公开(公告)号：KR101176292B1

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：KR1020100080114

申请日：2010-08-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스께 ,  야마모또유우스께

IPC: G03F7/16

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184

Abstract: 본발명의과제는기판상에공급되는레지스트액중의이물질을저감시켜, 레지스트패턴의결함을저감시키는것이다. 레지스트액공급장치(200)는레지스트액을저류하는레지스트액공급원(201)을갖고있다. 레지스트액공급원(201)은공급관(202)을통해도포노즐(142)에접속되어있다. 레지스트액공급원(201)의하류측에는공급관(202) 내의레지스트액을가열하는히터(205)가설치되어있다. 히터(205)는레지스트액을 23℃내지 50℃로가열할수 있다. 히터(205)의하류측에는레지스트액중의이물질을제거하는필터(207)가설치되어있다. 필터(207)의하류측에는공급관(202) 내의레지스트액을냉각하는온도조절배관(211)이설치되어있다. 온도조절배관(211)은레지스트액을 23℃로냉각할수 있다.

公开(公告)号：KR1020110019711A

公开(公告)日：2011-02-28

申请号：KR1020100080114

申请日：2010-08-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스께 ,  야마모또유우스께

IPC: G03F7/16

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184

Abstract: PURPOSE: An apparatus for supplying resist liquid is provided to reduce default of a resist pattern and foreign materials such as resist gel. CONSTITUTION: An apparatus(200) for supplying resist liquid comprises: a resist liquid supply source(201) which flows under resist liquid; a supply tube(202) for supplying the resist liquid with a coating nozzle(142); a filter(207) for removing foreign materials from the resist liquid; and a heater(205) for heating the resist liquid inside the supply tube at certain temperature higher than room temperature. The resist liquid contains fluorine resins.

Abstract translation: 目的：提供一种用于提供抗蚀剂液体的设备，以减少抗蚀剂图案和异物如抗蚀剂凝胶的缺陷。 构成：用于供应抗蚀剂液体的装置（200）包括：在抗蚀剂液体下流动的抗蚀剂液体供给源（201）; 供应管（202），用于向所述抗蚀剂液体供应涂覆喷嘴（142）; 用于从所述抗蚀剂液体除去异物的过滤器（207） 以及用于在高于室温的一定温度下加热供给管内的抗蚀剂液体的加热器（205）。 抗蚀剂液体含有氟树脂。