公开(公告)号：KR101707276B1

公开(公告)日：2017-02-15

申请号：KR1020140017012

申请日：2014-02-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루야아츠키 ,  히카와가즈시

IPC: H05H1/00 ,  H05H1/46

Abstract: (과제) 아크방전의발생을정확하게검지할수 있는플라즈마처리장치를제공한다. (해결수단) 플라즈마를이용하여기판 G에처리를실시하는플라즈마처리장치(10)는, 고주파전력이공급되어내부에플라즈마가발생하는챔버(11)와, 고주파전력의진행파전압 Vf를시간적으로미분하는제 1 미분회로(21)와, 고주파전력의반사파전압 Vr을시간적으로미분하는제 2 미분회로(23)와, dVr/dt-dVf/dt를산출하고, 그산출된 dVr/dt-dVf/dt가아크방전검출치를상회하는경우에챔버(11) 내에서아크방전이발생한것으로판정하여신호를송신하는콤퍼레이터(22)와, dVf/dt가음이되는경우, dVr/dt-dVf/dt가작아지도록, dVf/dt를 0으로하는다이오드(25)를구비한다.

Abstract translation: 本发明涉及能够正确地检测电弧放电产生的等离子体处理器; 使用等离子体处理衬底（G）的等离子体处理器包括以下结构：供给高频功率以在内侧产生等离子体的腔室（11） 用于对高频功率的行波电压Vf执行时间微分的第一微分电路（21）; 用于对高频功率的反射波电压Vr进行时间微分的第二微分电路（23） 计算dVr / dt-dVf / dt的比较器（22），当计算出的dVr / dt-dVf / dt超过电弧放电检测值时，确定在室（11）中发生电弧放电，从而发送信号 ; 和二极管，当dVf / dt为负值时，dVf / dt被设置为0，因此可以减小dVr / dt-dVf / dt。

公开(公告)号：KR1020140107124A

公开(公告)日：2014-09-04

申请号：KR1020140017012

申请日：2014-02-14

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루야아츠키 ,  히카와가즈시

IPC: H05H1/00 ,  H05H1/46

CPC classification number: H05H1/00 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/46

Abstract: An objective of the present invention is to provide a plasma processing apparatus capable of exactly detecting generation of arc discharge. A plasma processing apparatus (10) for performing processing on a substrate G using plasma includes: a chamber (11) to which high frequency power is supplied to generate plasma therein; a first differentiation circuit (21) to temporally differentiate a traveling wave voltage Vf of high frequency power; a second differentiation circuit (23) to temporally differentiate a reflective wave voltage Vr of high frequency power; a comparator (22) to calculate dVr/dt-dVf/dt and to determine that arc discharge is generated in a chamber (11) when the dVr/dt-dVf/dt exceeds an arc discharge detection value; and a diode (25) to control the dVf/dt to be 0 so that the dVr/dt-dVf/dt is reduced when dVf/dt is negative.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能精确检测电弧放电产生的等离子体处理装置。 使用等离子体对基板G进行处理的等离子体处理装置（10）包括：向其供给高频电力以在其中产生等离子体的室（11）; 第一微分电路（21），用于在时间上区分高频功率的行波电压Vf; 第二微分电路（23），用于在时间上区分高频功率的反射波电压Vr; 当dVr / dt-dVf / dt超过电弧放电检测值时，计算dVr / dt-dVf / dt并确定在室（11）中产生电弧放电的比较器（22） 以及将dVf / dt控制为0的二极管（25），使得当dVf / dt为负时dVr / dt-dVf / dt减小。