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公开(公告)号:KR100513438B1
公开(公告)日:2005-09-07
申请号:KR1020050044528
申请日:2005-05-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/67046 , Y10S134/902
Abstract: 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.
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公开(公告)号:KR1020050054493A
公开(公告)日:2005-06-10
申请号:KR1020050044528
申请日:2005-05-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/67046 , Y10S134/902
Abstract: 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.
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公开(公告)号:KR100530700B1
公开(公告)日:2006-04-06
申请号:KR1019980033458
申请日:1998-08-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.
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公开(公告)号:KR1019990023678A
公开(公告)日:1999-03-25
申请号:KR1019980033458
申请日:1998-08-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.
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