公开(公告)号：KR1020140119066A

公开(公告)日：2014-10-08

申请号：KR1020147021296

申请日：2013-01-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토도시카즈 ,  간난히로시

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205 ,  H01L21/304 ,  H05H1/00 ,  H05H1/46

CPC classification number: H01L21/67069 ,  H01J37/32926 ,  H01J37/32972 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31122 ,  H01L21/31138 ,  H01L21/32139 ,  H01L22/10 ,  H01L22/20 ,  H05H1/0037 ,  H05H1/46 ,  H05H2001/463

Abstract: [과제] 1회의 매엽 플라즈마 처리 중에 플라즈마 프로세스의 변동이나 불균일을 정밀하게 억제한다.
[해결수단] OES 계측부(110)는, 각 단계의 종료시 또는 종료 직후에 분광 계측치(MOES
i )를 출력한다. CD 추정부(140)는, 추정 모델 기억부(142)로부터 받아들이는 CD 추정 모델(AM
i )과 분광 계측치(MOES
i )를 이용하여 각 단계분의 CD 추정치(ACD
i )를 구한다. 프로세스 제어부(132)는, 다음 단계에 있어서, 레시피 기억부(136)로부터 받아들인 다음 단계분의 프로세스 조건 설정치(PC
i
+1 ) 및 제어 모델 기억부(138)로부터 받아들인 다음 단계분의 프로세스 제어 모델(CM
i
+1 )에 더하여, CD 추정부(140)로부터 수취한 앞 단계분의 CD 추정치(ACD
i )를 제어 대상(130)의 자동 제어에 이용한다.