公开(公告)号：KR1020160092922A

公开(公告)日：2016-08-05

申请号：KR1020160005491

申请日：2016-01-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 세키모토에이이치 ,  후쿠시마켄지

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/68

Abstract: 단순한구성으로기판의배치상태를검출할수 있는기판처리장치를제공한다. 열처리유닛(U2)은, 웨이퍼(W)를지지하는지지대(28)와, 복수의승강핀(31)을가지고, 복수의승강핀(31)에의해지지대(28) 상에서웨이퍼(W)를승강시키는승강기구(30)와, 복수의승강핀(31) 중적어도하나와웨이퍼(W)와의접촉상태및 비접촉상태의전환의타이밍에관한정보에기초하여웨이퍼(W)의배치상태를검출하는검출기구(60)를구비한다.

Abstract translation: 提供了能够以简单的结构检测基板的布置状态的基板处理装置。 热处理单元（U2）包括：支撑晶片（W）的支撑固定件（28）; 提升机构（30），其具有多个提升销（31），并且通过多个提升销（31）将所述晶片（W）提升到所述支撑固定件（28）上; 以及检测装置（60），其基于关于所述晶片（W）的接触状态和非接触状态的转换的定时的信息与所述多个晶片（W）中的至少一个相关的信息来检测晶片（W）的布置状态 的升降销（31）。