公开(公告)号：KR1020150128596A

公开(公告)日：2015-11-18

申请号：KR1020150063823

申请日：2015-05-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미즈노츠요시 ,  토쿠나가요이치 ,  난바히로미츠 ,  우에키타츠히로 ,  피트리안토

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/683 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67109 ,  F26B3/20 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67075

Abstract: 커버부재에부착된처리액또는그 처리액으로부터발생된결정을제거함으로써, 파티클의발생을방지하도록한다. 기판을유지하는기판유지부(3)와, 기판유지부(3)에유지된기판(W)에대하여처리액을공급하는처리액공급부(7)와, 기판유지부(3)에유지된기판의주연부와대향하도록배치되는링 형상의커버부재(5)를구비하고, 커버부재(5)에는, 커버부재(5)를가열하기위한히터(701)가마련되어있다.

Abstract translation: 通过除去附着在覆盖构件上的处理溶液或由处理溶液产生的晶体来防止颗粒的产生。 本发明包括：保持基板的基板保持单元（3），将处理液供给到保持在基板保持单元（3）上的基板（W）的处理液供给单元（7），以及环状 盖构件（5），其被配置为面对保持在基板保持单元上的基板的周边部分。 在盖构件（5）上形成加热器（701）以加热盖构件（5）。