Patent search ap:("도쿄엘렉트론가부시키가이샤") AND inv:"하세가와토시오" Page 1

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发明授权
성막 장치, 성막 장치의 클리닝 방법 및 기억 매체 有权

公开(公告)号：KR101989141B1

公开(公告)日：2019-06-13

申请号：KR1020170133148

申请日：2017-10-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 노로나오타카 , 하세가와토시오 , 타케야마타마키 , 이와시타신야 , 히로세카츠히토

IPC: H01L21/67

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