公开(公告)号：KR100976207B1

公开(公告)日：2010-08-17

申请号：KR1020087005619

申请日：2007-04-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 노자와토시히사 ,  코타니코지 ,  타나카코우지

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/3065

CPC classification number: F17D1/04 ,  C23C16/45502 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32834 ,  H01J2237/1825 ,  Y10T137/0368

Abstract: 처리 장치(40)는 피처리체를 올려놓는 재치대가 내부에 형성된 처리 용기(42)와, 처리 용기(42) 내의 분위기를 배기하기 위한 진공 펌프(71, 72)와 압력 제어 밸브(68)를 갖는 배기계(64)와, 처리 용기(42) 내에 형성되어 가스 분사공(102)을 갖는 가스 분사 수단(98)과, 가스 분사 수단(98)으로 처리 가스를 공급하는 가스 공급 수단(100)을 구비하고 있다. 처리 장치(40) 전체는 제어 수단(114)에 의해 제어된다. 제어 수단(114)은 배기계(64) 및 가스 공급 수단(100)을 제어하여, 소정의 처리를 개시할 때, 처리 용기(42) 내의 분위기를 배기계(64)에 의해 배기하면서 규정 유량보다도 큰 유량의 처리 가스를 단시간 공급하고, 그 후에 규정 유량의 처리 가스를 공급한다.
처리 장치, 배기계, 가스 공급 수단

公开(公告)号：KR1020080037704A

公开(公告)日：2008-04-30

申请号：KR1020087005619

申请日：2007-04-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 노자와토시히사 ,  코타니코지 ,  타나카코우지

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/3065

CPC classification number: F17D1/04 ,  C23C16/45502 ,  H01J37/3244 ,  H01J37/32449 ,  H01J37/32834 ,  H01J2237/1825 ,  Y10T137/0368

Abstract: A processing apparatus (40) is provided with a process container (42) wherein a placing table is arranged for placing a subject to be processed; an exhaust system (64), which has vacuum pumps (70, 72) and a pressure control valve (68) for exhausting atmosphere in the process container (42); a gas jetting means (98), which is arranged inside the process container (42) and has a gas jetting port (102); and a gas supply means (100) for supplying a process gas to the gas jetting means (98). The entire processing apparatus (40) is controlled by a control means (114). The control means (114) controls the exhaust system (64) and the gas supply means (100). At the time of starting prescribed processing, the process gas of a flow quantity larger than a prescribed flow quantity is supplied for a short time, while exhausting the atmosphere in the process container (42) by the exhaust system (64), and then, the process gas of a prescribed flow quantity is supplied.

Abstract translation: 一种处理装置（40）设置有处理容器（42），其中放置台布置用于放置待处理的对象; 排气系统（64），其具有用于排出处理容器（42）中的气氛的真空泵（70,72）和压力控制阀（68）; 气体喷射装置（98），其布置在处理容器（42）的内部并具有气体喷射口（102）; 以及用于向气体喷射装置（98）供给处理气体的气体供给装置（100）。 整个处理装置（40）由控制装置（114）控制。 控制装置（114）控制排气系统（64）和气体供给装置（100）。 在开始规定处理时，通过排气系统（64）排出大于规定流量的流量的处理气体，同时排出处理容器（42）中的气氛， 供给规定流量的处理气体。