公开(公告)号：KR100598552B1

公开(公告)日：2006-07-07

申请号：KR1020047008173

申请日：2002-10-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 어쇼프알렉산더아이. ,  네스리차드엠.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/0385 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/134 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2308 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: Feedback timing control equipment and process for an injection seeded modular gas discharge laser. A preferred embodiment is a system capable of producing high quality pulsed laser beams at pulse rates of about 4,000 Hz or greater and at pulse energies of about 5 to 10 mJ or greater for integrated outputs of about 20 to 40 Watts or greater. The feedback timing control is programmed to permit in some circumstances discharges timed so that no significant laser energy is output from the system. Use of this technique permits burst mode operation in which the first discharge of a burst is a no-output discharge so that timing parameters for each of the two chambers can be monitored before the first laser output pulse of the burst. Two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator producing a very narrow band seed beam which is amplified in the second discharge chamber. The chambers can be controlled separately permitting optimization of wavelength parameters in the master oscillator and optimization of pulse energy parameters in the amplifying chamber.

公开(公告)号：KR1020040108718A

公开(公告)日：2004-12-24

申请号：KR1020047016139

申请日：2003-04-09

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 멜니츄크스티븐티. ,  파르틀로윌리암엔. ,  포멘코프이고르브이. ,  올리버아이로저 ,  네스리차드엠. ,  보워링노버트 ,  코디킨올레 ,  레티그커티스엘. ,  브루멘스톡게리엠 ,  다이어티모시에스. ,  시몬스로드니디. ,  호프만저지알. ,  존슨알마크

IPC: H05H1/04 ,  H05H1/34 ,  G01J1/00

CPC classification number: H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70916 ,  H01S3/005 ,  H05G2/005 ,  H05G2/008 ,  H05H1/06

Abstract: 신뢰성있고, 고반복율을 갖는, 제조라인에 알맞는 고에너지 포톤 소스로서, 소망하는 극자외선(EUV) 파장 범위내의 방사 라인을 갖는 원자 엘리먼트를 함유하는 핫 플라즈마는 진공 펌프에서 산출된다. EUV 광원은 유닛은 스테퍼 머신과 같은 리소그래피에 직접적으로 통합된다. 통합된 부품들로는 부재 번호 120으로 표기된 것에 모두 나타난, 정류자, 고체-상태 펄스 파워 유닛의 압축 헤드 및 진공 베셀을 포함한다. 지원 장비는 지원 장비 캐비넷(122)에 위치되고, 러프 진공 펌프 및 고압 워터 펌프는 제3 캐비넷(124)에 위치된다. 상기 펄스 파워 유닛은 버스트 기준으로 20 와트를 초과하고 연속 기준으로 5 와트를 초과하는 비율로 EUV 광을 중간 포커스에 산출하기에 충분한 전위 및 충분한 에너지를 갖는 전기 펄스를 제공한다.

公开(公告)号：KR1020030041151A

公开(公告)日：2003-05-23

申请号：KR1020037004934

申请日：2001-09-25

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 마이어데이비드더블유. ,  베사우쉘레허브에이. ,  어쇼브알렉산더아이. ,  파틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스팔라쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고브이. ,  우자츠도우스키리차드씨. ,  판지아오지앙제이. ,  온켈스에케하르트디. ,  네스리차드엠. ,  브라운다니엘제이.더블유.

IPC: H01S3/10

CPC classification number: H01S3/2366 ,  G01J9/00 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라메터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라메터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.

Abstract translation: 一种注入式模块化气体放电激光系统，能够以大约4,000Hz或更高的脉冲速率和大约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量脉冲激光束。 提供了两个独立的放电室，其中一个是主振荡器的一部分，产生在第二放电室中放大的非常窄带的种子束。 这些室可以分开控制，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 ArF准分子激光系统中的一个优选实施例被配置为MOPA并且被专门设计用作集成电路光刻的光源。 在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇，该单个切向风扇提供足够的气流以允许通过在比脉冲之间的大约0.25毫秒更少的时间内清除来自放电区域的碎片而以4000Hz或更大的脉冲速率进行操作。 主振荡器配备有线变窄的封装，该封装具有非常快速的调谐反射镜，其能够以4000Hz或更高的重复率以脉冲至脉冲的方式控制中心线波长，精度低于0.2μm。

公开(公告)号：KR1020020032545A

公开(公告)日：2002-05-03

申请号：KR1020027001587

申请日：2000-07-25

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파틀로윌리엄엔. ,  네스리차드엠. ,  로스웨일다니엘에이. ,  멜처폴씨. ,  스미스브레트디. ,  벅스다니엘엘.

IPC: H01S3/00

Abstract: 2000㎐ 이상의 비율로 제어되는 높은 에너지의 전기 펄스를 공급하는 고펄스율 펄스전원(20)이 개시되어 있다. 상기 전원(20)은 충전 커패시터(20), 고체 스위치(44-46) 및 전류제한인덕터(48)를 포함하는 펄스발생회로(50)를 포함한다. 펄스발생회로(30)에서 발생된 펄스는 적어도 2개의 펄스압축회로에서 압축되고 승압 펄스 변압기는 피크 전압을 적어도 12,000볼트로 증가시킨다. 초고속 안정화 전원은 충전 커패시터(42)를 400마이크로초 미만내에 충전시키기 위해 제공되고 프로그램된 프로세서(102)를 포함하는 펄스 제어 시스템은 초 당 적어도 4000 전하의 비율로 약 1% 미만의 정밀도로 충전 커패시터(42)의 충전을 제어한다. 2000 내지 4000㎐ 이상의 펄스율에서 동작할 수 있는 바람직한 실시예에서, 가포화 인덕터(48,54,64)의 수냉장치가 제공된다.

公开(公告)号：KR100907299B1

公开(公告)日：2009-07-13

申请号：KR1020077019695

申请日：2002-08-28

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스플래쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨 ,  온켈스에커하드디. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지. ,  오이클레스제프리

IPC: H01S3/10

CPC classification number: G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.
펄스율, 광원, 파장, 가스 방전 레이저, 펄스, 미러, 방전 챔버, 전극

公开(公告)号：KR1020070120511A

公开(公告)日：2007-12-24

申请号：KR1020077022202

申请日：2006-03-27

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 우야즈도프스키리차드씨. ,  네스리차드엠. ,  알고츠제이.마틴 ,  플레우로프블라디미르비. ,  팔렌샤트프레드릭에이. ,  길레스피월터디. ,  무스만브라이언지. ,  스테이거토마스디. ,  스미스브래트디. ,  맥켈비토마스이.

IPC: H01S3/041

CPC classification number: H01S3/036 ,  H01F3/10 ,  H01F27/22 ,  H01F27/266 ,  H01F38/10 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2308

Abstract: A high pulse repetition rate gas discharge laser system pulse power system magnetic reactor may comprise a housing comprising a core containing compartment between an inner wall of the housing, an outer wall and a bottom wall of the housing; a cooling mechanism operative to withdraw heat from the at least one of the inner wall, outer wall and bottom of the housing; at least one two magnetic cores contained within the core containing compartment; a cooling fin disposed between each of the at least two magnetic cores; and a thermal conductivity enhancement mechanism intermediate at least one of each respective cooling fin and each respective core and a respective one of the inner wall, the outer wall or the bottom wall, the thermal conductivity enhancement mechanism comprising a band comprising a plurality of torsion spring or leaf spring elements.

Abstract translation: 高脉冲重复率气体放电激光系统脉冲功率系统磁反应器可以包括壳体，该壳体包括在壳体的内壁，外壁和壳体的底壁之间的容纳核心的隔间; 冷却机构，用于从壳体的内壁，外壁和底部中的至少一个中提取热量; 至少一个两个磁芯包含在所述芯容纳室内; 设置在所述至少两个磁芯中的每一个之间的冷却翅片; 以及在每个相应的冷却翅片和每个相应的芯部以及内壁，外壁或底壁中的相应一个中的至少一个的热导率增强机构，所述导热性增强机构包括包括多个扭转弹簧 或板簧元件。

公开(公告)号：KR1020070093464A

公开(公告)日：2007-09-18

申请号：KR1020077019695

申请日：2002-08-28

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스플래쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨 ,  온켈스에커하드디. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지. ,  오이클레스제프리

IPC: H01S3/10

CPC classification number: G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: An injection seeded modular gas discharge laser system (2) capable of producing high quality pulsed beams at pulse rates of about 4,000 Hz or greater and at pulse energies of about 5 mJ or greater. Two separate discharge chambers are provided, one of which is a part of a master oscillator (10) producing a very narrow band seed beam, which is amplified (12) in the second discharge chamber. The chambers can be controlled separately permitting separate optimization of wavelength parameters in the master oscillator and optimization of pulse energy parameters in the amplifying chamber. A preferred embodiment in the ArF excimer laser system configured as a MOPA and specifically designed for use as a light source for integrated circuit lithography. In the preferred MOPA embodiment, each chamber comprises a single tangential fan (10A) providing sufficient gas flow to permit operation at pulse rates of 4,000 Hz or greater by cleaning debris from the discharge region in less time that the approximately 0.25 milliseconds between pulses. The masters oscillation is equipped with a line narrowing package having a very fast tuning mirror capable of controlling centerline wavelength on a pulse-to-pulse basis at repetition rates of 4000 Hz or greater to a precision of less than 0.2 pm.

Abstract translation: 一种注射接种的模块化气体放电激光系统（2），其能够以约4,000Hz或更大的脉冲速率和约5mJ或更大的脉冲能量产生高质量的脉冲光束。 提供两个单独的放电室，其中之一是主振荡器（10）的一部分，其产生非常窄的带状晶体束，其在第二放电室中放大（12）。 可以单独控制室，允许主振荡器中的波长参数的单独优化和放大室中的脉冲能量参数的优化。 配置为MOPA并被专门用于集成电路光刻的光源的ArF准分子激光系统中的优选实施例。 在优选的MOPA实施例中，每个腔室包括单个切向风扇（10A），该切向风扇（10A）提供足够的气流，以允许在脉冲之间的大约0.25毫秒的时间内清除来自放电区域的碎屑。 主机振荡配备有具有非常快的调谐镜的线窄化包，能够以4000Hz或更大的重复频率在脉冲到脉冲的基础上控制中心线波长，精度低于0.2μm。

公开(公告)号：KR100421273B1

公开(公告)日：2004-03-09

申请号：KR1020017000557

申请日：1999-06-24

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 파틀로윌리엄엔. ,  벅스다니엘엘. ,  네스리차드엠. ,  로스웨일다니엘에이. ,  멜처파울씨. ,  스미스브레트디.

IPC: H01S3/00

CPC classification number: G03F7/70483 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/097 ,  H01S3/225 ,  H03K3/57 ,  H03K17/80

Abstract: A high pulse rate pulse power source for supplying controlled high energy electrical pulses at rates of 2000 Hz or greater. The source includes a pulse generating circuit including a charging capacitor, a solid state switch and a current limiting inductor. Pulses generated in the pulse generating circuit are compressed in at least two pulse compression circuits and a step-up pulse transformer increases peak voltage to at least 12,000 volts. A very fast regulated power supply is provided for charging the charging capacitor in less than 400 microseconds and a pulse control system including a programmed processor controls the charging of the charging capacitor to an accuracy of less than about one percent at a rate of at least 2000 charges per second.

Abstract translation: 用于以2000 Hz或更高速率提供受控高能电脉冲的高脉冲速率脉冲电源。 该源包括脉冲发生电路，该电路包括充电电容器，固态开关和限流电感器。 脉冲发生电路中产生的脉冲在至少两个脉冲压缩电路中被压缩，并且升压脉冲变压器将峰值电压增加到至少12,000伏。 提供非常快的稳压电源，用于在小于400微秒的时间内对充电电容器充电，并且包括编程处理器的脉冲控制系统以至少2000的速率控制充电电容器的充电精度小于约1％ 每秒收费。

公开(公告)号：KR100965770B1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：KR1020047002982

申请日：2002-08-28

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  브라운다니엘제이.,더블유. ,  베사첼레허브에이. ,  마이어스데이비드더블유. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스플래쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고르브이. ,  우자즈도우스키리차드씨. ,  온켈스에커하드디. ,  네스리차드엠. ,  스미스스코트티. ,  헐버드윌리암지. ,  오이클레스제프리

IPC: H01S3/10

CPC classification number: G01J1/4257 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2366

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율과 약 5mJ이상의 펄스에너지로 고품질의 펄스된 레이저빔을 산출할 수 있는 주입 시딩된 모듈러 가스 방전 레이저 시스템이 개시되었다. 두 개의 개별 방전 챔버가 제공되고, 하나는 제2 방전 챔버에서 증폭되는, 초협대역 시드 빔을 산출하는 마스터 오실레이터의 일부분이다. 챔버는 챔버 증폭에서 펄스 에너지 파라미터의 최적화 및 마스터 오실레이터에서 파장 파라미터의 개별 최적화를 개별적으로 허용하도록 제어된다. MOPA로서 구성된 ArF 엑시머 레이저 시스템의 바람직한 실시예는 집적회로 리소그래피를 위한 광원으로서의 사용을 위해 설계된다. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버는 펄스간에 약 0.25 밀리초 미만의 시간으로 충전 영역으로부터의 잔해를 클리어시킴으로써 4,000Hz이상의 펄스율로 동작하는 것을 허용하기 위해 충분한 가스 흐름을 제공하는 단일 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 오실레이터에는 0.2pm미만의 정밀도로 4,000Hz이상의 반복율로 펄스 기준에서 중심라인 파장을 제어할 수 있는 초고속 튜닝 미러를 갖는 라인 협소화 패키지가 구비된다.
펄스율, 광원, 파장, 가스 방전 레이저, 펄스, 미러, 방전 챔버, 전극

公开(公告)号：KR100850450B1

公开(公告)日：2008-08-07

申请号：KR1020037004934

申请日：2001-09-25

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 마이어데이비드더블유. ,  베사우쉘레허브에이. ,  어쇼브알렉산더아이. ,  파틀로윌리암엔. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  다스팔라쉬피. ,  앤더슨스튜어트엘. ,  포멘코프이고브이. ,  우자츠도우스키리차드씨. ,  판지아오지앙제이. ,  온켈스에케하르트디. ,  네스리차드엠. ,  브라운다니엘제이.더블유.

IPC: H01S3/10

CPC classification number: H01S3/2366 ,  G01J9/00 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70333 ,  G03F7/70483 ,  G03F7/70575 ,  G03F7/70933 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/038 ,  H01S3/0385 ,  H01S3/0387 ,  H01S3/0404 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/0943 ,  H01S3/097 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/09705 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/0975 ,  H01S3/104 ,  H01S3/105 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1305 ,  H01S3/134 ,  H01S3/137 ,  H01S3/139 ,  H01S3/22 ,  H01S3/2207 ,  H01S3/223 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2256 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라미터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라미터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.
엑시머 레이저, 가스 방전 레이저, 마스터 발진기, 펄스 에너지, 포토다이오드, 파워 증폭기