Patent search ap:("도쿄엘렉트론가부시키가이샤") AND inv:"야마다다쿠미" Page 1

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发明授权
세정 부생성물의 부착 억제 방법 및 이를 이용한 반응실 내의 클리닝 방법, 그리고 실온 성막 장치 有权

公开(公告)号：KR102243842B1

公开(公告)日：2021-04-22

申请号：KR1020180034888

申请日：2018-03-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마다다쿠미 , 도조유키오

IPC: H01L21/02 , H01L21/67

Abstract: 본발명은, 클리닝에의하여부생성물로서생성된규불화암모늄을효율적으로제거하는세정부생성물의부착억제방법및 이를이용한반응실내의클리닝방법, 그리고실온성막장치를제공하는것을목적으로한다. 가열수단을갖지않는실온성막장치의반응실내의클리닝시에부생성물로서생성된규불화암모늄을제거하는세정부생성물의제거방법이며, 클리닝후의상기반응실내의압력을소정압력까지승압하는공정과, 해당소정압력에서상기규불화암모늄이승화하는온도이상의소정온도로가열한질소가스를상기반응실내에공급하여상기반응실내를소정시간퍼지하는공정과, 상기반응실내를배기하는공정을갖는다.

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