公开(公告)号：KR101076152B1

公开(公告)日：2011-10-21

申请号：KR1020040063195

申请日：2004-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부 ,  다테야마기요히사 ,  미야자키가즈히토 ,  야마사키쓰요시 ,  가와구치요시히로

IPC: G03F7/16

Abstract: 노즐부(156)에있어서, 주사방향(X-방향)의후방또는반대측을향하는면, 즉배면(160)에는노즐길이방향으로수평또는일직선으로이어지는단차부(162)가형성되어있다. 도포처리중, 기판(G) 상으로토출된레지스트액(R)이젖음현상에의해레지스트노즐(120)의노즐부(156)의배면(160)에부착하여높이방향으로넓어져, 그정상위치는단차부(162)에서안정화내지고정된다. 이렇게해서, 레지스트노즐(120)의노즐부(156)의배면(160)을적시는레지스트액(R)의정상라인, 즉웨트라인(WL)이단차부(162)에의해서일의적(一義的)으로결정된다.

公开(公告)号：KR100427164B1

公开(公告)日：2004-07-01

申请号：KR1019980017561

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67748 ,  G03F7/7075 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/6838 ,  Y10S134/902 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/141

Abstract: According to the present invention, there is provided a substrate conveying apparatus for loading/unloading a substrate to/from a processing section, including an arm for holding the substrate on an upper surface thereof, an arm drive mechanism for driving the arm such as to load/unload the substrate to/from the processing section, first and second suction members each having an opening communicating to a suction hole of the suction passage, for supporting the substrate by at least an edge portion of the opening, and a switching mechanism for selectively switching a mode between the support of the substrate by the first suction member and that by the second suction member.

Abstract translation: 根据本发明，提供了一种用于将基板装载到处理部分/从处理部分卸载基板的基板输送装置，所述处理部分包括用于将基板保持在其上表面上的臂，用于驱动臂的臂驱动机构， 将基板装载到处理部分或从处理部分卸载基板;第一和第二抽吸部件，每个抽吸部件具有与抽吸通道的抽吸孔连通的开口，用于至少通过开口的边缘部分支撑基板;以及切换机构， 选择性地切换第一抽吸构件对基板的支撑与第二抽吸构件对基板的支撑之间的模式。

公开(公告)号：KR100330088B1

公开(公告)日：2002-09-09

申请号：KR1019950037308

申请日：1995-10-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  히로세오사무

IPC: H01L21/08

Abstract: 본 발명은, 피처리체를 얹어놓는 얹어놓는대와, 얹어놓는대를 개재하여 피처피체를 가열하는 가열수단과, 얹어놓는대 표면으로부터 돌출함으로써 피처리체와 얹어놓는대와의 사이에 간격을 마련하여서 피처리체를 지지하는 복수의 지지부재를 구비하고, 각 지지부재의 높이는, 피처리체의 표면의 처리중의 온도분포에 따라서 가변인 기판처리장치이다.
또, 본 발명은, 피처리체를 얹어놓는 얹어놓는대와, 얹어놓는대를 개재하여 피처리체를 가열하는 가열수단을 구비하고, 얹어놓는대의 표면은, 피처리체의 표면의 처리중의 온도분포에 따라서 다른 방사형태인 영역을 가지는 기판 처리장치이다.

公开(公告)号：KR100284559B1

公开(公告)日：2001-04-02

申请号：KR1019950007866

申请日：1995-04-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 마쓰오다케노부 ,  덴폭가즈키 ,  다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  이와사키다쓰야 ,  야마구치에이지

IPC: H01L21/027

Abstract: 직사각형기판의 레지스트처리방법은, 기판을 스핀 회전시키면서 기판에 레지스트액을 공급하고, 기판의 적어도 한쪽면에 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포공정과, 레지스트를 용해할 수 있는 제거액을 기판양면의 둘레영역에 분사하고, 기판양면의 둘레영역으로 부터 레지스트막을 제거하는 레지스트 제거공정을 가진다.

公开(公告)号：KR1019950034475A

公开(公告)日：1995-12-28

申请号：KR1019950007866

申请日：1995-04-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 마쓰오다케노부 ,  덴폭가즈키 ,  다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  이와사키다쓰야 ,  야마구치에이지

IPC: H01L21/027

Abstract: 직사각형기판의 레지스트처리방법은, 기판을 스핀 회전시키면서 기판에 레지스트액을 공급하고, 기판의 적어도 한쪽면에 레지스트막을 형성하는 레지스트 도포공정과, 레지스트를 용해할 수 있는 제거액을 기판양면의 둘레영역에 분사하고, 기판양면의 둘레영역으로 부터 레지스트막을 제거하는 레지스트 제거공정을 가진다.

公开(公告)号：KR1019920015456A

公开(公告)日：1992-08-26

申请号：KR1019920000821

申请日：1992-01-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  가부시끼가이샤 도시바 ,  도꾜일렉트론큐슈리미티드

Inventor： 하세베게이조 ,  다테야마기요히사 ,  요시모또유지 ,  마쯔야마유지 ,  나까하라데쯔로 ,  기무라요시오

IPC: H01L21/20

Abstract: 내용 없음

公开(公告)号：KR100558026B1

公开(公告)日：2006-05-09

申请号：KR1019970074965

申请日：1997-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하시모토히로시 ,  다테야마기요히사 ,  야마구치기요미쓰 ,  마쓰다요시타카 ,  우치히라노리오 ,  사카이미쓰히로 ,  사토후미오

IPC: H01L21/00

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속하는 기술분야
처리장치 및 처리방법
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
스핀척을 확대하지 않고서 수평적으로 평평한 기판면을 유지하면서 처리액으로 기판의 표면을 균일하게 처리하기 위한 장치 및, 회수된 처리액의 농도가 과도하게 낮아지는 것을 방지하고, 회수된 용액을 용이하게 재처리할 수 있는 처리방법을 제공함
3. 발명의 해결방법의 요지
개시된 장치는 유지수단, 지지수단, 처리액 공급수단, 승강수단 및 회전수단을 포함하여 구성되는 처리장치이다. 처리기판은 유지수단에 의하여 회전가능하게 유지된다. 유지수단의 둘레를 넘어서 연장되는 기판의 돌출부가 지지수단에 의하여 지지되어 기판의 앞면을 수평으로 평평하게 유지한다. 처리액은 처리액 공급수단으로부터 유지수단에 의하여 유지되고 지지수단에 의하여 지지된 기판의 앞면으로 공급된다. 유지수단에 의하여 유지된 기판은 지지수단에 대하여 승강수단으로 수직이동한다. 지지수단에 대하여 승강된 기판은 회전수단에 의하여 회전된다.
4. 발명의 중요한 용도
현상액과 같은 처리용액으로 LCD기판 또는 반도체웨이퍼와 같은 피처리기판의 표면을 처리하는데 사용됨.

公开(公告)号：KR100563698B1

公开(公告)日：2006-03-28

申请号：KR1020050052340

申请日：2005-06-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 표면의 둘레가장자리부에 대하여 용제를 내뿜어, 이에 따라 기판표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막(薄膜)을 제거하는 박막 제거장치로서, 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하여 배치되는 용제토출부재(63,64)와, 이 용제토출부재내에 설치되어, 용제를 대기시키기 위한 용제대기부(65)와, 상기 용제토출부재의 상기 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하는 면으로 개구하여, 상기 용제대기부와 연이어 통하는 토출구멍(67)과, 상기 용제토출부재의 상기 용제대기부에 대하여 용제를 소정의 압력으로 공급하고, 그에 따라 상기 토출구멍으로부터 용제를 토출시켜 상기 기판 표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막을 제거하는 용제공급부(71,73)를 가진다.

公开(公告)号：KR100549879B1

公开(公告)日：2006-02-06

申请号：KR1020050005393

申请日：2005-01-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사또후미오 ,  사카이미쯔히로 ,  쯔가모또다게시 ,  혼다요이찌 ,  야마구찌기요미쯔 ,  모또다기미오 ,  마쯔다요시다가 ,  사다데쯔야 ,  다테야마기요히사

IPC: G02F1/13

Abstract: 본 발명은 물체가 처리되는 경우 외부로 유동하거나 외부로 비산하는 처리액을 회수하기 위한 용기와, 세정액을 상기 용기내로 공급함으로써 용기의 내부 벽 표면을 세정하기 위한 세정 수단과, 용기의 내부 벽 표면이 세정 수단에 의해 세정되는 경우 용기로부터 배출된 액체를 회수하고, 회수된 액체를 세정 수단으로 공급하기 위한 순환 시스템을 포함하는 처리 장치를 제공한다.

Abstract translation: 清洁装置技术领域本发明涉及一种清洁装置，用于在处理物体时通过将清洁液供应到容器中来清洁容器的内壁表面， 还有一种循环系统，用于当清洁装置清洁容器时回收从容器中排出的液体并将回收的液体供应到清洁装置。

公开(公告)号：KR100513436B1

公开(公告)日：2005-09-07

申请号：KR1019990047896

申请日：1999-11-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와구치요시히로 ,  다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 표면의 둘레가장자리부에 대하여 용제를 내뿜어, 이에 따라 기판표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막(薄膜)을 제거하는 박막 제거장치로서, 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하여 배치되는 용제토출부재(63,64)와, 이 용제토출부재내에 설치되어, 용제를 대기시키기 위한 용제대기부(65)와, 상기 용제토출부재의 상기 기판 표면의 둘레가장자리부에 대향하는 면으로 개구하여, 상기 용제대기부와 연통하는 토출구멍(67)과, 상기 용제토출부재의 상기 용제대기부에 대하여 용제를 소정의 압력으로 공급하고, 그에 따라 상기 토출구멍으로부터 용제를 토출시켜 상기 기판 표면의 둘레가장자리부를 덮는 불필요한 박막을 제거하는 용제공급부(71,73)를 가진다.