公开(公告)号：KR101374332B1

公开(公告)日：2014-03-25

申请号：KR1020127032433

申请日：2004-11-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 라플레임아더에이치주니어 ,  하멜린토마스 ,  월래스제이

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67748 ,  C25D11/02 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253

Abstract: 본발명에따르면화학적산화물제거(Chemical Oxide Removal; COR) 처리시스템이제공되는데, 이 COR 처리시스템은제1 처리챔버및 제2 처리챔버를포함한다. 제1 처리챔버는보호배리어를구비하는온도제어식챔버를제공하는화학처리챔버를포함한다. 제2 처리챔버는보호배리어를구비하는온도제어식챔버를제공하는열처리챔버를포함한다.

公开(公告)号：KR1020130009877A

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：KR1020127032433

申请日：2004-11-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 라플레임아더에이치주니어 ,  하멜린토마스 ,  월래스제이

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67748 ,  C25D11/02 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253

Abstract: 본 발명에 따르면 화학적 산화물 제거(Chemical Oxide Removal; COR) 처리 시스템이 제공되는데, 이 COR 처리 시스템은 제1 처리 챔버 및 제2 처리 챔버를 포함한다. 제1 처리 챔버는 보호 배리어를 구비하는 온도 제어식 챔버를 제공하는 화학 처리 챔버를 포함한다. 제2 처리 챔버는 보호 배리어를 구비하는 온도 제어식 챔버를 제공하는 열처리 챔버를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020120091380A

公开(公告)日：2012-08-17

申请号：KR1020127016038

申请日：2004-11-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 라플레임아더에이치주니어 ,  하멜린토마스 ,  월래스제이

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/205 ,  H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/67748 ,  C25D11/02 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253

Abstract: 본 발명에 따르면 화학적 산화물 제거(Chemical Oxide Removal; COR) 처리 시스템이 제공되는데, 이 COR 처리 시스템은 제1 처리 챔버 및 제2 처리 챔버를 포함한다. 제1 처리 챔버는 보호 배리어를 구비하는 온도 제어식 챔버를 제공하는 화학 처리 챔버를 포함한다. 제2 처리 챔버는 보호 배리어를 구비하는 온도 제어식 챔버를 제공하는 열처리 챔버를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020060126977A

公开(公告)日：2006-12-11

申请号：KR1020067010679

申请日：2004-11-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 라플레임아더에이치주니어 ,  하멜린토마스 ,  월래스제이

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67748 ,  C25D11/02 ,  H01L21/67069 ,  H01L21/67103 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253

Abstract: A chemical oxide removal (COR) processing system is presented, wherein the COR processing system includes a first treatment chamber and a second treatment chamber. The first treatment chamber comprises a chemical treatment chamber that provides a temperature controlled chamber having a protective barrier. The second treatment chamber comprises a heat treatment chamber that provides a temperature-controlled chamber having a protective barrier.

Abstract translation: 提出了一种化学氧化物去除（COR）处理系统，其中COR处理系统包括第一处理室和第二处理室。 第一处理室包括化学处理室，其提供具有保护屏障的温度控制室。 第二处理室包括提供具有保护屏障的温度控制室的热处理室。