公开(公告)号：KR1019980012044A

公开(公告)日：1998-04-30

申请号：KR1019970006786

申请日：1997-02-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지 ,  우에노기냐

IPC: H01L21/304

公开(公告)号：KR100466148B1

公开(公告)日：2005-03-16

申请号：KR1019970006786

申请日：1997-02-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지 ,  우에노기냐

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명의 기판 건조 장치는, 처리실(19, 210)과, 이 처리실 내로 기판을 반입 반출하는 반송 수단(32, 240)과, 액상의 유기 용제를 받아들이는 용기(125,221)와 이 용기 내의 액상의 유기 용제를 가열해서 유기 용제의 증기를 발생시키는 히터(105, 223)를 구비하는 용제 증기 생성실(86,220), 용기 내로 액상의 유기 용제를 공급하는 용제 공급원(88,226)과, 용제 증기 생성실 및 처리실과 각각 연통하고 유기 용제의 증기가 흐르는 제 1 관로(85, 215), 용제 증기 생성실 내의 용기 및 용제 공급원과 각각 연통하고 액상의 유기 용제가 흐르는 제 2 관로(89, 225), 용제 공급원에서 용기 내로의 액상의 유기 용제의 공급 유량을 조정하는 유량 조정기(143, 145, 228)과, 용제 공급원(88, 226), 용제 증기 생성실(86, 220), 처리실(19, 210) 중 적어도 1개에 있어서의 유기 용제의 상태를 검지하� �� 그 검지한 유기 용제의 상태에 따라서 유량 조정기(143, 145, 228)의 동작을 제어하는 제어 수단(93, 260)을 마련하였다.

公开(公告)号：KR100385037B1

公开(公告)日：2003-08-21

申请号：KR1019980002201

申请日：1998-01-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지 ,  우에노기냐 ,  나카시마사토시

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  B08B3/08 ,  Y10S134/902

Abstract: The purpose of the present invention is to provide a cleaning apparatus and a cleaning method which can prevent the object to be processed being subjected to a bad influence caused by a chemical treatment, have a high degree of freedom in designing the apparatus, make the cleaning process rapid and be designed in smaller size. In this cleaning apparatus, a drying chamber 42 and a cleaning bath 41 are separated from each other up and down, respectively. Thus, a space in the drying chamber 42 can be insulated from a space of the cleaning bath 41 by a nitrogen-gas curtain 59c and a slide door 72. In the cleaning method, a cleaning process in the cleaning bath 41 is carried out while screening it by the nitrogen-gas curtain 59c. On the other hand, a drying process in the drying chamber 42 is accomplished while sealing and closing it by the slide door 72.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种清洁装置和清洁方法，其能够防止待处理物受到由化学处理引起的不良影响，在设计该装置时具有高度的自由度，进行清洁 处理迅速，设计体积更小。 在该清洁装置中，干燥室42和清洁槽41分别上下分离。 因此，干燥室42内的空间可以通过氮气幕59c和滑动门72与清洁槽41的空间隔离。在清洁方法中，在清洁槽41中执行清洁过程，同时 用氮气幕59c对其进行筛选。 另一方面，干燥室42中的干燥过程在通过滑动门72密封和关闭的同时完成。＆lt; IMAGE＆gt;

公开(公告)号：KR1019980070821A

公开(公告)日：1998-10-26

申请号：KR1019980002201

申请日：1998-01-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가미카와유지 ,  우에노기냐 ,  나카시마사토시

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은 건조 처리 시에 약액 처리에 의한 악영향을 받지 않고, 설계의 자유도를 높이고, 세정 장치의 고속화와 장치의 소형화를 실현할 수 있는 세정 장치 및 세정 방법의 제공을 목적으로 한다. 건조실(42)과 세정조(41)를 각각 상하로 분리함과 동시에, 건조실(42)의 공간과 세정조(41)의 공간을 질소가스 커텐(59c) 및 활주문(72)에 의해 차폐가 가능하고, 세정조(41)에서의 세정처리를 질소가스 커텐(59c)으로 차폐하고, 건조실(42)에서의 건조 처리를 활주문(72)으로 밀폐·차단하여 실시하도록 구성되었다.