公开(公告)号：KR102233875B1

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：KR1020130166928A

申请日：2013-12-30

Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사

Inventor： 강지훈 ,  이혜원 ,  이승욱 ,  이숙 ,  임재봉

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/004 ,  G03F7/029 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276

Abstract: 본 발명의 네거티브톤 현상(NTD)에 의한 패턴 형성 방법은, 기판과 포토레지스트 조성물층 사이에 광산 발생제를 포함하는 반사방지 코팅 조성물층을 형성하여 수행함으로써, 노광시에 포토레지스트 조성물층의 디블로킹을 보다 활성화시켜 현상된 패턴이 쓰러지는 현상을 방지하고 패턴의 최소 선폭 특성을 향상시킬 수 있다

公开(公告)号：KR102233875B1

公开(公告)日：2021-03-30

申请号：KR1020130166928

申请日：2013-12-30

Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사

Inventor： 강지훈 ,  이혜원 ,  이승욱 ,  이숙 ,  임재봉

IPC: G03F7/038 ,  G03F7/09 ,  H01L21/027

Abstract: 본발명의네거티브톤현상(NTD)에의한패턴형성방법은, 기판과포토레지스트조성물층사이에광산발생제를포함하는반사방지코팅조성물층을형성하여수행함으로써, 노광시에포토레지스트조성물층의디블로킹을보다활성화시켜현상된패턴이쓰러지는현상을방지하고패턴의최소선폭특성을향상시킬수 있다

公开(公告)号：KR1020150077949A

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：KR1020130166928

申请日：2013-12-30

Applicant: 롬엔드하스전자재료코리아유한회사

Inventor： 강지훈 ,  이혜원 ,  이승욱 ,  이숙 ,  임재봉

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/004 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26

CPC classification number: G03F7/0382 ,  G03F7/091 ,  H01L21/0276

Abstract: 본발명의네거티브톤현상(NTD)에의한패턴형성방법은, 기판과포토레지스트조성물층사이에광산발생제를포함하는반사방지코팅조성물층을형성하여수행함으로써, 노광시에포토레지스트조성물층의디블로킹을보다활성화시켜현상된패턴이쓰러지는현상을방지하고패턴의최소선폭특성을향상시킬수 있다

Abstract translation: 通过负色调显影（NTD）形成图案的方法在基板和光致抗蚀剂组合物层之间形成包括光酸产生剂的抗反射涂层组合物层，并且更多地在曝光中激活光刻胶组合物层的去块，从而防止 发展模式的下降现象，并提高了图案的最小线宽特性。