公开(公告)号：KR100575310B1

公开(公告)日：2006-05-02

申请号：KR1020000012720

申请日：2000-03-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  오모리쓰타에 ,  기무라요시오

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03D5/04 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/38 ,  Y10S134/902

Abstract: 레지스트막 위에 감광기(感光基)를 갖는 용액을 도포하고, 그 위에 현상액을 도포하여, 감광기를 갖는 용액의 전면(全面)을 일괄(一括)적으로 노광(露光)한다. 레지스트막의 현상은, 감광기를 갖는 용액의 도포막이 현상액에 용해되면서 부터 일괄적으로 진행하여, 기판면내(面內)에 있어서의 현상개시의 시간차가 발생하지 않음으로써 균일하게 현상할 수 있기 때문에, 기판면내의 선폭균일성(線幅均一性, CD値均一性)을 향상시킬 수 있다.

Abstract translation: 将具有光敏基团的溶液涂覆在抗蚀剂膜上，并将显影剂涂覆在抗蚀剂膜上以使具有光敏基团的溶液的整个表面一次曝光。 由于抗蚀剂膜的现象，通过施加具有感光膜的溶液中，从溶解在显影剂中的批次进行时，它可以均匀地通过不的生成现象在基板平面（面内）的开始之间的时间差显影，在基板 可以改善平面中的线宽均匀性（线宽均匀性，CD值均匀性）。

公开(公告)号：KR1020010014582A

公开(公告)日：2001-02-26

申请号：KR1020000012720

申请日：2000-03-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  오모리쓰타에 ,  기무라요시오

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03D5/04 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/38 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: A developing device is provided to be capable of uniformizing line width and less liable to cause defects at the application of developing solution. CONSTITUTION: A solution having a photosensitive group is applied to the entire surface of a resist film(51) on a substrate(W) to form a photosensitive film(53). A developing solution is applied to the entire surface of the photosensitive film(53) to form a developing paddle(54). The entire surface of the photosensitive layer(53) on the resist film(51) is exposed. The resist film formed on the substrate and exposed in a prescribed pattern is thus developed.

Abstract translation: 目的：提供一种显影装置，能够使线宽均匀化，并且在应用显影液时不易引起缺陷。 构成：将具有感光性基团的溶液施加到基板（W）上的抗蚀剂膜（51）的整个表面上以形成感光膜（53）。 将显影液施加到感光膜（53）的整个表面上以形成显影板（54）。 抗蚀剂膜（51）上的感光层（53）的整个表面露出。 因此，形成在基板上并以规定图案曝光的抗蚀剂膜显影。