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公开(公告)号:KR100573499B1
公开(公告)日:2006-04-26
申请号:KR1020027001359
申请日:2000-07-25
Applicant: 사이머 엘엘씨
IPC: H01S3/00
Abstract: 2000Hz이상의 비율로 제어되는 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하는 고펄스율 펄스전원(20)이 개시되어 있다. 상기 전원(20)은 충전 커패시터(42), 고체 스위치(46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(30)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로(61, 65)에서 압축되고 승압 펄스 변압기(56)는 피크전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 안정화 전원은 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그래밍된 프로세서(102)를 포함하는 펄스제어시스템은 초당 적어도 2000전하의 비율로 약 1%미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다.
펄스전력 시스템, 펄스변압기, 압축회로, 피킹 커패시터, 가포화 인덕터, 펄스발생회로, 누설전류-
公开(公告)号:KR1020020032545A
公开(公告)日:2002-05-03
申请号:KR1020027001587
申请日:2000-07-25
Applicant: 사이머 엘엘씨
IPC: H01S3/00
Abstract: 2000㎐ 이상의 비율로 제어되는 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하는 고펄스율 펄스전원(20)이 개시되어 있다. 상기 전원(20)은 충전 커패시터(20), 고체 스위치(44-46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(50)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로에서 압축되고 승압 펄스 변압기는 피크 전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 안정화 전원은 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그램된 프로세서(102)를 포함하는 펄스 제어 시스템은 초 당 적어도 4000 전하의 비율로 약 1% 미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다. 2000 내지 4000㎐ 이상의 펄스율에서 동작할 수 있는 바람직한 실시예에서, 가포화 인덕터(48,54,64)의 수냉장치가 제공된다.
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公开(公告)号:KR100421273B1
公开(公告)日:2004-03-09
申请号:KR1020017000557
申请日:1999-06-24
Applicant: 사이머 엘엘씨
IPC: H01S3/00
CPC classification number: G03F7/70483 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70575 , H01S3/097 , H01S3/225 , H03K3/57 , H03K17/80
Abstract: A high pulse rate pulse power source for supplying controlled high energy electrical pulses at rates of 2000 Hz or greater. The source includes a pulse generating circuit including a charging capacitor, a solid state switch and a current limiting inductor. Pulses generated in the pulse generating circuit are compressed in at least two pulse compression circuits and a step-up pulse transformer increases peak voltage to at least 12,000 volts. A very fast regulated power supply is provided for charging the charging capacitor in less than 400 microseconds and a pulse control system including a programmed processor controls the charging of the charging capacitor to an accuracy of less than about one percent at a rate of at least 2000 charges per second.
Abstract translation: 用于以2000 Hz或更高速率提供受控高能电脉冲的高脉冲速率脉冲电源。 该源包括脉冲发生电路,该电路包括充电电容器,固态开关和限流电感器。 脉冲发生电路中产生的脉冲在至少两个脉冲压缩电路中被压缩,并且升压脉冲变压器将峰值电压增加到至少12,000伏。 提供非常快的稳压电源,用于在小于400微秒的时间内对充电电容器充电,并且包括编程处理器的脉冲控制系统以至少2000的速率控制充电电容器的充电精度小于约1% 每秒收费。
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公开(公告)号:KR100585624B1
公开(公告)日:2006-06-07
申请号:KR1020027001587
申请日:2000-07-25
Applicant: 사이머 엘엘씨
IPC: H01S3/00
Abstract: 2000㎐ 이상의 비율로 제어되는 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하는 고펄스율 펄스전원(20)이 개시되어 있다. 상기 전원(20)은 충전 커패시터(20), 고체 스위치(44-46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(50)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로에서 압축되고 승압 펄스 변압기는 피크 전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 안정화 전원은 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그램된 프로세서(102)를 포함하는 펄스 제어 시스템은 초 당 적어도 4000 전하의 충전속도로 약 1% 미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다. 2000 내지 4000㎐ 이상의 펄스율에서 동작할 수 있는 바람직한 실시예에서, 가포화 인덕터(48,54,64)의 수냉장치가 제공된다.
펄스전력 시스템, 펄스변압기, 압축회로, 피킹 커패시터, 가포화 인덕터, 펄스발생회로, 누설전류, 수냉장치-
公开(公告)号:KR1020020021168A
公开(公告)日:2002-03-18
申请号:KR1020027001359
申请日:2000-07-25
Applicant: 사이머 엘엘씨
IPC: H01S3/00
Abstract: 2000Hz이상의 비율로 제어되는 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하는 고펄스율 펄스전원(20)이 개시되어 있다. 상기 전원(20)은 충전 커패시터(42), 고체 스위치(46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(30)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로(61, 65)에서 압축되고 승압 펄스 변압기(56)는 피크전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 안정화 전원은 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그래밍된 프로세서(102)를 포함하는 펄스제어시스템은 초당 적어도 2000전하의 비율로 약 1%미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다.
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公开(公告)号:KR1020010071890A
公开(公告)日:2001-07-31
申请号:KR1020017000557
申请日:1999-06-24
Applicant: 사이머 엘엘씨
IPC: H01S3/00
Abstract: 2000Hz이상의 비율로 제어된 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하기 위한 고펄스율 펄스 전원(20). 상기 전원(20)은 충전 커패시터(42), 고체 스위치(46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(30)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로(61, 65)에서 압축되고 승압 펄스 변압기(56)는 피크전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 정류 전원장치는 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그래밍된 프로세서(102)를 포함하는 펄스제어시스템은 초당 적어도 2000전하의 비율로 약 1%미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다.
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