公开(公告)号：KR1020040111584A

公开(公告)日：2004-12-31

申请号：KR1020047017931

申请日：2003-05-05

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 룰존에이. ,  호프만토마스 ,  모톤리차드지. ,  브라운다니엘제이.더블유. ,  프로이로프블라디미르비. ,  트린쵸우크페도르 ,  이시하라도시히코 ,  어쇼프알렉사더아이. ,  위택크리스챤제이.

IPC: H01S3/03 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01S3/225 ,  G03F7/70025 ,  H01S3/036 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333 ,  H01S3/2308

Abstract: 모듈러 고반복율 자외선 가스 방전 레이저를 위한 자동 레이저 가스제어가 개시되었다. 이 레이저 가스는 레이저 시스템의 동작 수명을 통해 F
2 소비율을 모니터링하기 위한 기술, 모니터 및 프로세서를 포함한다. 이들 소비율은 소망하는 범위내에 레이저 반사 품질을 유지하기 위해 필요한 F
2 주입을 결정하기 위해 알고리즘으로 프로그램된 프로세서에 의해 사용된다. 바람직한 실시예는 2-챔버 MOPA 레이저 시스템을 위한 F
2 제어를 포함한다.

公开(公告)号：KR100997399B1

公开(公告)日：2010-11-30

申请号：KR1020047017931

申请日：2003-05-05

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 룰존에이. ,  호프만토마스 ,  모톤리차드지. ,  브라운다니엘제이.더블유. ,  프로이로프블라디미르비. ,  트린쵸우크페도르 ,  이시하라도시히코 ,  어쇼프알렉사더아이. ,  위택크리스챤제이.

IPC: H01S3/03 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01S3/225 ,  G03F7/70025 ,  H01S3/036 ,  H01S3/041 ,  H01S3/08009 ,  H01S3/09702 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

Abstract: 모듈러 고반복율 자외선 가스 방전 레이저를 위한 자동 레이저 가스제어가 개시되었다. 이 레이저 가스는 레이저 시스템의 동작 수명을 통해 F
2 소비율을 모니터링하기 위한 기술, 모니터 및 프로세서를 포함한다. 이들 소비율은 소망하는 범위내에 레이저 반사 품질을 유지하기 위해 필요한 F
2 주입을 결정하기 위해 알고리즘으로 프로그램된 프로세서에 의해 사용된다. 바람직한 실시예는 2-챔버 MOPA 레이저 시스템을 위한 F
2 제어를 포함한다.
레이저, 가스, 방전, 주입, 반사