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公开(公告)号:KR1020050061498A
公开(公告)日:2005-06-22
申请号:KR1020057005460
申请日:2003-09-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , G05B19/418
CPC classification number: G05B19/4184 , G05B19/41865 , G05B23/0259 , G05B23/0264 , G05B23/0267 , G05B2219/31186 , G05B2219/32126 , G05B2219/32128 , G05B2219/33148 , G05B2219/33225 , G05B2219/45031 , H01L21/67276 , H01L22/20 , Y02P90/14 , Y02P90/18 , Y02P90/20 , Y02P90/86
Abstract: An Advanced Process Control (APC) system including Graphical User Interfaces (GUIs) is presented for monitoring and controlling a semiconductor manufacturing process that is performed by a semiconductor processing system. The semiconductor processing system includes a number of processing tools, a number of processing modules (chambers), and a number of sensors, and the APC system comprises an APC server, database, interface server, client workstation, and GUI component. The GUI is webbased and is viewable by a user using a web browser.
Abstract translation: 提出了包括图形用户界面(GUI)的高级过程控制(APC)系统,用于监控和控制由半导体处理系统执行的半导体制造过程。 半导体处理系统包括多个处理工具,多个处理模块(室)和多个传感器,APC系统包括APC服务器,数据库,接口服务器,客户端工作站和GUI组件。 GUI是基于web的,并且可以由使用web浏览器的用户查看。
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公开(公告)号:KR101025527B1
公开(公告)日:2011-04-04
申请号:KR1020057005460
申请日:2003-09-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02 , G05B19/418
CPC classification number: G05B19/4184 , G05B19/41865 , G05B23/0259 , G05B23/0264 , G05B23/0267 , G05B2219/31186 , G05B2219/32126 , G05B2219/32128 , G05B2219/33148 , G05B2219/33225 , G05B2219/45031 , H01L21/67276 , H01L22/20 , Y02P90/14 , Y02P90/18 , Y02P90/20 , Y02P90/86
Abstract: 반도체 처리 시스템에 의해 수행되는 반도체 제조 공정을 모니터링 및 제어하기 위한, 그래픽 사용자 인터페이스(GUI)들을 포함하는 어드밴스트 프로세스 제어(APC) 시스템이 제시되어 있다. 상기 반도체 처리 시스템은 여러 처리 툴들, 여러 처리 모듈(챔버)들, 및 여러 센서들을 포함하고, 상기 APC 시스템은 APC 서버, 데이터베이스, 인터페이스 서버, 클라이언트 워크스테이션 및 GUI 구성요소를 포함하여 이루어진다. 상기 GUI는 웹기반이며, 웹 브라우저를 이용하여 사용자가 볼 수 있다.
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