公开(公告)号：KR101571194B1

公开(公告)日：2015-11-23

申请号：KR1020110139000

申请日：2011-12-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하세가와하루나리 ,  스기따깁뻬이 ,  안도오아쯔시 ,  후꾸하라요시끼 ,  다까하시마꼬또

IPC: H01L21/312

CPC classification number: C23C16/45578 ,  C23C16/455 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/45576 ,  C23C16/458 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/52

Abstract: 본발명의과제는기판의면 내에있어서의원료가스의공급량을균일하게하여, 성막되는막의막질을일정하게할 수있는성막장치를제공하는것이다. 성막용기(60) 내에서기판을수평면내에서회전가능하게유지하는기판유지부(44)와, 공급구멍(75)이형성된공급관(73a)을포함하고, 공급구멍(75)을통해성막용기(60) 내에원료가스를공급하는공급기구(70)와, 배기구멍(83)이형성된배기관(82)을포함하고, 배기구멍(83)을통해성막용기(60) 내로부터가스를배기하는배기기구(80)와, 기판유지부(44)와공급기구(70)와배기기구(80)를제어하는제어부(90)를갖는다. 공급구멍(75)과배기구멍(83)은기판유지부(44)에유지되어있는기판을사이에두고서로대향하도록형성되어있다. 제어부(90)는기판유지부(44)에유지되어있는기판을회전시킨상태에서, 공급기구(70)에의해원료가스를공급하는동시에배기기구(80)에의해가스를배기함으로써, 기판에막을성막하도록제어한다.

公开(公告)号：KR1020120071344A

公开(公告)日：2012-07-02

申请号：KR1020110139000

申请日：2011-12-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하세가와하루나리 ,  스기따깁뻬이 ,  안도오아쯔시 ,  후꾸하라요시끼 ,  다까하시마꼬또

IPC: H01L21/312

CPC classification number: C23C16/45578 ,  C23C16/455 ,  C23C16/45563 ,  C23C16/45576 ,  C23C16/458 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/52

Abstract: PURPOSE: A film deposition apparatus is provided to uniformly form the thickness and quality of a thin film to be deposited by regularly controlling a supply amount of a source gas in the surface of a substrate. CONSTITUTION: A loading table(20) is installed in a front portion of a housing(30). The housing includes a loading area(40) and a deposition container(60). A base plate(31) is installed between the loading area and the deposition container. The loading area moves and loads a wafer(W) between a receiving container(21) and a boat(44). A cover(43) includes a heat insulating container(48) and a rotation mechanism(49).

Abstract translation: 目的：提供一种成膜装置，通过定期地控制基材表面的源气体的供给量，均匀地形成要沉积的薄膜的厚度和质量。 构成：装载台（20）安装在壳体（30）的前部。 壳体包括装载区域（40）和沉积容器（60）。 底板（31）安装在装载区域和沉积容器之间。 装载区域在接收容器（21）和船（44）之间移动并加载晶片（W）。 盖（43）包括绝热容器（48）和旋转机构（49）。