公开(公告)号：KR1020080109747A

公开(公告)日：2008-12-17

申请号：KR1020087021633

申请日：2007-08-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아사쿠라겐타로

IPC: G01K1/14 ,  G01K7/02 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

CPC classification number: G01K13/00 ,  G01K7/02 ,  F16F2230/08 ,  G01K1/10 ,  G01K1/146

Abstract: A temperature measuring device (5) is provided with a sheathed thermocouple (50). The sheathed thermocouple has a leading end section (50a) movable in an advancing/retracing direction by following a susceptor (4), and a buffer section (50b) extending to the outside of a chamber (1) to allow movement of the leading end section (50a). The temperature measuring device is also provided with a compression coil spring (53) for urging the leading end section (50a) in a direction to press the leading end section to the susceptor (4). A hermetically sealing member (51) storing the compression coil spring (53) and the buffer section (50b) is adhered to the bottom wall (19) of the chamber (1) so that inside the hermetically sealed member communicates with the inside of the chamber (1). The end portion of the buffer section (50b) extends to the external of the hermetically sealed member (51), and a connecting section (55) is formed by being welded to a part where the end portion of the buffer section (50b) of the hermetically sealed member (51) extends. ® KIPO & WIPO 2009

Abstract translation: 温度测量装置（5）设有护套热电偶（50）。 护套热电偶具有通过跟随基座（4）可在前进/后退方向上移动的前端部分（50a）和延伸到腔室（1）外部的缓冲部分（50b），以允许前端 （50a）。 温度测量装置还设置有压缩螺旋弹簧（53），用于沿着将前端部压到基座（4）的方向推压前端部分（50a）。 存储压缩螺旋弹簧（53）和缓冲部（50b）的气密密封部件（51）被粘接在室（1）的底壁（19）上，使得在气密密封部件的内部与 室（1）。 缓冲部分（50b）的端部延伸到密封构件（51）的外部，并且连接部分（55）通过焊接到缓冲部分（50b）的端部的部分 密封构件（51）延伸。 ®KIPO＆WIPO 2009

公开(公告)号：KR100754007B1

公开(公告)日：2007-09-03

申请号：KR1020017010632

申请日：2000-12-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아사쿠라겐타로 ,  시미즈다카야

IPC: H01L21/205

Abstract: 본 발명은 진공흡인 가능한 처리용기와, 상기 처리용기 내에 설치되고, 피처리체가 재치될 수 있는 재치대를 구비하고 있다. 링형상의 가이드링부재가, 상기 재치대의 상방에서, 상기 재치대 상에 재치되는 피처리체의 바깥둘레를 둘러싸도록 배치되고, 상기 피처리체의 상기 재치대 상으로의 재치시에 상기 피처리체를 상기 재치대 상에 안내하도록 되어 있다. 상기 가이드링부재의 내주측 하면과 재치대의 상면과의 사이에, 파티클 발생 방지공간이 형성되어 있다.

Abstract translation: 真空处理装置技术领域本发明涉及一种真空处理装置，其包括能够进行真空处理的处理容器和设置在该处理容器内且能够载置在该处理容器上的载置台。 环形导向环构件设置在安装台上方以围绕放置在安装台上的工件的外周，并且当工件安装在安装台上时， 用户被引导到目标。 在引导环部件的内周侧下表面与工作台的上表面之间形成有防止产生颗粒的空间。

公开(公告)号：KR1020010102302A

公开(公告)日：2001-11-15

申请号：KR1020017010632

申请日：2000-12-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아사쿠라겐타로 ,  시미즈다카야

IPC: H01L21/205

Abstract: 본 발명은 진공상태 가능한 처리용기와, 상기 처리용기 내에 설치되고, 피처리체가 재치될 수 있는 재치대를 구비하고 있다. 링형상의 가이드링부재가, 상기 재치대의 상방에서, 상기 재치대 상에 재치되는 피처리체의 바깥둘레를 둘러싸도록 배치되고, 상기 피처리체의 상기 재치대 상으로의 재치시에 상기 피처리체를 상기 재치대 상에 안내하도록 되어 있다. 상기 가이드링부재의 내주측 하면과 재치대의 상면과의 사이에, 파티클 발생 방지공간이 형성되어 있다.

公开(公告)号：KR100951148B1

公开(公告)日：2010-04-07

申请号：KR1020060094970

申请日：2006-09-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시마무라아키노리 ,  아사쿠라겐타로

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C8/00 ,  C23C10/00 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4586 ,  H01L21/68742

Abstract: 본 발명의 과제는 기판의 탑재 기구에 있어서의 탑재대에 형성된 핀 관통 삽입 구멍과 이 핀 관통 삽입 구멍내를 승강하여 탑재대에 대하여 기판의 주고받음을 실행하는 리프터 핀의 간극에, 처리 가스의 공급에 따른 반응 생성물이 퇴적되는 것을 억제하는 것이다. 핀 관통 삽입 구멍의 하단부의 개구부에 내측으로 환상으로 돌출하여 형성된 환상 돌출부와, 상기 리프터 핀에 형성되어, 상기 리프터 핀이 하강했을 때에 환상 돌출부에 지지되어 상기 개구부를 막는 직경 확대부를 구비하도록 기판의 탑재 기구를 구성한다. 기판이 탑재된 탑재대의 하방측으로 돌아 들어온 처리 가스는, 핀 관통 삽입 구멍의 하단부로부터 진입하기 어려워져, 반응 생성물이 리프터 핀과 핀 관통 삽입 구멍 사이의 간극에 퇴적하는 것을 억제할 수 있고, 따라서 리프터 핀의 승강이 저해되는 것을 억제할 수 있다.

公开(公告)号：KR100854804B1

公开(公告)日：2008-08-27

申请号：KR1020077005941

申请日：2004-04-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아사쿠라겐타로

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/68742 ,  H01L21/67069

Abstract: 피처리 기판(W)에 반도체 처리를 하기 위한 장치는 피처리 기판의 운반을 보조하기 위해 탑재대(38)에 배치된 승강 기구(48)를 포함한다. 승강 기구는 피처리 기판을 지지하여 승강시키는 리프터 핀(51)과, 리프터 핀의 승강 동작을 안내하는 안내 구멍(49)을 포함한다. 안내 구멍은 탑재대를 관통하여 상부면으로부터 하부면으로 연장되는 주 구멍부(49a)와, 주 구멍부에 대응하여 탑재대의 하부면으로부터 하방으로 돌출하는 연장 슬리브(66)내에 연장되는 연장 구멍부(49b)를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020080077941A

公开(公告)日：2008-08-26

申请号：KR1020080064930

申请日：2008-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시마무라아키노리 ,  아사쿠라겐타로

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C8/00 ,  C23C10/00 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4586 ,  H01L21/68742

Abstract: A substrate loading mechanism and a substrate processing apparatus are provided to prevent deposits generated from the process gas from accumulating at the gap between a lifter-pin and a sleeve by forming a circular protrusion is formed at an opening part of the lower end of the sleeve. A substrate placing mechanism comprises a placing stage, a plurality of lifter-pins(61), an elevating member, and an elevating mechanism. The placing stage is provided to place a substrate to be processed thereon in a processing container in which a processing atmosphere is formed by a process gas. The placing stage includes a plurality of pin-inserting holes. The lifter-pins are respectively inserted into and vertically movable in each of the plurality of pin-inserting holes. The elevating member supports the plurality of lifter-pins. The elevating mechanism causes the plurality of lifter-pins to vertically move via the elevating member. Each of the plurality of pin-inserting holes has a circular protrusion(56) at an opening part(53) of a lower end thereof. The circular protrusion protrudes inwardly and circularly. Each of the plurality of lifter-pins has a diameter-increasing part(62) that is configured to be supported by the circular protrusion so as to close the opening part when a corresponding lifter-pin is caused to move down.

Abstract translation: 提供了基板装载机构和基板处理装置，以防止在套筒下端的开口部分处形成圆形突起，从而在工作气体产生的沉积物在提升销和套筒之间的间隙处积聚 。 基板放置机构包括放置台，多个提升销（61），升降构件和升降机构。 提供放置台以将待处理的基板放置在其中通过处理气体形成处理气氛的处理容器中。 放置台包括多个销插入孔。 所述升降销分别插入并在所述多个销插入孔中的每一个中垂直移动。 升降构件支撑多个升降销。 升降机构使多个升降销经由升降部件垂直移动。 多个插销孔中的每一个在其下端的开口部分（53）处具有圆形突出部（56）。 圆形突起向内圆周方向突出。 多个提升销中的每一个都具有直径增大部分（62），该直径增加部分被构造成由圆形突起支撑，以便在使相应的升降销向下移动时闭合开口部分。

公开(公告)号：KR1020070049215A

公开(公告)日：2007-05-10

申请号：KR1020077005941

申请日：2004-04-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아사쿠라겐타로

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/68742 ,  H01L21/67069

Abstract: 피처리 기판(W)에 반도체 처리를 하기 위한 장치는 피처리 기판의 운반을 보조하기 위해 탑재대(38)에 배치된 승강 기구(48)를 포함한다. 승강 기구는 피처리 기판을 지지하여 승강시키는 리프터 핀(51)과, 리프터 핀의 승강 동작을 안내하는 안내 구멍(49)을 포함한다. 안내 구멍은 탑재대를 관통하여 상부면으로부터 하부면으로 연장되는 주 구멍부(49a)와, 주 구멍부에 대응하여 탑재대의 하부면으로부터 하방으로 돌출하는 연장 슬리브(66)내에 연장되는 연장 구멍부(49b)를 구비한다.

公开(公告)号：KR100909499B1

公开(公告)日：2009-07-27

申请号：KR1020080064930

申请日：2008-07-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시마무라아키노리 ,  아사쿠라겐타로

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C8/00 ,  C23C10/00 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4586 ,  H01L21/68742

Abstract: 본 발명의 과제는 기판의 탑재 기구에 있어서의 탑재대에 형성된 핀 관통 삽입 구멍과 이 핀 관통 삽입 구멍내를 승강하여 탑재대에 대하여 기판의 주고받음을 실행하는 리프터 핀의 간극에, 처리 가스의 공급에 따른 반응 생성물이 퇴적되는 것을 억제하는 것이다. 핀 관통 삽입 구멍의 하단부의 개구부에 내측으로 환상으로 돌출하여 형성된 환상 돌출부와, 상기 리프터 핀에 형성되어, 상기 리프터 핀이 하강했을 때에 환상 돌출부에 지지되어 상기 개구부를 막는 직경 확대부를 구비하도록 기판의 탑재 기구를 구성한다. 기판이 탑재된 탑재대의 하방측으로 돌아 들어온 처리 가스는, 핀 관통 삽입 구멍의 하단부로부터 진입하기 어려워져, 반응 생성물이 리프터 핀과 핀 관통 삽입 구멍 사이의 간극에 퇴적하는 것을 억제할 수 있고, 따라서 리프터 핀의 승강이 저해되는 것을 억제할 수 있다.

Abstract translation: 本发明是一种基板载置机构，其特征在于，具备：载置台，其设置成将载置基板载置在利用处理气体形成处理气氛的处理容器内，该载置台具有多个销插入孔; 多个升降销，所述升降销中的每一个插入所述多个销插入孔中的每一个中并且可竖直地移动; 支撑所述多个升降销的升降部件; 以及使升降销经由升降部件升降的升降机构。 多个销插入孔中的每一个在其下端的开口部分处具有圆形突起。 圆形突起向内和圆形突出。 多个升降销中的每一个具有直径增大部分，直径增大部分被构造成当相应的升降销向下移动时由圆形突起支撑以封闭开口部分。

公开(公告)号：KR100770463B1

公开(公告)日：2007-10-26

申请号：KR1020057019889

申请日：2004-04-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아사쿠라겐타로

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/68742 ,  H01L21/67069

Abstract: 피처리 기판(W)에 반도체 처리를 하기 위한 장치는 피처리 기판의 운반을 보조하기 위해 탑재대(38)에 배치된 승강 기구(48)를 포함한다. 승강 기구는 피처리 기판을 지지하여 승강시키는 리프터 핀(51)과, 리프터 핀의 승강 동작을 안내하는 안내 구멍(49)을 포함한다. 안내 구멍은 탑재대를 관통하여 상부면으로부터 하부면으로 연장되는 주 구멍부(49a)와, 주 구멍부에 대응하여 탑재대의 하부면으로부터 하방으로 돌출하는 연장 슬리브(66)내에 연장되는 연장 구멍부(49b)를 구비한다.

Abstract translation: 对于靶底物（W）上的半导体过程的装置包括设置在安装台38，以协助在所述基板的所述处理的升降机构（48）。 升降机构包括用于引导所述提升的升降销的垂直运动和支承被处理基板的升降销51和导向孔49。 导孔是延伸在主孔部（49A）延伸孔部分和所述延伸套筒66，其响应于从通过所述工作台从所述顶面在所述底表面延伸的载置台底表面向下突出的主孔部 和（49B）。

公开(公告)号：KR1020070037363A

公开(公告)日：2007-04-04

申请号：KR1020060094970

申请日：2006-09-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시마무라아키노리 ,  아사쿠라겐타로

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C8/00 ,  C23C10/00 ,  C23C16/4401 ,  C23C16/4586 ,  H01L21/68742

Abstract: 본 발명의 과제는 기판의 탑재 기구에 있어서의 탑재대에 형성된 핀 관통 삽입 구멍과 이 핀 관통 삽입 구멍내를 승강하여 탑재대에 대하여 기판의 주고받음을 실행하는 리프터 핀의 간극에, 처리 가스의 공급에 따른 반응 생성물이 퇴적되는 것을 억제하는 것이다. 핀 관통 삽입 구멍의 하단부의 개구부에 내측으로 환상으로 돌출하여 형성된 환상 돌출부와, 상기 리프터 핀에 형성되어, 상기 리프터 핀이 하강했을 때에 환상 돌출부에 지지되어 상기 개구부를 막는 직경 확대부를 구비하도록 기판의 탑재 기구를 구성한다. 기판이 탑재된 탑재대의 하방측으로 돌아 들어온 처리 가스는, 핀 관통 삽입 구멍의 하단부로부터 진입하기 어려워져, 반응 생성물이 리프터 핀과 핀 관통 삽입 구멍 사이의 간극에 퇴적하는 것을 억제할 수 있고, 따라서 리프터 핀의 승강이 저해되는 것을 억제할 수 있다.