公开(公告)号：KR100379647B1

公开(公告)日：2003-06-19

申请号：KR1019970037949

申请日：1997-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 쓰카모토다케시 ,  다테야마기요히사 ,  무라타가즈히코

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162

Abstract: A processing apparatus comprises a resist coating machine for coating resist on the surface of a substrate, a resist removing machine for removing the unnecessary resist stuck to the peripheral portion of the substrate carried out of the resist coating machine, and a transport arm for transporting the substrate from the resist coating machine to the resist removing machine, wherein the resist removing machine comprises a substrate table on which the substrate brought in by the transport arm is placed, a nozzle for spraying a solvent on the peripheral portion to remove the unnecessary resist stuck to the peripheral portion of the substrate on the substrate table; a discharge machine for discharging the solvent used to dissolve and remove the unnecessary resist and the dissolved and removed resist, and an exhaust machine for exhausting the atmosphere under the substrate table downward.

Abstract translation: 本发明提供一种处理装置，该处理装置包括：抗蚀剂涂布机，其用于涂布基板表面的抗蚀剂;抗蚀剂除去机构，其用于除去附着在抗蚀剂涂布机的基板的周缘部的不需要的抗蚀剂;以及输送臂， 从所述抗蚀剂涂布机向所述抗蚀剂剥离机输送基板，所述抗蚀剂剥离机具备：载置由所述搬运臂搬入的所述基板的基板台;在所述周边部喷射溶剂而除去不需要的所述抗蚀剂的喷嘴 到衬底台上的衬底的外围部分; 用于排出用于溶解和去除不需要的抗蚀剂的溶剂以及溶解并除去的抗蚀剂的排出机以及用于向下排出衬底台下的气氛的排气机。

公开(公告)号：KR1019980018527A

公开(公告)日：1998-06-05

申请号：KR1019970037949

申请日：1997-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 쓰카모토다케시 ,  다테야마기요히사 ,  무라타가즈히코

IPC: H01L21/027

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
본 발명은 LCD기판이나 반도체웨이퍼와 같은 기판의 가장자리부로부터 처리제를 제거하는 처리장치에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
본 발명은 레지스트와 같은 처리제를 용해제거하기 위하여 사용한 용제의 증기가 주변분위기중으로 누출하는 것을 방지하는 기구를 가지는 처리장치를 제공하는 데 있다.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명의 처리장치는, 기판의 표면에 레지스트를 도포하는 레지스트 도포장치와, 레지스트 도포장치로부터 반출되고 기판의 가장자리부에 부착한 불필요한 레지스트를 제거하는 레지스트 제거장치와, 레지스트 도포장치로부터 레지스트 제거장치로 기판을 반송하는 반송아암으로 구성되며, 레지스트 제거장치는, 반송아암에 의해서 반압된 기판을 재치하는 재치대와, 재치대에 재치된 기판의 가장자리부에 부착한 불필요한 레지스트를 용해제거하기 위하여 가장자리부에 용제를 분출하는 노즐과, 불필요한 레지스트를 용해 제거하기 위하여 사용된 용제 및 용해 제거된 레지스트를 배출하기 위한 배출장치와, 재치대 하부의 분위기를 하방으로 배기하는 배기장치로 구성된다.
4. 발명의 중요한 용도
레지스트와 같은 처리제를 기판상에 도포하는 장치에 사용한다.