公开(公告)号：KR1020150023288A

公开(公告)日：2015-03-05

申请号：KR1020147033022

申请日：2013-06-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카치미치히사 ,  시미즈유스케 ,  오즈도시히사

IPC: H01L21/033 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3213

CPC classification number: H01L21/02315 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/32139

Abstract: 일 실시예에 있어서는, 레지스트 마스크를 처리하는 방법을 제공한다. 이 방법은 (a) 처리 용기 내에서, 패터닝된 레지스트 마스크가 그 위에 마련된 피처리 기체를 준비하는 공정과, (b) 처리 용기 내에 수소를 함유하는 가스를 공급하고, 해당 처리 용기 내에 마이크로파를 공급하여, 상기 수소를 함유하는 가스의 플라즈마를 생성하는 공정을 포함한다. 수소를 함유하는 가스는, 예컨대 H
2 가스여도 된다.

公开(公告)号：KR101808380B1

公开(公告)日：2017-12-12

申请号：KR1020147033022

申请日：2013-06-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카치미치히사 ,  시미즈유스케 ,  오즈도시히사

IPC: H01L21/033 ,  H01L21/027 ,  H01L21/3213

CPC classification number: H01L21/02315 ,  H01J37/32192 ,  H01J37/3222 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/0332 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/30604 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/32139

Abstract: 일실시예에있어서는, 레지스트마스크를처리하는방법을제공한다. 이방법은 (a) 처리용기내에서, 패터닝된레지스트마스크가그 위에마련된피처리기체를준비하는공정과, (b) 처리용기내에수소를함유하는가스를공급하고, 해당처리용기내에마이크로파를공급하여, 상기수소를함유하는가스의플라즈마를생성하는공정을포함한다. 수소를함유하는가스는, 예컨대 H가스여도된다.