公开(公告)号：KR1020070026241A

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：KR1020060084292

申请日：2006-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시무라아키히코 ,  곤도히로시 ,  유키나베야마

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/203 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67017 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/67772

Abstract: A vacuum processing apparatus, a method for discharging a vacuum pre-chamber and a method for elevating the pressure of the vacuum pre-chamber are provided to prevent the moisture from penetrating into a vacuum chamber by using a double gate valve system. A vacuum processing apparatus includes a vacuum chamber(10) for performing a process on a substrate, a vacuum pre-chamber, and a double gate valve system. The vacuum pre-chamber is used for storing temporarily the substrate. The double gate valve system(30a,30b) is installed at a portion between the vacuum chamber and the vacuum pre-chamber. The double gate valve system consists of a first gate valve for opening/closing a first opening of the vacuum chamber and a second gate valve for opening/closing a second opening formed at a portion between the first and the second gate valves.

Abstract translation: 提供一种真空处理装置，用于排出真空预处理室的方法和提高真空预压室的压力的方法，以通过使用双闸阀系统来防止水分渗透到真空室中。 真空处理装置包括用于在基板上进行处理的真空室（10），真空预处理室和双闸阀系统。 真空预处理器用于暂时存储基板。 双闸阀系统（30a，30b）安装在真空室和真空预处理室之间的部分。 双闸阀系统包括用于打开/关闭真空室的第一开口的第一闸阀和用于打开/关闭形成在第一和第二闸阀之间的部分的第二开口的第二闸阀。

公开(公告)号：KR100810804B1

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：KR1020060084292

申请日：2006-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시무라아키히코 ,  곤도히로시 ,  유키나베야마

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/203 ,  H01L21/205

Abstract: 본 발명의 목적은 진공 처리실로의 수분의 혼입을 확실하게 방지할 수 있는 진공 처리 장치를 제공하는 데에 있다.
본 발명에 있어서는, 진공 처리실(10)과 로드 로크실(20) 사이에는, 각각 밸브체(31a, 31b)를 갖는 게이트 밸브(30a, 30b)가 이중으로 배치되어 있다. 또한, 로드 로크실(20)에는 컨덕턴스가 상이한 세 개의 배기관(21, 22, 23)이 접속되어 있고, 각각 개폐 밸브(62, 63, 64)를 개재하여 진공 펌프(60)에 접속되어 있다. 또한, 로드 로크실(20)의 내부에 N
2 가스를 도입하는 N
2 가스 공급원(26)도 접속되어 있다.