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公开(公告)号：KR1020090091751A
公开(公告)日：2009-08-28
申请号：KR1020097012127
申请日：2007-11-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: G01F15/005 , G01F1/68 , G05D7/0635 , Y10T137/0396 , Y10T137/8593
Abstract: This invention provides a method for supplying a treatment gas, comprising the step of producing a treatment gas polymerizable depending upon the temperature and the step of supplying the produced treatment gas to a treating apparatus (4) for treating an object (W) with the produced treatment gas in a predetermined manner in a reduced pressure atmosphere. In supplying the treatment gas to the treating apparatus (4), the flow rate of the treatment gas is regulated with a mass flow rate control unit (34) of a low differential pressure type which comprises a diaphragm (80) and has a proper operation range of a supply pressure below the atmospheric pressure. The above constitution can regulate the supply amount (actual flow rate) of the treatment gas polymerizable depending upon the temperature, for example, HF gas in an accurate and stable manner. ® KIPO & WIPO 2009
Abstract translation: 本发明提供了一种提供处理气体的方法，其特征在于，包括以下步骤：根据温度和可生产的处理气体产生可聚合的处理气体，以及将生产的处理气体供给到用于处理物体（W）的处理设备（4） 处理气体以预定的方式在减压气氛中。 在将处理气体供给到处理装置（4）中，处理气体的流量由包括膜片（80）的低压差型的质量流量控制单元（34）调节并具有适当的操作 供气压力范围低于大气压力。 上述结构可以以准确且稳定的方式调节根据温度可聚合的处理气体的供给量（实际流量），例如HF气体。 ®KIPO＆WIPO 2009
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公开(公告)号：KR101186391B1
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：KR1020097012127
申请日：2007-11-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
CPC classification number: G01F15/005 , G01F1/68 , G05D7/0635 , Y10T137/0396 , Y10T137/8593
Abstract: 본 발명은 온도에 의존하여 중합가능한 처리 가스를 생성하는 단계와, 감압 분위기에서 소정 방식으로 피처리체(W)를 생성된 처리 가스로 처리하는 처리 장치(4)에 생성된 처리 가스를 공급하는 단계를 포함하는 처리 가스 공급 방법을 제공한다. 처리 가스를 처리 장치(4)에 공급할 때에, 처리 가스의 유량이, 다이어프램(80)을 포함하고 공급 압력의 적정 작동 범위가 대기압보다 낮은 저차압형의 질량 유량 제어 유닛(34)으로 조절된다. 상기의 구성은 예를 들어 HF 가스와 같은 온도에 의존하여 중합가능한 처리 가스의 공급량(실제 유량)을 정밀하고 안정된 방식으로 조절할 수 있다.
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