），用于从排出孔（81）排出处理气体; 和控制单元（100）。 控制单元（100）使返回单元（56）将晶片（W）返回到第一位置，以阻止处理气体从上部出口（71）流到排出孔（81）的流动路径; 当将晶片（W）置于第一位置时，气体供给单元（70）从上排出孔（71）供给处理气体; 并且使得照射单元（54）在由气体供应单元（70）供应的处理气体吸附在晶片（W）的表面上的状态下用能量束照射晶片（W）的表面。

公开(公告)号：KR1020170031122A

公开(公告)日：2017-03-20

申请号：KR1020170029938

申请日：2017-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 세키신이치 ,  도미타히로시 ,  후쿠나가노부타카 ,  소하라도시후미

IPC: H01L21/027 ,  G06T7/00 ,  G01N21/95

CPC classification number: G06T7/0004 ,  G01N21/9501 ,  G06T2207/30148

Abstract: 본발명은주변노광과기판검사중 어느한쪽의처리에이용되는부분에이상이발생했을때에, 기판처리가정지하는것을방지할수 있는기판처리장치를제공하는것을목적으로한다. 기판유지부(33)에유지된기판을회전구동부(34)에의해회전시키면서, 기판의주변부에광을조사하여주변노광처리를수행하는주변노광부(50)와, 기판을이동구동부(35)에의해이동시키면서, 기판을촬상한화상에기초하여기판검사처리를수행하는기판검사부(70)와, 제어부(80)를갖는다. 제어부(80)는정해진기판처리에주변노광처리가포함되어있으면, 정해진기판처리를정지시키고, 기판검사부(70)에이상이발생했을때, 주변노광부(50) 및반송부(32) 모두에이상이발생하지않았고, 정해진기판처리에기판검사처리가포함되어있으면, 기판검사처리를스킵하도록제어한다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是提供一种能够防止发生时，在任一边缘暴露于基板检查侧的处理中使用的基板处理异常停止部的基板处理装置。 而由基板保持部旋转通过33驱动部34保持的基板，和对周围通过照亮基板的周边，移动基片驱动器35执行边缘曝光处理的暴露部分（50）被旋转 而由移动，并用于通过在衬底成像获得的图像的基础上执行所述基板检查处理的基板检查单元70和具有控制单元80。 或多个在两个控制单元80，如果它包含在一个固定的基板处理边缘曝光处理，并停止在预定的衬底处理，产生异常基板检查部70，曝光部50周围和进位部32时 如果衬底检查过程被包括在预定的衬底过程中，则控制单元20跳过衬底检查过程。

公开(公告)号：KR101719383B1

公开(公告)日：2017-03-23

申请号：KR1020120001901

申请日：2012-01-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 세키신이치 ,  도미타히로시 ,  후쿠나가노부타카 ,  소하라도시후미

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G06T7/0004 ,  G01N21/9501 ,  G06T2207/30148

Abstract: 본발명은주변노광과기판검사중 어느한쪽의처리에이용되는부분에이상이발생했을때에, 기판처리가정지하는것을방지할수 있는기판처리장치를제공하는것을목적으로한다. 기판유지부(33)에유지된기판을회전구동부(34)에의해회전시키면서, 기판의주변부에광을조사하여주변노광처리를수행하는주변노광부(50)와, 기판을이동구동부(35)에의해이동시키면서, 기판을촬상한화상에기초하여기판검사처리를수행하는기판검사부(70)와, 제어부(80)를갖는다. 제어부(80)는정해진기판처리에주변노광처리가포함되어있으면, 정해진기판처리를정지시키고, 기판검사부(70)에이상이발생했을때, 주변노광부(50) 및반송부(32) 모두에이상이발생하지않았고, 정해진기판처리에기판검사처리가포함되어있으면, 기판검사처리를스킵하도록제어한다.