-
1.
公开(公告)号:KR1020090103806A
公开(公告)日:2009-10-01
申请号:KR1020090026165
申请日:2009-03-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/162 , H01L21/6715 , G03F7/16 , B05B1/24 , B05B15/40 , H01L21/67017
Abstract: PURPOSE: A resist solution supply apparatus is provided to reduce the defect of a substrate after spreading the resist solution. CONSTITUTION: The resist solution supply apparatus(200) supplies the resist liquid to the spreading nozzle which discharges the resist liquid into a substrate. The resist solution supply apparatus includes the resist liquid supply source(201), the supply tube(202), the heating means(210), and the cooling means(214). The resist liquid supply source stores the resist liquid. The supply tube supplies the resist solution by the spreading nozzle from the resist liquid supply source. The heating means is installed in the resist liquid supply source side of the supply tube. The heating means heats the resist liquid among the supply tube in the temperature of the predetermined higher than room temperature. The cooling means is installed on the spreading nozzle of the supply tube. The cooling means cools the resist liquid among the supply tube to room temperature.
Abstract translation: 目的:提供抗蚀剂溶液供应装置,以在扩散抗蚀剂溶液之后减少基底的缺陷。 构成:抗蚀剂溶液供给装置(200)将抗蚀剂液体供给到将抗蚀剂液体排出到基板中的扩散喷嘴。 抗蚀剂溶液供给装置包括抗蚀剂液体供给源(201),供给管(202),加热装置(210)和冷却装置(214)。 抗蚀剂液体供应源存储抗蚀剂液体。 供给管由抗蚀剂液体供给源通过扩散喷嘴供给抗蚀剂溶液。 加热装置安装在供给管的抗蚀液供给源侧。 加热装置在预定高于室温的温度下加热供应管中的抗蚀剂液体。 冷却装置安装在供给管的扩散喷嘴上。 冷却装置将供应管中的抗蚀剂液体冷却至室温。
-
2.
公开(公告)号:KR101454037B1
公开(公告)日:2014-10-27
申请号:KR1020090026165
申请日:2009-03-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/162 , H01L21/6715
Abstract: 본 발명은, 기판에 레지스트액을 토출하는 도포 노즐에, 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급 장치이며, 내부에 레지스트액을 저류하는 레지스트액 공급원과 상기 레지스트액 공급원으로부터 상기 도포 노즐로 레지스트액을 공급하기 위한 공급관과, 상기 공급관에 있어서의 상기 레지스트액 공급원측에 설치되고, 상기 공급관 중의 레지스트액을 상온보다도 높은 소정의 온도로 가열하는 가열 수단과, 상기 공급관에 있어서의 상기 도포 노즐측에 설치되고, 상기 공급관 중의 레지스트액을 상온까지 냉각하는 냉각 수단을 갖는다.
레지스트액 공급 장치, 공급관, 히터, 온도 조절기, 웨이퍼
-