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    플라즈마 처리 장치
    2.
    发明公开
    플라즈마 처리 장치 审中-实审
    等离子体加工设备

    公开(公告)号：KR1020150013062A

    公开(公告)日：2015-02-04

    申请号：KR1020140094071

    申请日：2014-07-24

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 하가도시오

    IPC: H01L21/02 ,  H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

    CPC classification number: H01J37/32137 ,  H01J37/32091 ,  H01J37/32174 ,  H01J37/32568

    Abstract: [과제] 피처리체가 배치되는 하부 전극과 대향하여 배치되는 내측 상부 전극 및 외측 상부 전극에 고주파 전력을 분배 공급하는 용량 결합형 플라즈마 처리 장치에 있어서, 외측/내측 전력 분배비를 조절하기 위해 설치되는 가변 콘덴서의 플라즈마 밀도 분포 특성 또는 프로세스 특성의 면내 프로파일의 제어에 대한 조정 노브로서의 기능을 향상시킨다.
    [해결수단] 이 플라즈마 처리 장치에 있어서는, 내측 상부 전극(56)에 고주파 전력을 분배 공급하는 제2 급전부 내에 가변 콘덴서(96)와 직렬로 가변 인덕터(97)를 설치하는 구성에 의해, 가변 콘덴서(바리콘)(96)의 용량-외측/내측 전력 분배비에 있어서 공진점 부근의 특성을 완만하게(broad) 할 수 있다. 이것에 의해, 바리콘 용량의 가변 범위 내에서 공진점 부근의 영역을 제어 가능한 영역으로서 안정적으로 사용할 수 있다.

    Abstract translation: 电容耦合等离子体处理装置技术领域本发明涉及一种电容耦合等离子体处理装置，用于将高频功率分配到面向设置有加工体的下部电极的内部上部电极和能够改善作为调节旋钮的功能的外部上部电极以控制轮廓 在具有等离子体密度分布特性或工艺特性的表面中，以调节外部/内部功率分配速率。 在等离子体处理装置中，可变电感器（97）在第二供电器中并联安装在可变电容器（96）上，以将高频功率分配到内部上部电极（56）。 可变电容器（varicon）的电容 - 外部/内部功率分配率中的共振点周围的特性可能是宽的。 因此，可变稳定电容的可变范围内的谐振点周围的区域可以稳定地用作可控区域。

    플라즈마 처리 장치
    3.
    发明授权
    플라즈마 처리 장치 有权

    公开(公告)号：KR102252016B1

    公开(公告)日：2021-05-17

    申请号：KR1020140094071

    申请日：2014-07-24

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 하가도시오

    IPC: H01L21/02 ,  H05H1/46 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/205

    Abstract: [과제] 피처리체가배치되는하부전극과대향하여배치되는내측상부전극및 외측상부전극에고주파전력을분배공급하는용량결합형플라즈마처리장치에있어서, 외측/내측전력분배비를조절하기위해설치되는가변콘덴서의플라즈마밀도분포특성또는프로세스특성의면내프로파일의제어에대한조정노브로서의기능을향상시킨다. [해결수단] 이플라즈마처리장치에있어서는, 내측상부전극(56)에고주파전력을분배공급하는제2 급전부내에가변콘덴서(96)와직렬로가변인덕터(97)를설치하는구성에의해, 가변콘덴서(바리콘)(96)의용량-외측/내측전력분배비에있어서공진점부근의특성을완만하게(broad) 할수 있다. 이것에의해, 바리콘용량의가변범위내에서공진점부근의영역을제어가능한영역으로서안정적으로사용할수 있다.

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