정합기 및 플라즈마처리장치
    1.
    发明公开
    정합기 및 플라즈마처리장치 有权
    匹配设备和等离子处理设备

    公开(公告)号:KR1020020047229A

    公开(公告)日:2002-06-21

    申请号:KR1020027004694

    申请日:2000-10-12

    Abstract: 100㎒ 이상의 고주파전력을 공급하는 경우라도, 대형화를 초래하지 않고, 정합시간이 길어지지 않아, 고주파부하의 임피던스를 전송로 임피던스에 충분히 정합시킬 수 있는 정합기 및 그것을 사용한 플라즈마처리장치를 제공하는 것이다.
    정합기(41)는, 고주파전원(40)으로부터의 고주파에너지를 플라즈마 생성전극 (21)으로 전송하는 공진막대(61)와, 공진막대(61) 및 전극(21)에 직렬로 접속되어 임피던스 복소수의 허수부를 조정하는 가변콘덴서(62)와, 공진막대(61)의 외부에 설치되어 접지된 하우징(63)과, 공진막대(61)로 고주파에너지를 여기시키고 또 임피던스 복소수의 실수부를 조정하는 링크코일(64)과, 고주파전원(40)으로부터 플라즈마를 통해 접지에 달할 때까지의 사이에 정합상태로 직렬공진회로를 구성하도록 가변콘덴서(62)및 링크코일(64)의 구동부를 제어하는 제어기(69)를 구비한다.

    정합기 및 플라즈마처리장치
    2.
    发明授权
    정합기 및 플라즈마처리장치 有权
    匹配设备和等离子处理设备

    公开(公告)号:KR100700763B1

    公开(公告)日:2007-03-27

    申请号:KR1020027004694

    申请日:2000-10-12

    Abstract: 100㎒ 이상의 고주파전력을 공급하는 경우라도, 대형화를 초래하지 않고, 정합시간이 길어지지 않아, 고주파부하의 임피던스를 전송로 임피던스에 충분히 정합시킬 수 있는 정합기 및 그것을 사용한 플라즈마처리장치를 제공하는 것이다.
    정합기(41)는, 고주파전원(40)으로부터의 고주파에너지를 플라즈마 생성전극 (21)으로 전송하는 공진막대(61)와, 공진막대(61) 및 전극(21)에 직렬로 접속되어 임피던스 복소수의 허수부를 조정하는 가변콘덴서(62)와, 공진막대(61)의 외부에 설치되어 접지된 하우징(63)과, 공진막대(61)로 고주파에너지를 여기시키고 또 임피던스 복소수의 실수부를 조정하는 링크코일(64)과, 고주파전원(40)으로부터 플라즈마를 통해 접지에 달할 때까지의 사이에 정합상태로 직렬공진회로를 구성하도록 가변콘덴서(62)및 링크코일(64)의 구동부를 제어하는 제어기(69)를 구비한다.

    Abstract translation: 当提供超过100㎒任何高频功率,而不会造成大的尺寸,匹配时间不再支持,以提供匹配的装置,其能够在传输线到高频负载的阻抗的阻抗基本上匹配并使用相同的等离子体处理装置 。

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