公开(公告)号：KR100993441B1

公开(公告)日：2010-11-09

申请号：KR1020090045538

申请日：2009-05-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시무라아키히코 ,  사에구사나오야

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  B65G49/06 ,  G02F1/13

Abstract: 본 발명은 피처리 기판이 대형이어도, 승강 핀에 의해 피처리 기판을 확실하게 지지하면서 피처리 기판의 변형을 효과적으로 억지하는 것이 가능한 기판 탑재 기구에 관한 것이다. 기판 탑재 기구는, 가요성을 갖는 기판(G)을 탑재하는 탑재대로서의 서셉터(4)와, 서셉터(4)의 탑재면에 대하여 돌몰 가능하게 마련되고, 기판(G)의 주연부 및 중앙부를 각각 지지해서 서셉터(4)의 상방의 주고받음을 실행하는 주고받음 위치와 서셉터(4)상의 탑재 위치 사이에서 승강시키는 리프터 핀(8a, 8b)과, 리프터 핀(8a, 8b)을 구동시키는 구동 기구로서의 구동부(9a, 9b)를 구비하고, 구동부(9a, 9b)는, 기판(G)을 승강시킬 때에, 리프터 핀(8a)을 리프터 핀(8b)보다도 높게 돌출시켜서, 기판(G)이 아래로 볼록형상으로 휜 상태에서 리프터 핀(8a, 8b)에 의해 안정적으로 지지되도록 한다.

公开(公告)号：KR1020070026241A

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：KR1020060084292

申请日：2006-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시무라아키히코 ,  곤도히로시 ,  유키나베야마

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/203 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01L21/67017 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/67772

Abstract: A vacuum processing apparatus, a method for discharging a vacuum pre-chamber and a method for elevating the pressure of the vacuum pre-chamber are provided to prevent the moisture from penetrating into a vacuum chamber by using a double gate valve system. A vacuum processing apparatus includes a vacuum chamber(10) for performing a process on a substrate, a vacuum pre-chamber, and a double gate valve system. The vacuum pre-chamber is used for storing temporarily the substrate. The double gate valve system(30a,30b) is installed at a portion between the vacuum chamber and the vacuum pre-chamber. The double gate valve system consists of a first gate valve for opening/closing a first opening of the vacuum chamber and a second gate valve for opening/closing a second opening formed at a portion between the first and the second gate valves.

Abstract translation: 提供一种真空处理装置，用于排出真空预处理室的方法和提高真空预压室的压力的方法，以通过使用双闸阀系统来防止水分渗透到真空室中。 真空处理装置包括用于在基板上进行处理的真空室（10），真空预处理室和双闸阀系统。 真空预处理器用于暂时存储基板。 双闸阀系统（30a，30b）安装在真空室和真空预处理室之间的部分。 双闸阀系统包括用于打开/关闭真空室的第一开口的第一闸阀和用于打开/关闭形成在第一和第二闸阀之间的部分的第二开口的第二闸阀。

公开(公告)号：KR101425268B1

公开(公告)日：2014-07-31

申请号：KR1020120081679

申请日：2012-07-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시무라아키히코

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/683

Abstract: (과제) 기판을 탑재대에 평평하게 탑재하는 것이 가능하고, 또한, 정전척에 의한 흡착을 해제하여 기판을 탑재대로부터 들어 올릴 때, 기판에 이상 방전이 발생하기 어렵게 할 수 있는 기판 수수 방법을 제공하는 것.
(해결 수단) 기판 G를 기판 탑재면(4c)의 위쪽에서, 제 1 승강 핀(8a)과, 제 1 승강 핀(8a)보다 낮은 위치의 제 2 승강 핀(8b)에 의해 지지한 기판 G를 하강시켜, 기판 G를, 기판 G의 중앙부로부터 기판 탑재면(4c)에 탑재시키는 기판 탑재 공정과, 기판 탑재면(4c)에 탑재된 기판 G를 정전척(41)에 의해 흡착하여, 기판 G에 플라즈마 처리를 행하는 공정과, 플라즈마 처리 종료 후, 정전척(41)에 의한 흡착을 해제하고, 제 1 승강 핀(8a)과 제 2 승강 핀(8b)을 같은 높이로 하여 기판 G를 지지하고, 기판 G를 기판 탑재면(4c)으로부터 이탈시키는 기판 이탈 공정을 포함한다.

公开(公告)号：KR1020120054004A

公开(公告)日：2012-05-29

申请号：KR1020120049188

申请日：2012-05-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 사에구사나오야 ,  시무라아키히코

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/683

Abstract: PURPOSE: A substrate loading tool and a control method thereof, and a substrate processing apparatus and a storage media are provided to uniformly process a substrate by not including a lifter of a pin shape on the center part of a susceptor. CONSTITUTION: A first lifter is prepared in the inner side of a loading table which can project and supports external periphery portion of a substrate to be treated. A second lifter(8b1) supports the center part of the substrate to be treated instead of the location in which the first lifter supports the substrate to be treated. A circular arm(8d) circles from the upper side of the outside the loading table to the upper side of a loading surface of the loading table by the rotation of a shaft. A flexible arm(8g) is extended from the outer side of the first lifter to the inner side of the first lifter as a horizontal direction.

Abstract translation: 目的：提供一种基板装载工具及其控制方法以及基板处理装置和存储介质，以通过在基座的中心部分不包括销形状的升降器来均匀地处理基板。 构成：在装载台的内侧准备第一升降机，该装载台可投影和支撑要处理的基板的外围部分。 第二升降器（8b1）支撑要处理的基板的中心部分，而不是第一升降器支撑待处理的基板的位置。 圆形臂（8d）通过轴的旋转从装载台的外侧的上侧到装载台的装载表面的上侧。 柔性臂（8g）从第一升降机的外侧延伸到第一升降机的内侧作为水平方向。

公开(公告)号：KR1020090084778A

公开(公告)日：2009-08-05

申请号：KR1020090045538

申请日：2009-05-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시무라아키히코 ,  사에구사나오야

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  B65G49/06 ,  G02F1/13

CPC classification number: H01L21/68714 ,  B65G49/061 ,  G02F1/1303 ,  H01L21/68742

Abstract: A substrate loading mechanism, a substrate transfer method, a substrate processing apparatus and a computer readable storage medium are provided to effectively suppress the deformation of the processed substrate by tightly supporting the processed substrate using a lift pin. The processed substrate having the flexibility is mounted on a main chuck(4). A plurality of lift pins support and lift the processed substrate. The substrate mount tool comprises drive machineries(9a,9b) for running the lift pin. A plurality of lift pins comprises the first lift pin(8a) and the second lift pin(8b). The drive machinery steadily supports the processed substrate in the state that the processed substrate bends below with the convex profile. A controller controls the drive of the first and the second lift pins by the drive machinery.

Abstract translation: 提供基板装载机构，基板转印方法，基板处理装置和计算机可读存储介质，以通过使用提升销紧紧地支撑处理的基板来有效地抑制处理的基板的变形。 具有柔性的被处理基板安装在主卡盘（4）上。 多个提升销支撑并提起已处理的基板。 基板安装工具包括用于运行提升销的驱动机构（9a，9b）。 多个提升销包括第一提升销（8a）和第二提升销（8b）。 驱动机构在被处理基板以凸形轮廓弯曲下方的状态下稳定地支撑被处理基板。 控制器通过驱动机构控制第一和第二提升销的驱动。

公开(公告)号：KR1020130103390A

公开(公告)日：2013-09-23

申请号：KR1020130023847

申请日：2013-03-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카세이지 ,  시무라아키히코

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67011 ,  H01L21/02 ,  H01L21/02315 ,  H01L21/0234 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/205 ,  H01L21/30621 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/76825 ,  H01L21/76826

Abstract: PURPOSE: A method for cooling a component in a chamber and a computer readable storage medium with a component cooling program in the chamber are provided to rapidly cool the component in the chamber by suppressing an atmospheric temperature rise around the component in the chamber. CONSTITUTION: A stage (12) is arranged on the lower side of the inside of a chamber (11). The chamber includes a base (11a) comprising a lower side and a cover (11b) comprising an upper side. A shower head (13) is arranged on the upper side of the inside of the chamber to face the stage. The shower head includes a buffer space (23) and a plurality of gas holes (24) which connect the buffer space to a processing space. An exhaust device (14) exhausts the chamber and is formed by serially connecting a turbo molecular pump (26) to a dry pump (27). [Reference numerals] (18) Heater unit; (20) Temperature sensor unit

Abstract translation: 目的：提供一种用于冷却腔室中的部件的方法和具有在腔室中的部件冷却程序的计算机可读存储介质，以通过抑制腔室中的部件周围的大气温度升高来快速冷却腔室中的部件。 构成：在室（11）的内侧的下侧设置有台（12）。 该腔室包括一个包括下侧的底座（11a）和一个包括上侧的盖（11b）。 淋浴头（13）布置在腔室内侧的上侧以面对台面。 淋浴头包括将缓冲空间连接到处理空间的缓冲空间（23）和多个气孔（24）。 排气装置（14）排出室，并且通过将涡轮分子泵（26）串联连接到干式泵（27）而形成。 （附图标记）（18）加热器单元; （20）温度传感器单元

公开(公告)号：KR1020130018540A

公开(公告)日：2013-02-25

申请号：KR1020120081679

申请日：2012-07-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시무라아키히코

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/6831 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68785

Abstract: PURPOSE: A method for transferring a substrate is provided to uniformly load flexible substrates on a mounting table by using an electrostatic chuck. CONSTITUTION: A susceptor(4) is a rectangular or pillar shape according to the shape of a substrate(G). The susceptor includes a material(4a) and an insulating member(4b) which is formed between the bottom surface of the material and the bottom surface of a chamber. An electrostatic chuck(41) absorbs the substrate. The electrostatic chuck is composed of dielectric and an inner electrode(42). A power source(43) is connected to the inner electrode through a switch(44). [Reference numerals] (24) Matcher

Abstract translation: 目的：提供一种转印衬底的方法，通过使用静电吸盘将柔性衬底均匀地加载在安装台上。 构成：基座（4）根据基板（G）的形状为矩形或柱状。 感受体包括材料（4a）和形成在材料的底表面和室的底表面之间的绝缘构件（4b）。 静电吸盘（41）吸收基板。 静电卡盘由电介质和内电极（42）构成。 电源（43）通过开关（44）连接到内部电极。 （附图标记）（24）匹配器

公开(公告)号：KR100810804B1

公开(公告)日：2008-03-06

申请号：KR1020060084292

申请日：2006-09-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시무라아키히코 ,  곤도히로시 ,  유키나베야마

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/203 ,  H01L21/205

Abstract: 본 발명의 목적은 진공 처리실로의 수분의 혼입을 확실하게 방지할 수 있는 진공 처리 장치를 제공하는 데에 있다.
본 발명에 있어서는, 진공 처리실(10)과 로드 로크실(20) 사이에는, 각각 밸브체(31a, 31b)를 갖는 게이트 밸브(30a, 30b)가 이중으로 배치되어 있다. 또한, 로드 로크실(20)에는 컨덕턴스가 상이한 세 개의 배기관(21, 22, 23)이 접속되어 있고, 각각 개폐 밸브(62, 63, 64)를 개재하여 진공 펌프(60)에 접속되어 있다. 또한, 로드 로크실(20)의 내부에 N
2 가스를 도입하는 N
2 가스 공급원(26)도 접속되어 있다.

公开(公告)号：KR1020080020555A

公开(公告)日：2008-03-05

申请号：KR1020070087506

申请日：2007-08-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시무라아키히코 ,  사에구사나오야

IPC: H01L21/683 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6723 ,  G05B19/41815 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/68714 ,  H01L21/68742

Abstract: A substrate mounting unit is provided to restrain generation of process nonuniformity by controlling lifting of a substrate to be processed with respect to a mounting unit. A flexible substrate(G) to be processed is mounted on a mounting unit. A plurality of lifter pins(8a,8b) are prepared in a manner that appears and disappears with respect to a mounting surface of the mounting unit, supporting the substrate while moving up/down the substrate between a loading/unloading position of the substrate on the mounting unit and a mounting position on the mounting unit. A driving unit(9a,9b) drives the lifter pins. The plurality of lifter pins include a first lifter pin for supporting the main circumference of the substrate and a second lifter pin for supporting the center part of the substrate. When the substrate is elevated, the driving unit protrudes the first lifter pin higher than the second lifter pin so that the substrate is stably supported while the substrate is bent as a downward convex shape. The driving unit can independently drive the first and second lifter pins.

Abstract translation: 提供了一种衬底安装单元，用于通过控制相对于安装单元的待处理衬底的提升来抑制工艺不均匀的产生。 待加工的柔性基板（G）安装在安装单元上。 多个升降器销（8a，8b）以相对于安装单元的安装表面出现和消失的方式被准备，在基板的加载/卸载位置之间向上/向下移动基板的同时支撑基板 安装单元和安装单元上的安装位置。 驱动单元（9a，9b）驱动提升销。 多个提升销包括用于支撑基板的主圆周的第一升降销和用于支撑基板的中心部分的第二升降销。 当基板升高时，驱动单元使第一升降器销突出于高于第二升降销的第一升降器销，使得基板稳定地被支撑，同时基板被弯曲成向下凸出的形状。 驱动单元可以独立地驱动第一和第二升降器销。

公开(公告)号：KR101738204B1

公开(公告)日：2017-05-19

申请号：KR1020130023847

申请日：2013-03-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카세이지 ,  시무라아키히코

IPC: H01L21/67

Abstract: 본발명은기판처리장치의구성을복잡하게하지않고처리실내부품을빠르게냉각할수 있는처리실내부품의냉각방법을제공하기위한것으로, 기판 G에드라이에칭처리를실시하는기판처리장치(10)에있어서, 서로분리가능한기부(11a) 및덮개부(11b)로이루어지는챔버(11) 내에배치된스테이지(12)를냉각할때, 챔버(11) 내의압력을대기압으로조정하고, 기부(11a)로부터덮개부(11b)를이격시켜서챔버(11)의측벽부의전체둘레에걸쳐서개방부(11d)를형성하여챔버(11) 내및 대기를연통시키고, 배기계(14)를사용하여챔버(11) 내에기류를형성하고, 스테이지(12)의온도가 60℃이하라고판정된경우, 배기계(14)의작동을정지하여챔버(11) 내의기류를정지시킨다.