公开(公告)号：KR101792444B1

公开(公告)日：2017-11-01

申请号：KR1020167000393

申请日：2014-04-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도바시가즈야 ,  하기와라아키히토

IPC: H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/461 ,  H01L21/4757 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/31111 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68764

Abstract: 산화티탄막(10)이존재하는실리콘기판(W)을스핀척(3)에보지시키고, 스핀척(3)과함께실리콘기판(W)을회전시키면서, 실리콘기판(W)에, 불화수소산과비산화성의산을포함한제 1 혼합수용액, 또는불화수소산과유기산을포함한제 2 혼합수용액을공급한다. 이것에의해산화티탄막(10)에제 1 또는제 2 혼합수용액이접촉하고, 제 1 또는제 2 혼합수용액과산화티탄막(10)과의화학반응에의해산화티탄막(10)이제거된다.

Abstract translation: 其上存在氧化钛膜10的硅基板W被支撑在旋转卡盘3上，并且硅基板W与旋转卡盘3一起旋转， 提供含有非氧化酸的第一混合水溶液或含有氢氟酸和有机酸的第二混合水溶液。 结果，氧化钛膜10与第一或第二混合水溶液接触，并且氧化钛膜10通过与第一或第二混合水溶液和过氧化钛膜10发生化学反应而形成。

公开(公告)号：KR1020160024377A

公开(公告)日：2016-03-04

申请号：KR1020167000390

申请日：2014-04-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도바시가즈야 ,  하기와라아키히토

IPC: H01L21/308 ,  H01L21/306 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/0206 ,  H01L21/0209 ,  H01L21/31111 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68764

Abstract: 산화탄탈막(10)이존재하는실리콘기판(W)을스핀척(3)에보지시키고, 스핀척(3)과함께실리콘기판(W)을회전시키면서, 실리콘기판(W)에불화수소산과유기산을포함한혼합수용액을공급한다. 이것에의해산화탄탈막(10)에불화수소산과유기산을포함한혼합수용액이접촉해서이러한화학반응에의해산화탄탈막(10)이제거된다.

Abstract translation: 在氧化钽膜除去方法和装置中，将具有氧化钽膜的硅衬底支撑在旋转卡盘上。 将包含氢氟酸和有机酸的混合水溶液供给到硅衬底，同时使硅衬底与旋转卡盘一起旋转。 混合水溶液与存在于硅衬底上的氧化钽膜接触，以通过它们之间的化学反应除去氧化钽膜。

公开(公告)号：KR1020160021809A

公开(公告)日：2016-02-26

申请号：KR1020167000393

申请日：2014-04-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도바시가즈야 ,  하기와라아키히토

IPC: H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/461 ,  H01L21/4757 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/31111 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/68764

Abstract: 산화티탄막(10)이존재하는실리콘기판(W)을스핀척(3)에보지시키고, 스핀척(3)과함께실리콘기판(W)을회전시키면서, 실리콘기판(W)에, 불화수소산과비산화성의산을포함한제 1 혼합수용액, 또는불화수소산과유기산을포함한제 2 혼합수용액을공급한다. 이것에의해산화티탄막(10)에제 1 또는제 2 혼합수용액이접촉하고, 제 1 또는제 2 혼합수용액과산화티탄막(10)과의화학반응에의해산화티탄막(10)이제거된다.