公开(公告)号：KR101376631B1

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：KR1020130014512

申请日：2013-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아라타케히데마사

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 피처리체 근방 및 상방의 처리액 분위기를 효율적으로 배출하는 것을 목적으로 한다.
액 처리 장치는 피처리체(W)를 처리한다. 액 처리 장치는, 외부 용기(1)와, 외부 용기(1) 내에 배치되고 피처리체(W)를 지지하는 지지부(30a)와, 지지부(30a)에 의해 지지된 피처리체(W)를 회전시키는 회전 구동 기구(60)와, 피처리체(W)에 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구와, 피처리체(W)의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치되며 지지부(30a)와 함께 회전 가능한 회전컵(11)을 구비하고 있다. 회전컵(11)의 위쪽에는, 회전컵(11)과 함께 회전하는 회전 배기컵(10)이 마련되어 있다. 배출 기구는, 회전컵(11)과 회전 배기컵(10)에 의해 안내된 처리액 분위기를 배출한다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是有效地排出待处理对象附近和上方的处理液的气氛。

公开(公告)号：KR101274824B1

公开(公告)日：2013-06-13

申请号：KR1020090067720

申请日：2009-07-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아라타케히데마사

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 피처리체 근방 및 상방의 처리액 분위기를 효율적으로 배출하는 것을 목적으로 한다.
액 처리 장치는 피처리체(W)를 처리한다. 액 처리 장치는, 외부 용기(1)와, 외부 용기(1) 내에 배치되고 피처리체(W)를 지지하는 지지부(30a)와, 지지부(30a)에 의해 지지된 피처리체(W)를 회전시키는 회전 구동 기구(60)와, 피처리체(W)에 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구와, 피처리체(W)의 둘레 가장자리 바깥쪽에 배치되며 지지부(30a)와 함께 회전 가능한 회전컵(11)을 구비하고 있다. 회전컵(11)의 위쪽에는, 회전컵(11)과 함께 회전하는 회전 배기컵(10)이 마련되어 있다. 배출 기구는, 회전컵(11)과 회전 배기컵(10)에 의해 안내된 처리액 분위기를 배출한다.

公开(公告)号：KR101371572B1

公开(公告)日：2014-03-10

申请号：KR1020090044101

申请日：2009-05-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아라타케히데마사 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 본 발명은, 제1 처리액 및 제2 처리액을 확실하게 분리하여 회수하고, 피처리 기판 상에 워터마크나 파티클 등의 결함이 생기는 것을 확실하게 방지하는 것을 과제로 한다.
액처리 장치(1)는, 기판 유지 기구(20)와, 제1 처리액 및 제2 처리액을 공급하는 처리액 공급 기구(30)와, 회전 컵(61)과, 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)에서 받은 제1 처리액 및 제2 처리액을 각각 배출하는 외측 배출부(15) 및 내측 배출부(16)와, 외측 배출부(15)를 개폐하는 배출부 개폐 기구(34)를 구비하고 있다. 회전 컵(61)의 제1 받이면(61a)의 하단(61b)은, 기판 유지 기구(20)에 의해서 유지된 피처리 기판(W)보다 아래쪽으로 연장되어 있다. 배출부 개폐 기구(34)가 상승한 경우, 제1 처리액은 외측 배출부(15)를 향해서 배출되고, 배출부 개폐 기구(34)가 하강한 경우, 제2 처리액은 내측 배출부(16)를 향해서 배출된다.

Abstract translation: 本发明的目的是可靠地分离和回收第一处理溶液和第二处理溶液，以可靠地防止待处理的基板上的诸如水印和颗粒之类的缺陷。

公开(公告)号：KR1020100018456A

公开(公告)日：2010-02-17

申请号：KR1020090067720

申请日：2009-07-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아라타케히데마사

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A liquid treatment apparatus is provided to discharge processed liquid atmosphere in the vicinity of and on the top of a processed object by arranging a rotating cup and a rotating discharge cup capable of rotating on the peripheral of the processed object. CONSTITUTION: A support part(30a) is arranged in a outer container and supports a processed object(W). The rotation-driving unit(60) rotates the processed object supported by the supporting part. A processing liquid injection unit(40) injects a processing solution into the processed object. A rotating cup(11) is arranged in a peripheral of the processed object and is rotated with the supporting part. A rotating discharge cup(10) is arranged on the upper side of the rotating cup and rotates with the rotating cup. A discharge unit(25) discharges the process liquid atmosphere guided by the rotating cup and the rotating discharge cup.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置，用于通过设置旋转杯和能够在被处理物体的周边旋转的旋转放电杯来排出被处理物体附近及其顶部的处理液体气氛。 构成：支撑部件（30a）布置在外部容器中并且支撑处理过的物体（W）。 旋转驱动单元（60）使由支撑部支撑的被处理物旋转。 处理液注入单元（40）将处理溶液注入到处理对象物中。 旋转杯（11）布置在处理物体的周边并与支撑部分一起旋转。 旋转放电杯（10）布置在旋转杯的上侧并与旋转杯一起旋转。 排出单元（25）排出由旋转杯和旋转排出杯引导的处理液体气氛。

公开(公告)号：KR1020130023320A

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：KR1020130014512

申请日：2013-02-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아라타케히데마사

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/67051 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A liquid treatment apparatus is provided to efficiently discharge liquid near a wafer and on the upper side of the wafer by including a rotary discharge cup which rotates with a rotary cup. CONSTITUTION: A support plate(30) includes a support unit(30a) which supports a wafer(W). A rotary shaft(31) is downwardly extended from the support plate. A rotary driving device(60) rotates a wafer supported by the support unit. A rotary discharge cup is formed on the upper side of a rotary cup and rotates with the rotary cup. A liquid supply unit supplies liquid to the wafer and includes a surface liquid supply unit(41), a rear liquid supply unit(42), and a liquid supply source(40). [Reference numerals] (AA) To the outside; (BB) To 41; (CC) To 28

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置，用于通过包括旋转杯旋转的旋转放电杯来有效地排出晶片附近和晶片上侧的液体。 构成：支撑板（30）包括支撑晶片（W）的支撑单元（30a）。 旋转轴（31）从支撑板向下延伸。 旋转驱动装置（60）旋转由支撑单元支撑的晶片。 旋转放电杯形成在旋转杯的上侧，并与旋转杯一起旋转。 液体供应单元向晶片供应液体，包括表面液体供应单元（41），后部液体供应单元（42）和液体供应源（40）。 （附图标记）（AA）到外面; （BB）至41; （CC）至28

公开(公告)号：KR1020090126181A

公开(公告)日：2009-12-08

申请号：KR1020090044101

申请日：2009-05-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아라타케히데마사 ,  이토노리히로

IPC: H01L21/306

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: PURPOSE: A liquid treatment apparatus, liquid treatment method and storage medium are provided to divide the first processing liquid and the second processing liquid. CONSTITUTION: The process liquid supply mechanism(30) supplies the first processing liquid and the second processing liquid. The outside exhausting part(15) and inner side exhausting part(16) respectively discharge the first processing liquid and the second processing liquid received in the first receiving surface(61a) of the rotating cup(61). Exhausting part opening and closing device(34) open and close the outside exhausting part. In case that exhausting part opening and closing device rise, the first processing liquid is exhausted towards the outside exhausting part. In case that exhausting part opening and closing device descend, the second processing liquid is exhausted towards the inner side exhausting part.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置，液体处理方法和存储介质，以分割第一处理液和第二处理液。 构成：处理液供给机构（30）供给第一处理液和第二处理液。 外部排气部15和内侧排气部16分别排出容纳在旋转杯61的第一容纳面61a中的第一处理液和第二处理液。 排气部开闭装置（34）打开和关闭外部排气部。 在排气部开闭装置上升的情况下，第一处理液朝向外侧排气部排出。 在排气部开闭装置下降的情况下，第二处理液向内侧排气部排出。