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公开(公告)号：KR101822936B1
公开(公告)日：2018-01-29
申请号：KR1020140128270
申请日：2014-09-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Abstract: 간이한설비로, 기판상의유기재료막으로부터용매를단시간에효율좋게제거한다. 건조장치(100)의시트지지부(5)는, 처리용기(1) 내에서기판(S) 상에형성된유기재료막으로부터휘발한용매를흡착하는가요성의용매흡착시트(200)를지지한다. 시트지지부(5)는, 재치대(3) 및그에지지된기판(S)에대하여, 용매흡착시트(200)를이간시킨상태로배치한다. 시트지지부(5)는, 미사용의용매흡착시트(200)를감은제 1 롤보지부(51A)와, 처리용기(1) 내의분위기에노출한용매흡착시트(200)를감는제 2 롤보지부(51B)를구비하고있다.
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公开(公告)号：KR100739890B1
公开(公告)日：2007-07-13
申请号：KR1020077001009
申请日：2004-04-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205 , H01L21/02
CPC classification number: H01J37/32449 , H01J37/3244 , H01L21/67069 , H01L21/67103 , H01L21/67126
Abstract: 플라즈마 발생부와 피처리기판을 내부에 수용하는 챔버를 갖는 플라즈마처리장치의 상기 플라즈마발생부와 상기 챔버와의 사이에 마련되고, 상기 플라즈마발생부와 상기 챔버로 형성되는 처리공간에 처리가스를 도입하는 처리가스도입기구에 있어서, 상기 플라즈마발생부를 지지함과 동시에 상기 챔버에 놓이고, 처리가스를 상기 처리공간에 도입하는 가스도입로가 형성되고, 그 중앙에 상기 처리공간의 일부를 이루는 구멍부를 갖는 가스도입베이스와, 상기 가스도입베이스의 상기 구멍부에 분리하여 가능하게 장착되고, 상기 가스도입로로부터 상기 처리공간에 연통하여 상기 처리가스를 상기 처리공간에 토출하는 복수의 가스토출구멍을 갖는 대략 링형상을 이루는 가스도입플레이트를 갖는 처리가스도입기구가 제공된다.
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公开(公告)号：KR1020070012573A
公开(公告)日：2007-01-25
申请号：KR1020077001009
申请日：2004-04-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205 , H01L21/02
CPC classification number: H01J37/32449 , H01J37/3244 , H01L21/67069 , H01L21/67103 , H01L21/67126
Abstract: A plasma processing device having a plasma generation unit and a chamber housing a substrate to be processed thereinside, wherein a process gas introducing mechanism, which is provided between the plasma generation unit and the chamber to introduce a process gas into a process space defined by the plasma generation unit and the chamber, is formed with a gas introducing path that supports a plasma generation unit, is mounted on the chamber and introduces a process gas into a process space, and which has a gas introducing base having at the center thereof a hole forming part of the process space and an almost annular gas introducing plate removably attached to the hole of the gas introducing base and having a plurality of gas emitting holes communicating with the process space from the gas introducing path to emit a process gas into the process space. ® KIPO & WIPO 2007
Abstract translation: 1。一种等离子体处理装置，具有等离子体生成部和容纳被处理基板的腔室，其特征在于，具备：处理气体导入机构，其设置在所述等离子体生成部与所述腔室之间，将处理气体导入由所述处理腔室 等离子体产生单元和腔室形成有支撑等离子体产生单元的气体引入通路，安装在腔室上并将处理气体引入处理空间，并且具有在其中心具有孔的气体引入基底 形成处理空间的一部分和几乎环形的气体引入板，所述环形气体引入板可移除地附接到气体引入基底的孔，并且具有多个气体排放孔，从气体引入路径与处理空间连通以将处理气体排放到处理空间 。 ®KIPO和WIPO 2007
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公开(公告)号：KR101973016B1
公开(公告)日：2019-04-26
申请号：KR1020180074712
申请日：2018-06-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L51/56 , H01L21/67 , H01L21/02 , H01L21/683 , H01L21/687 , H01L51/00
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公开(公告)号：KR1020140143331A
公开(公告)日：2014-12-16
申请号：KR1020140067837
申请日：2014-06-03
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: H01L51/56 , H01L21/67034
Abstract: Solvent residues remaining in a processing vessel of a drying apparatus that dries an organic material film on a substrate can be efficiently removed in a short time. The drying apparatus (100) includes a processing vessel (1) capable of vacuum exhausting, a mounting board (3) as a support member to support a substrate (S) in the processing vessel (1), an ultraviolet ray irradiating device (5) radiating ultraviolet rays to the inside of the processing vessel (1), and a controller (6). The ultraviolet ray irradiating device (5) functions as a solvent decomposition means that breaks down an organic compound included in the solvent residues remaining in the processing vessel (1) into low molecular weight compounds after a substrate (S), that has completed the drying process, is discharged from the processing vessel (1).
Abstract translation: 可以在短时间内有效地除去留在基板上的有机材料膜干燥装置的处理容器中的溶剂残留物。 干燥装置（100）包括能够进行真空排气的处理容器（1），作为用于支撑处理容器（1）中的基板（S）的支撑部件的安装基板（3），紫外线照射装置 ）向处理容器（1）的内部辐射紫外线，以及控制器（6）。 紫外线照射装置（5）起溶剂分解手段的作用，其将残留在处理容器（1）中的溶剂残余物中的有机化合物分解成已经完成干燥的基材（S）之后的低分子量化合物 处理从处理容器（1）排出。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR100951148B1
公开(公告)日：2010-04-07
申请号：KR1020060094970
申请日：2006-09-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/687 , H01L21/205
CPC classification number: C23C8/00 , C23C10/00 , C23C16/4401 , C23C16/4586 , H01L21/68742
Abstract: 본 발명의 과제는 기판의 탑재 기구에 있어서의 탑재대에 형성된 핀 관통 삽입 구멍과 이 핀 관통 삽입 구멍내를 승강하여 탑재대에 대하여 기판의 주고받음을 실행하는 리프터 핀의 간극에, 처리 가스의 공급에 따른 반응 생성물이 퇴적되는 것을 억제하는 것이다. 핀 관통 삽입 구멍의 하단부의 개구부에 내측으로 환상으로 돌출하여 형성된 환상 돌출부와, 상기 리프터 핀에 형성되어, 상기 리프터 핀이 하강했을 때에 환상 돌출부에 지지되어 상기 개구부를 막는 직경 확대부를 구비하도록 기판의 탑재 기구를 구성한다. 기판이 탑재된 탑재대의 하방측으로 돌아 들어온 처리 가스는, 핀 관통 삽입 구멍의 하단부로부터 진입하기 어려워져, 반응 생성물이 리프터 핀과 핀 관통 삽입 구멍 사이의 간극에 퇴적하는 것을 억제할 수 있고, 따라서 리프터 핀의 승강이 저해되는 것을 억제할 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020080077941A
公开(公告)日：2008-08-26
申请号：KR1020080064930
申请日：2008-07-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/687 , H01L21/205
CPC classification number: C23C8/00 , C23C10/00 , C23C16/4401 , C23C16/4586 , H01L21/68742
Abstract: A substrate loading mechanism and a substrate processing apparatus are provided to prevent deposits generated from the process gas from accumulating at the gap between a lifter-pin and a sleeve by forming a circular protrusion is formed at an opening part of the lower end of the sleeve. A substrate placing mechanism comprises a placing stage, a plurality of lifter-pins(61), an elevating member, and an elevating mechanism. The placing stage is provided to place a substrate to be processed thereon in a processing container in which a processing atmosphere is formed by a process gas. The placing stage includes a plurality of pin-inserting holes. The lifter-pins are respectively inserted into and vertically movable in each of the plurality of pin-inserting holes. The elevating member supports the plurality of lifter-pins. The elevating mechanism causes the plurality of lifter-pins to vertically move via the elevating member. Each of the plurality of pin-inserting holes has a circular protrusion(56) at an opening part(53) of a lower end thereof. The circular protrusion protrudes inwardly and circularly. Each of the plurality of lifter-pins has a diameter-increasing part(62) that is configured to be supported by the circular protrusion so as to close the opening part when a corresponding lifter-pin is caused to move down.
Abstract translation: 提供了基板装载机构和基板处理装置，以防止在套筒下端的开口部分处形成圆形突起，从而在工作气体产生的沉积物在提升销和套筒之间的间隙处积聚 。 基板放置机构包括放置台，多个提升销（61），升降构件和升降机构。 提供放置台以将待处理的基板放置在其中通过处理气体形成处理气氛的处理容器中。 放置台包括多个销插入孔。 所述升降销分别插入并在所述多个销插入孔中的每一个中垂直移动。 升降构件支撑多个升降销。 升降机构使多个升降销经由升降部件垂直移动。 多个插销孔中的每一个在其下端的开口部分（53）处具有圆形突出部（56）。 圆形突起向内圆周方向突出。 多个提升销中的每一个都具有直径增大部分（62），该直径增加部分被构造成由圆形突起支撑，以便在使相应的升降销向下移动时闭合开口部分。
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公开(公告)号：KR100909499B1
公开(公告)日：2009-07-27
申请号：KR1020080064930
申请日：2008-07-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/687 , H01L21/205
CPC classification number: C23C8/00 , C23C10/00 , C23C16/4401 , C23C16/4586 , H01L21/68742
Abstract: 본 발명의 과제는 기판의 탑재 기구에 있어서의 탑재대에 형성된 핀 관통 삽입 구멍과 이 핀 관통 삽입 구멍내를 승강하여 탑재대에 대하여 기판의 주고받음을 실행하는 리프터 핀의 간극에, 처리 가스의 공급에 따른 반응 생성물이 퇴적되는 것을 억제하는 것이다. 핀 관통 삽입 구멍의 하단부의 개구부에 내측으로 환상으로 돌출하여 형성된 환상 돌출부와, 상기 리프터 핀에 형성되어, 상기 리프터 핀이 하강했을 때에 환상 돌출부에 지지되어 상기 개구부를 막는 직경 확대부를 구비하도록 기판의 탑재 기구를 구성한다. 기판이 탑재된 탑재대의 하방측으로 돌아 들어온 처리 가스는, 핀 관통 삽입 구멍의 하단부로부터 진입하기 어려워져, 반응 생성물이 리프터 핀과 핀 관통 삽입 구멍 사이의 간극에 퇴적하는 것을 억제할 수 있고, 따라서 리프터 핀의 승강이 저해되는 것을 억제할 수 있다.
Abstract translation: 本发明是一种基板载置机构，其特征在于，具备：载置台，其设置成将载置基板载置在利用处理气体形成处理气氛的处理容器内，该载置台具有多个销插入孔; 多个升降销，所述升降销中的每一个插入所述多个销插入孔中的每一个中并且可竖直地移动; 支撑所述多个升降销的升降部件; 以及使升降销经由升降部件升降的升降机构。 多个销插入孔中的每一个在其下端的开口部分处具有圆形突起。 圆形突起向内和圆形突出。 多个升降销中的每一个具有直径增大部分，直径增大部分被构造成当相应的升降销向下移动时由圆形突起支撑以封闭开口部分。
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