公开(公告)号：KR100619383B1

公开(公告)日：2006-09-06

申请号：KR1019990010995

申请日：1999-03-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이시하라아키라 ,  요네미즈아키라 ,  미야자키다카노리

IPC: H01L21/304

Abstract: 스크러브 세정장치는, 처리할 기판을 실질적으로 수평으로 유지하는 스핀척과, 이 스핀척상의 기판에 세정액을 공급하는 노즐과, 승강 및 수평이동 가능하게 지지된 아암과, 이 아암의 선단부에 설치된 출력축과, 이 출력축에 직접 또는 간접으로 연결되고, 스핀척상의 기판에 접촉하여 스크러브하는 스폰지브러쉬와, 출력축과 함께 스폰지브러쉬를 아래쪽으로 이동시켜, 스핀척상의 기판에 스폰지브러쉬를 가압하는 가압기구와, 출력축으로 걸어맞춤가능하게 가압기구의 위쪽에 설치되고, 출력축으로 걸어맞춤하여 스폰지브러쉬를 직접회전시키는 모터를 구비한다.

公开(公告)号：KR100513438B1

公开(公告)日：2005-09-07

申请号：KR1020050044528

申请日：2005-05-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마사토시 ,  미야자키다카노리 ,  다니야마히로키 ,  아리히사도시카즈

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67046 ,  Y10S134/902

Abstract: 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.

公开(公告)号：KR100251874B1

公开(公告)日：2000-04-15

申请号：KR1019930023798

申请日：1993-11-10

Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 ,  도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  미야자키다카노리 ,  무카이에이이치 ,  가미카와유우지 ,  다나카유지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67057 ,  Y10S134/902 ,  Y10S206/832

Abstract: 기판세정장치는 세정처리액이 수용된 처리조와, 반도체 웨이퍼를 유지하기 위한 제1기판유지부를 구비하며, 웨이퍼를 유지하여 처리조로 이송하는 척기구와, 웨이퍼를 유지하기 위한 제2기판유지부를 구비하고, 척기구로부터 기판을 넘겨받아 기판을 세정 처리조로 침적하는 보오트기구를 가지며, 제2기판 유지부는 내식성 및 내열성을 가지는 홈이 형성되며, 기판과 동등하거나 부드럽고, 내식성 및 내열성을 가지는 합성수지로 만들어진 받이부재를 가진다.

公开(公告)号：KR1020110137719A

公开(公告)日：2011-12-23

申请号：KR1020110037383

申请日：2011-04-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카모리미츠노리 ,  우치다노리타카 ,  오리이다케히코 ,  미야자키다카노리 ,  모우리노부히코

IPC: H01L21/304 ,  B08B7/04 ,  B24B29/00 ,  B24B51/00

CPC classification number: B24B37/042

Abstract: PURPOSE: A substrate back side grinding apparatus, a substrate back side grinding system, a substrate back side grinding method and a recording medium recording the substrate back side grinding program are provided to prevent the degradation of substrate when grinding the rear side of substrate. CONSTITUTION: A substrate back side grinding apparatus comprises a substrate grinding unit(16,17) and a control unit. The substrate grinding unit grinds the back side of a substrate(5). The control unit controls the substrate grinding unit. The control unit controls the driving of the substrate grinding unit according to the information about treatment in the process before substrate back side grinding process. The substrate grinding unit has various kinds. A cleaning unit is equipped for cleaning the back side of the substrate.

Abstract translation: 目的：提供基板背面研磨装置，基板背面研磨系统，基板背面研磨方法和记录基板背面研磨程序的记录介质，以防止在研磨基板的背面时基板的劣化。 构成：基板背面研磨装置包括基板研磨单元（16,17）和控制单元。 基板研磨单元研磨基板（5）的背面。 控制单元控制基板研磨单元。 控制单元根据在基板背面研磨处理之前的处理的信息来控制基板研磨单元的驱动。 基板研磨单元具有各种种类。 清洁装置用于清洁基板的背面。

公开(公告)号：KR1019930018666A

公开(公告)日：1993-09-22

申请号：KR1019930002709

申请日：1993-02-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 미야자키다카노리 ,  사쿠라이히로시

IPC: H01L21/304

Abstract: 처리액을 저장하는 여러 개의 처리탱크와, 피세정물을 반송하여 상기 처리 탱크 내의처리액에 침지하는 반송수단과, 상기 처리 탱크로부터의 폐액을 희석하기 위한 희석액을 배관계를 통하여 공급하는 희석액 공급수단과, 희석된 폐액을 저장하기 위한 폐액 저장 수단을 구비한 세정 장치에 있어서, 폐액 저장 수단에 이 폐액 저장 수단내의 폐액의온도를 검지하는 온도 측정 수단을 설치하며, 이 온도 측정 수단의 온도 측정 결과에 따라서 상기 희석액 공급 수단으로 부터의 희석액 공급량을 온도제어 장치에 의하여 제어하도록 한 것을 특징으로 하는 세정장치에 관한 것이다. 또 배관게의 배관용 죠인트의 고정장치를 설치한다. 이와 같이 구성하므로서 처리 탱크의 파손등의 사고가 발생한 경우에 있어서도, 폐액 저장 수단내의 폐액의 온도가 이상 상승하는 것을 미연에 방지할수 있다. 또 폐액 저장 수단내로부터 공장의 폐액계에 고온의 약액이 유출하는 것을 방지할 수가 있고, 종래에 비하여 작업의 안정성 향상을 도모 할수 있다. 또, 고정장치에 의하여 배관계의 맥동에 의한 배관용 죠인트의 느슨함을 방지할 수 있다.

公开(公告)号：KR101658250B1

公开(公告)日：2016-09-22

申请号：KR1020110037383

申请日：2011-04-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카모리미츠노리 ,  우치다노리타카 ,  오리이다케히코 ,  미야자키다카노리 ,  모우리노부히코

IPC: H01L21/304 ,  B08B7/04 ,  B24B29/00 ,  B24B51/00

CPC classification number: B24B37/042

Abstract: 본발명은기판의이면을연마하는것에따른작업처리량의저감이나기판의열화를방지하고, 또한, 연마부재의교환에요구되는노동력이나시간이나비용을저감하는것을과제로한다. 본발명에서는, 기판(5)의이면을연마하는기판이면연마장치(9), 기판이면연마장치(9)를갖는기판이면연마시스템(1), 기판이면연마장치(9)에서이용하는기판이면연마방법이나기판이면연마프로그램에있어서, 기판(5)의이전공정에서의처리에관한정보에따라기판(5)의이면을기판연마수단(16, 17)으로연마하는것으로하였다. 또한, 기판(5)의이전공정에서의처리에관한정보에기초하여결정된연마범위를기판연마수단(16, 17)으로연마하는것으로하였다. 또한, 기판(5)의이전공정에서의처리에관한정보에기초하여결정된어느하나또는모든기판연마수단(16, 17)을이용하여연마하는것으로하였다.

公开(公告)号：KR100613919B1

公开(公告)日：2006-08-18

申请号：KR1020000042704

申请日：2000-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로세게이조 ,  세키구치겐지 ,  이노우에도모히데 ,  미야자키다카노리 ,  우에노긴야

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67046 ,  B08B1/04 ,  B08B3/04 ,  B08B2203/0288 ,  Y10S134/902

Abstract: 반도체 웨이퍼와 같은 기판의 세정장치에 있어서, 그 세정구(24)의 헤드(66)에, 순수(純水)공급로(60)로부터 순수가 공급되는 투액성의 합성수지제 코어재 (68)가 설치된다. 코어재(68)의 아래면에는 평면부(72)가 형성되고, 코어재(68)의 바깥면을 피복하도록 다공성 수지시트(69)가 접합된다. 세정구(24)를, 스핀회전중인 기판(W)의 면에 대하여 누르는 로드(31)에 대해 상하방향으로 추력(推力)을 부여하는 에어베어링 실린더(30)가 설치되고, 로드(31)의 내부에 순수공급로 (60)가 마련된다. 순수공급로(60)로부터 공급된 순수는, 코어재(68)와 다공성 수지시트(69)를 투과하여 헤드(66) 밖으로 보내지고, 헤드(66)와 기판(W)의 면 사이에 순수의 유동막이 형성된다. 따라서 기판의 오염이나 손상이 방지되고, 헤드의 형상이 흐트러지지 않는다.

公开(公告)号：KR1020050054493A

公开(公告)日：2005-06-10

申请号：KR1020050044528

申请日：2005-05-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마사토시 ,  미야자키다카노리 ,  다니야마히로키 ,  아리히사도시카즈

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67046 ,  Y10S134/902

Abstract: 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.

公开(公告)号：KR100530700B1

公开(公告)日：2006-04-06

申请号：KR1019980033458

申请日：1998-08-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마사토시 ,  미야자키다카노리 ,  다니야마히로키 ,  아리히사도시카즈

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판의 양면세정장치는, 적어도 기판의 중앙부와는 접촉하지 않고 기판을 유지하는 스핀척(20,221)과, 이 스핀척에 연결되어 스핀척에 회전구동력을 전달하는 중공축(27,223)을 구비한 모터(26,224)와, 스핀척에 유지된 기판의 표면을 세정처리하는 표면세정기구(24,25,265)와, 스핀척에 유지된 기판의 이면을 세정처리하는 이면세정기구(30,31,46,66,70,73,230)를 구비한다. 이면세정기구(30,31,46,66,70, 73,230)는, 중공축(27,223)의 중공부(27a,223a)를 통하여 스핀척에 유지된 기판의 이면에 대면하여 배치된다.

公开(公告)号：KR1020010015426A

公开(公告)日：2001-02-26

申请号：KR1020000042704

申请日：2000-07-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로세게이조 ,  세키구치겐지 ,  이노우에도모히데 ,  미야자키다카노리 ,  우에노긴야

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67046 ,  B08B1/04 ,  B08B3/04 ,  B08B2203/0288 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A substrate cleaning device, a substrate cleaning system, and a method for the same are provided to protect a substrate from a friction or a scratch and clean efficiently the substrate by maintaining an initial contact pressure. CONSTITUTION: A core material(68) for supplying pure water from a pure water supply path(60) is installed at a head(66) of a cleaning device(24). A plane portion(72) is formed at a lower portion of the core material(68). An outer face of the core material(68) is coated by a porous resin sheet(69). A rod(31) presses the cleaning device(24) to a substrate. An air bearing cylinder(30) is installed to transmit power to the rod(31). The pure water supply path(60) is formed inside the rod(31). The pure water supplied from the pure water supply path(60) is passed through the core material(68) and the porous resin sheet(69). A floating layer of the pure water is formed between the head(66) and the substrate.

Abstract translation: 目的：提供基板清洁装置，基板清洁系统及其方法，以保护基板免受摩擦或划痕，并通过维持初始接触压力有效地清洁基板。 构成：用于从纯净水供应路径（60）供应纯净水的芯材（68）安装在清洁装置（24）的头部（66）上。 在芯材（68）的下部形成有平面部（72）。 芯材（68）的外表面被多孔树脂片（69）涂覆。 杆（31）将清洁装置（24）按压到基板。 安装空气轴承缸（30）以将动力传递到杆（31）。 纯水供给路径（60）形成在杆（31）的内部。 从纯水供给路径（60）供给的纯水通过芯材（68）和多孔树脂片（69）。 在头部（66）和基底之间形成有纯水的漂浮层。