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公开(公告)号:KR100873114B1
公开(公告)日:2008-12-09
申请号:KR1020057000083
申请日:2003-06-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G06F17/50 , G05B19/418 , H01L21/00
CPC classification number: G05B19/418 , G05B2219/31334 , G05B2219/32128 , G05B2219/45031 , Y02P90/02 , Y02P90/16 , Y02P90/18 , Y02P90/185 , Y02P90/86
Abstract: 본 발명에 따르면, 반도체 처리 시스템내의 툴 및 프로세스 성능을 모니터링하는 센서들을 구성 및 셋업하기 위한 그래픽 사용자 인터페이스(GUIs)가 제시된다. 상기 반도체 처리 시스템은 다수의 처리 툴, 다수의 처리 모듈(챔버) 및 다수의 센서를 포함한다. 모든 중요한 파라미터들이 명확하고 논리적으로 디스플레이됨으로써, 사용자가 가능한 한 적은 입력으로 원하는 구성 및 셋업의 임무를 수행할 수 있도록 그래픽 디스플레이가 조직된다. GUI는 웹을 기반으로하며 웹 브라우저를 사용하는 사용자에 의하여 뷰잉될 수 있다.
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公开(公告)号:KR1020050016953A
公开(公告)日:2005-02-21
申请号:KR1020057000083
申请日:2003-06-18
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: G06F17/50 , G05B19/418 , H01L21/00
CPC classification number: G05B19/418 , G05B2219/31334 , G05B2219/32128 , G05B2219/45031 , Y02P90/02 , Y02P90/16 , Y02P90/18 , Y02P90/185 , Y02P90/86
Abstract: 본 발명에 따르면, 반도체 처리 시스템내의 툴 및 프로세스 성능을 모니터링하는 센서들을 구성 및 셋업하기 위한 그래픽 사용자 인터페이스(GUIs)가 제시된다. 상기 반도체 처리 시스템은 다수의 처리 툴, 다수의 처리 모듈(챔버) 및 다수의 센서를 포함한다. 모든 중요한 파라미터들이 명확하고 논리적으로 디스플레이됨으로써, 사용자가 가능한 한 적은 입력으로 원하는 구성 및 셋업의 임무를 수행할 수 있도록 그래픽 디스플레이가 조직된다. GUI는 웹을 기반으로하며 웹 브라우저를 사용하는 사용자에 의하여 뷰잉될 수 있다.
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