公开(公告)号：KR101663753B1

公开(公告)日：2016-10-07

申请号：KR1020100060172

申请日：2010-06-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 세키모토에이이치 ,  고메타니야스유키 ,  오토타케시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

Abstract: 횡방향으로일렬로배치된기판보지부를구비한복수의액처리부와, 이들액처리부에대하여공용화된처리액노즐을구비한액처리장치에서, 상기처리액노즐로부터기판으로의처리액의낙하를억제하여수율의저하를방지하는것이다. 각처리액노즐에접속된플렉서블한처리액통류부재와, 상기처리액통류부재의하류측이상기지지체구동기구의이동에따라이동하고, 그상류측이상기지지체구동기구의이동에따라이동하지않도록상기액처리부에대하여그 위치를고정시키는고정부와, 상기처리액통류부재에상기고정부보다상류측에설치되며, 당해처리액통류부재의진동을검출하기위한진동센서와, 진동센서로부터의검출신호에기초하여처리액노즐로부터의액 맺힘및 처리액의적하에대한대처동작을행하는대처수단을구비하도록장치를구성한다.

公开(公告)号：KR1020020068952A

公开(公告)日：2002-08-28

申请号：KR1020020009199

申请日：2002-02-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 데구치마사토시 ,  세키모토에이이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to heat from conducting to the outside of a casing by controlling an increase of an atmospheric temperature inside a process station while using radiant heat from a heat treatment unit. CONSTITUTION: The heat treatment unit is formed in the casing(30) of the processing apparatus and has a heating section in which a heat treatment of a substrate is performed. A duct(36) is provided on a side part on the heating section side of the casing. A cooling flow passage is formed in the duct for allowing a cooling fluid to flow therethrough. Heat generated from the heating section is prevented from conducting by an air current flowing in the duct. The heat is absorbed by the cooling fluid.

Abstract translation: 目的：通过在使用来自热处理单元的辐射热的同时控制处理站内的大气温度的升高，提供基板处理装置，从而从壳体的外部加热。 构成：热处理单元形成在处理装置的壳体（30）中，具有进行基板的热处理的加热部。 在壳体的加热部侧的侧部设置有管道（36）。 在管道中形成冷却流路，以使冷却流体流过。 通过在管道中流动的气流阻止从加热部产生的热量。 热被冷却液吸收。

公开(公告)号：KR1020170071425A

公开(公告)日：2017-06-23

申请号：KR1020160168403

申请日：2016-12-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 시게토미겐이치 ,  사이쿠사다케시 ,  세키모토에이이치 ,  후쿠도메다카유키 ,  요시하라고오스케 ,  에노키다스구루 ,  다케시타가즈히로 ,  우메키가즈토

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/324 ,  H01L21/66 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

CPC classification number: H01L21/67248 ,  H01L21/67103 ,  H05B1/0233 ,  H05B2203/037

Abstract: 기판의면내에있어서나기판사이에있어서나, 균일성이양호한가열처리를행할수 있는기술을제공하는것. 각각기판을적재대에적재하여가열하는복수의가열모듈을구비한기판처리장치에있어서, 상기적재대에복수설치되고, 서로독립해서발열량이제어되는히터와, 상기복수의히터각각에대응하는기판의피가열부위에대해, 미리결정된제1 시점으로부터제2 시점에이르기까지의사이의적산열량이 1대의적재대중에서균일하고, 또한복수의가열모듈의사이에서균일하도록제어신호를출력하는제어부를구비하도록장치를구성한다. 상기제1 시점은, 히터의발열량이안정되어있는상태에서적재대에기판이적재된후의기판의온도추이프로파일에있어서, 기판의프로세스온도를향하는승온도중의시점이고, 상기제2 시점은상기온도추이프로파일에있어서기판이처리온도에도달한후의시점이다.

Abstract translation: 本发明提供一种能够在基板的表面中的基板的表面中以良好的均匀性或均匀性进行热处理的技术。 具有多个加热模块的加热一种基板处理装置来加载抵靠衬底对应于加热器和安装到安装表上的多个所述基板的所述各装载，独立地热输出被控制到彼此，所述多个加热器中的 对于UIPI加热部分，所述kkajiui之间累积下降到从所述第一点的第二点的预定热量，甚至从一个负荷质量，以及用于输出控制信号是多个加热模块中均匀的控制单元 从而构成一个单元。 在第一时间，在在状态在载置台上的基板后的基板温度趋势轮廓，其中所述加热器稳定负载的热值，并且在朝向提高基板的处理温度的方式点，第二时间点是这样的温度 这是衬底在过渡曲线中达到处理温度之后的时间点。

公开(公告)号：KR1020160092922A

公开(公告)日：2016-08-05

申请号：KR1020160005491

申请日：2016-01-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 세키모토에이이치 ,  후쿠시마켄지

IPC: H01L21/66 ,  H01L21/683 ,  H01L21/687 ,  H01L21/68

Abstract: 단순한구성으로기판의배치상태를검출할수 있는기판처리장치를제공한다. 열처리유닛(U2)은, 웨이퍼(W)를지지하는지지대(28)와, 복수의승강핀(31)을가지고, 복수의승강핀(31)에의해지지대(28) 상에서웨이퍼(W)를승강시키는승강기구(30)와, 복수의승강핀(31) 중적어도하나와웨이퍼(W)와의접촉상태및 비접촉상태의전환의타이밍에관한정보에기초하여웨이퍼(W)의배치상태를검출하는검출기구(60)를구비한다.

Abstract translation: 提供了能够以简单的结构检测基板的布置状态的基板处理装置。 热处理单元（U2）包括：支撑晶片（W）的支撑固定件（28）; 提升机构（30），其具有多个提升销（31），并且通过多个提升销（31）将所述晶片（W）提升到所述支撑固定件（28）上; 以及检测装置（60），其基于关于所述晶片（W）的接触状态和非接触状态的转换的定时的信息与所述多个晶片（W）中的至少一个相关的信息来检测晶片（W）的布置状态 的升降销（31）。

公开(公告)号：KR1020110004278A

公开(公告)日：2011-01-13

申请号：KR1020100060172

申请日：2010-06-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 세키모토에이이치 ,  고메타니야스유키 ,  오토타케시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70341 ,  H01L21/302

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a storage media are provided to maintain the yield by preventing a processing liquid from dropping on a substrate and a substrate supporting part. CONSTITUTION: Liquid processing parts(11a to 11c) comprises a spin chuck(12a) in a cup with an opening in order to horizontally support a substrate. A resist supplying part(3) comprises a driving unit(31), an arm(33), and a collecting nozzle(40). A processing liquid nozzle is installed to a support in order to supply the processing liquid to the substrate. A nozzle bath(29) is installed to set the processing liquid nozzle to be stood by. A support driving unit moves the processing liquid nozzle.

Abstract translation: 目的：提供液体处理设备，液体处理方法和存储介质，以通过防止处理液体在基板和基板支撑部件上掉落来保持产量。 构成：液体处理部件（11a至11c）包括具有开口的杯中的旋转卡盘（12a），以水平地支撑基板。 抗蚀剂供应部分（3）包括驱动单元（31），臂（33）和收集喷嘴（40）。 将处理液喷嘴安装到支撑件上以便将处理液体供应到基板。 安装喷嘴槽（29）以设置要处理的处理液喷嘴。 支撑驱动单元移动处理液喷嘴。

公开(公告)号：KR100848772B1

公开(公告)日：2008-07-28

申请号：KR1020020009199

申请日：2002-02-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 데구치마사토시 ,  세키모토에이이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67109

Abstract: 본 발명은 기판의 처리를 행하는 기판처리장치로서, 기판처리장치의 케이싱내에 설치되어, 기판의 가열처리가 행하여지는 가열부를 가진 가열처리부와, 케이싱의 가열부측의 측부에 설치된 덕트와, 이 덕트에 설치되어, 냉각유체가 흐르는 냉각유로를 가진다. 가열부에서 발생한 열은 덕트내를 흐르는 기류에 의해서 전도가 억제되며, 더욱이 냉각유체에 의해서 열이 흡수된다. 따라서, 케이싱 외부로 열이 전해지는 것을 억제할 수 있다.

Abstract translation: 在加热部分中的本发明和如安装在壳体侧管的加热侧，其具有一个加热该管道用于衬底的执行处理进行的基板处理装置，它安装在一基板处理装置，基板的热处理的壳体 并具有冷却流体流过的冷却流路。 在加热单元中产生的热量通过在管道中流动的气流被抑制，并且热量被冷却流体吸收。 因此，可以防止热量传递到壳体的外部。