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公开(公告)号：KR100832385B1
公开(公告)日：2008-05-26
申请号：KR1020050127847
申请日：2005-12-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C14/547 , C23C14/12
Abstract: 본 발명은 증착막을 형성하는 경우, 형성되는 증착막의 막 두께 제어성이 양호해지는 증착 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
내부에 피처리 기판을 유지하는 처리 용기와, 상기 피처리 기판에 증착하는 증착 재료를 유지하는 증착원을 갖는 증착 장치로서, 상기 처리 용기 내에 퇴적된 증착막의 막 두께를 측정하는 측정 수단을 포함하며, 상기 측정 수단은 상기 증착막에 광을 조사함으로써 상기 막 두께를 측정하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.-
公开(公告)号：KR1020080045253A
公开(公告)日：2008-05-22
申请号：KR1020087007720
申请日：2006-12-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: C23C16/448 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4481
Abstract: A feedstock supply unit for evaporating or sublimating feedstock and supplying the resulting vapor to a treatment vessel in vapor deposition equipment, which is equipped with a feedstock vessel for holding the feedstock, a gas introduction port for supplying a carrier gas to the inside of the feedstock vessel, and a gas discharge port for discharging the evaporated or sublimated feedstock together with the carrier gas in order to supply them to the treatment vessel, characterized in that the feedstock vessel is provided with a gas flow controller for controlling the flow of the carrier gas in the inside thereof.
Abstract translation: 一种原料供应单元，用于蒸发或升华原料并将所得蒸气供应到气相沉积设备中的处理容器中，所述蒸气沉积设备装备有用于保持原料的原料容器，用于将原料气体供应到原料内部的气体引入口 容器和气体排出口，用于与载气一起排出蒸发或升华的原料，以便将其供应到处理容器，其特征在于，原料容器设置有气体流量控制器，用于控制载气的流动 在其内部。
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公开(公告)号：KR100981474B1
公开(公告)日：2010-09-10
申请号：KR1020087007720
申请日：2006-12-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: C23C16/448 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4481
Abstract: 증착 장치의 처리 용기에 원료를 증발 또는 승화시켜서 공급하는 원료 공급 장치에 있어서, 내부에 상기 원료를 유지하는 원료 용기와, 상기 원료 용기의 내부에 캐리어 가스를 공급하는 가스 도입구와, 상기 캐리어 가스와 함께 증발 또는 승화된 상기 원료를 상기 처리 용기에 공급하기 위해서 배출하는 가스 배출구를 갖고, 상기 원료 용기의 내부에 상기 캐리어 가스의 흐름을 제어하는 가스 흐름 제어부를 마련한 것을 특징으로 하는 원료 공급 장치가 제공된다.
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公开(公告)号：KR1020060072089A
公开(公告)日：2006-06-27
申请号：KR1020050127847
申请日：2005-12-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: C23C14/547 , C23C14/12
Abstract: 본 발명은 증착막을 형성하는 경우, 형성되는 증착막의 막 두께 제어성이 양호해지는 증착 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
내부에 피처리 기판을 유지하는 처리 용기와, 상기 피처리 기판에 증착하는 증착 재료를 유지하는 증착원을 갖는 증착 장치로서, 상기 처리 용기 내에 퇴적된 증착막의 막 두께를 측정하는 측정 수단을 포함하며, 상기 측정 수단은 상기 증착막에 광을 조사함으로써 상기 막 두께를 측정하는 것을 특징으로 하는 증착 장치.
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