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公开(公告)号：KR1020120003464A
公开(公告)日：2012-01-10
申请号：KR1020117025233
申请日：2010-03-18
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 이에홍 , 샌드스트롬리차드엘. , 로키츠키슬라바 , 브라운다니엘제이.더블유. , 라팍로버트제이.
CPC classification number: H01S3/225 , H01S3/02 , H01S3/0804 , H01S3/0805 , H01S3/08059 , H01S3/08072 , H01S3/08081 , H01S3/0835 , H01S3/10092 , H01S3/1053 , H01S3/235 , H01S3/2366
Abstract: 레이저는 전극 및 레이저 빔을 산출하기 위해 전극 사이에 이득 매체를 구비한 방전 챔버; 부분-반사 광학 커플러; 및 레이저 빔의 경로에서의 빔 변조 광학 시스템을 포함하는 재생 링 공진기를 포함한다. 빔 변조 광학 시스템은 레이저 빔의 프로파일을 횡단으로 확장하여 인접 필드 레이저 빔 프로파일이 레이저 내의 각각의 어퍼처를 균일하게 채우고, 재생 링 공진기는 재생 링 공진기 내의 광학 엘리먼트에서 열렌즈를 유도하는 파워에서 레이저를 동작시킬때 조건에 따라 안정적이거나 미세하게 불안정한 상태를 유지하도록 한다.
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公开(公告)号：KR101548286B1
公开(公告)日：2015-08-28
申请号：KR1020117025233
申请日：2010-03-18
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 이에홍 , 샌드스트롬리차드엘. , 로키츠키슬라바 , 브라운다니엘제이.더블유. , 라팍로버트제이.
CPC classification number: H01S3/225 , H01S3/02 , H01S3/0804 , H01S3/0805 , H01S3/08059 , H01S3/08072 , H01S3/08081 , H01S3/0835 , H01S3/10092 , H01S3/1053 , H01S3/235 , H01S3/2366
Abstract: 레이저는전극및 레이저빔을산출하기위해전극사이에이득매체를구비한방전챔버; 부분-반사광학커플러; 및레이저빔의경로에서의빔 변조광학시스템을포함하는재생링 공진기를포함한다. 빔변조광학시스템은레이저빔의프로파일을횡단으로확장하여인접필드레이저빔 프로파일이레이저내의각각의어퍼처를균일하게채우고, 재생링 공진기는재생링 공진기내의광학엘리먼트에서열렌즈를유도하는파워에서레이저를동작시킬때조건에따라안정적이거나미세하게불안정한상태를유지하도록한다.
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公开(公告)号：KR101238739B1
公开(公告)日：2013-03-04
申请号：KR1020117014864
申请日：2006-10-20
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 에르쇼프알렉산더아이. , 파틀로윌리엄엔. , 브라운다니엘제이.더블유. , 포멘코프아이고르브이. , 베르그스테츠로버트에이. , 샌드스트롬리차드엘. , 라로빅이반
CPC classification number: H01S3/225 , G03F7/70583 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/03 , H01S3/034 , H01S3/08036 , H01S3/08059 , H01S3/10092 , H01S3/105 , H01S3/2251 , H01S3/2333
Abstract: 제1가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버, 및 제1오실레이터 캐비티 내의 라인 내로우잉 모듈을 포함하는 레이저 출력 광 빔 펄스를 포함하는 출력을 산출하는 시드 레이저 오실레이터; 레이저 출력 광 빔 펄스를 포함하는 레이저 시스템 출력을 형성하기 위해 시드 레이저 오실레이터의 출력을 수신하고, 시드 레이저 오실레이터의 출력을 증폭하는 제2가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버 내에 증폭 이득 매체를 포함하는 레이저 증폭 스테이지; 및 링 파워 증폭 스테이지를 포함하는 라인 내로우드 펄스 엑시머 또는 분자 플루오르 가스방전 레이저 시스템을 포함할 수 있는 방법 및 장치가 개시된다.
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公开(公告)号：KR1020110091788A
公开(公告)日：2011-08-12
申请号：KR1020117014864
申请日：2006-10-20
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 에르쇼프알렉산더아이. , 파틀로윌리엄엔. , 브라운다니엘제이.더블유. , 포멘코프아이고르브이. , 베르그스테츠로버트에이. , 샌드스트롬리차드엘. , 라로빅이반
CPC classification number: H01S3/225 , G03F7/70583 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/03 , H01S3/034 , H01S3/08036 , H01S3/08059 , H01S3/10092 , H01S3/105 , H01S3/2251 , H01S3/2333
Abstract: 제1가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버, 및 제1오실레이터 캐비티 내의 라인 내로우잉 모듈을 포함하는 레이저 출력 광 빔 펄스를 포함하는 출력을 산출하는 시드 레이저 오실레이터; 레이저 출력 광 빔 펄스를 포함하는 레이저 시스템 출력을 형성하기 위해 시드 레이저 오실레이터의 출력을 수신하고, 시드 레이저 오실레이터의 출력을 증폭하는 제2가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버 내에 증폭 이득 매체를 포함하는 레이저 증폭 스테이지; 및 링 파워 증폭 스테이지를 포함하는 라인 내로우드 펄스 엑시머 또는 분자 플루오르 가스방전 레이저 시스템을 포함할 수 있는 방법 및 장치가 개시된다.
Abstract translation: 种子激光振荡器，用于在第一振荡器腔中产生包括激光输出光束脉冲的输出，所述激光输出光束脉冲包括第一气体放电准分子或分子氟激光腔室和机翼模块; 其中以形成一个激光系统输出，其包括一个光束脉冲接收种子激光振荡器的激光腔中的输出和第二气体排出准分子或分子氟放大增益介质，用于放大种子激光器振荡器的输出激光输出的激光 放大阶段; 公开了一种方法和设备，其可以将木材脉冲准分子或分子氟气体放电激光系统包括到包括环形功率放大级的线路中。
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公开(公告)号：KR100850450B1
公开(公告)日：2008-08-07
申请号：KR1020037004934
申请日：2001-09-25
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 마이어데이비드더블유. , 베사우쉘레허브에이. , 어쇼브알렉산더아이. , 파틀로윌리암엔. , 샌드스트롬리차드엘. , 다스팔라쉬피. , 앤더슨스튜어트엘. , 포멘코프이고브이. , 우자츠도우스키리차드씨. , 판지아오지앙제이. , 온켈스에케하르트디. , 네스리차드엠. , 브라운다니엘제이.더블유.
IPC: H01S3/10
CPC classification number: H01S3/2366 , G01J9/00 , G03F7/70025 , G03F7/70041 , G03F7/70333 , G03F7/70483 , G03F7/70575 , G03F7/70933 , H01S3/0057 , H01S3/02 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0385 , H01S3/0387 , H01S3/0404 , H01S3/041 , H01S3/08004 , H01S3/08009 , H01S3/08036 , H01S3/0943 , H01S3/097 , H01S3/09702 , H01S3/09705 , H01S3/0971 , H01S3/0975 , H01S3/104 , H01S3/105 , H01S3/1055 , H01S3/1305 , H01S3/134 , H01S3/137 , H01S3/139 , H01S3/22 , H01S3/2207 , H01S3/223 , H01S3/225 , H01S3/2251 , H01S3/2256 , H01S3/2258 , H01S3/2333
Abstract: 약 4,000Hz이상의 펄스율 및 약 5mJ이상의 펄스 에너지에서 고품질 펄스 레이저 빔을 발생시킬 수 있는 인젝션 시드 모듈 가스 방전 레이저 시스템. 두개의 분리된 방전 챔버(10A, 12B)가 제공되고, 그 중하나는 두번째 방전 챔버(12)에서 증폭되는 초협대역 살포 빔을 발생시키는 마스터 발진기(10)의 부분이다. 챔버(10A, 12A)는 마스터 발진기(10)에서 파장 파라미터 및 증폭 챔버(12A)에서 펄스 에너지 파라미터의 분리된 최적화를 분리되어 허용하도록 제어될 수 있다. MOPA로서 구성되고 집적회로 리소그래피를 위하여 광원으로서 사용을 위해 특별히 디자인된 ArF엑시머 레이저 시스템에서 바람직한 실시예. 바람직한 MOPA 실시예에서, 각각의 챔버(10A, 12A)는 펄스간 약 0.25밀리초보다 더 적은시간에서 방전 영역으로 부터찌꺼기를 정화함으로써 4,000Hz이상의 펄스율에 동작을 허용하도록 충분한 가스 흐름(11)을 제공하는 단일의 탄젠셜 팬을 포함한다. 마스터 발진기(10)는 0.2pm이하의 정확도로 4,000Hz 이상의 반복율에서 펄스 대 펄스 기반에서 중심 라인 파장을 제어할 수 있는 매우 빠른 튜닝 미러를 가지는 라인 내로우잉 패키지(16, 16A)를 장착한다.
엑시머 레이저, 가스 방전 레이저, 마스터 발진기, 펄스 에너지, 포토다이오드, 파워 증폭기-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020040111584A
公开(公告)日：2004-12-31
申请号：KR1020047017931
申请日：2003-05-05
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 룰존에이. , 호프만토마스 , 모톤리차드지. , 브라운다니엘제이.더블유. , 프로이로프블라디미르비. , 트린쵸우크페도르 , 이시하라도시히코 , 어쇼프알렉사더아이. , 위택크리스챤제이.
IPC: H01S3/03 , H01L21/027
CPC classification number: H01S3/225 , G03F7/70025 , H01S3/036 , H01S3/041 , H01S3/08009 , H01S3/09702 , H01S3/2258 , H01S3/2333 , H01S3/2308
Abstract: 모듈러 고반복율 자외선 가스 방전 레이저를 위한 자동 레이저 가스제어가 개시되었다. 이 레이저 가스는 레이저 시스템의 동작 수명을 통해 F
2 소비율을 모니터링하기 위한 기술, 모니터 및 프로세서를 포함한다. 이들 소비율은 소망하는 범위내에 레이저 반사 품질을 유지하기 위해 필요한 F
2 주입을 결정하기 위해 알고리즘으로 프로그램된 프로세서에 의해 사용된다. 바람직한 실시예는 2-챔버 MOPA 레이저 시스템을 위한 F
2 제어를 포함한다.-
公开(公告)号：KR101346609B1
公开(公告)日：2014-01-02
申请号：KR1020087004734
申请日：2006-07-12
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 자크로버트엔. , 파트로윌리엄엠. , 브라운다니엘제이.더블유.
CPC classification number: H01S3/225 , H01S3/08022 , H01S3/09702 , H01S3/1301 , H01S3/134 , H01S3/2308 , H01S3/2366
Abstract: 라인 협대화된 시드 펄스를 증폭 레이저 시스템부로 제공하는 제 1 라인 협대화된 오실레이터 레이저 시스템부를 구비하는 멀티-부분으로 구성된 레이저 시스템에서의 대역폭 제어를 위한 방법 및 장치로서, 상기 방법 및 장치는 대역폭이 아닌 제 1 레이저 시스템 동작 파라미터와 타이밍 차이 사이의 관계를 정의하는 타이밍 차 곡선과 및 원하는 타이밍 차이를 정의하는 곡선상의 원하는 포인트를 활용하는 것을 포함하고, 여기서 곡선상의 각 고유한 동작 포인트는 각각의 대역폭 값에 대응하고; 곡선상의 원하는 포인트에서의 타이밍 차이로부터 곡선상의 실제 동작 포인트까지의 실제 오프셋을 판정하고; 실제 오프셋과 원하는 대역폭에 상당하는 원하는 오프셋 사이의 오차를 판정하고; 실제 오프셋과 원하는 오프셋 사이의 오차를 제거하기 위해 발사 차동 타이밍을 변형하는 것을 포함한다.
라인 협대화, 시드 펄스, 제 2 이득 생성기 레이저 시스템부, 제 1 라인 협대화, 오실레이터, 멀티-부분으로 구성된 레이저 시스템, 대역폭 제어, 레이저 이득 매체, 차동 발사 시간, 레이저 출력 광 펄스, 대역폭 타겟, 함수, 현재 동작 포인트-
公开(公告)号：KR1020080066974A
公开(公告)日：2008-07-17
申请号：KR1020087013076
申请日：2006-10-20
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 에르쇼프알렉산더아이. , 파틀로윌리엄엔. , 브라운다니엘제이.더블유. , 포멘코프아이고르브이. , 베르그스테츠로버트에이. , 샌드스트롬리차드엘. , 라로빅이반
IPC: H01S3/22
CPC classification number: H01S3/225 , G03F7/70583 , H01S3/005 , H01S3/0057 , H01S3/03 , H01S3/034 , H01S3/08036 , H01S3/08059 , H01S3/10092 , H01S3/105 , H01S3/2251 , H01S3/2333
Abstract: A method and apparatus may comprise a line narrowed pulsed excimer or molecular fluorine gas discharge laser system which may comprise a seed laser oscillator producing an output comprising a laser output light beam of pulses which may comprise a first gas discharge excimer or molecular fluorine laser chamber; a line narrowing module within a first oscillator cavity; a laser amplification stage containing an amplifying gain medium in a second gas discharge excimer or molecular fluorine laser chamber receiving the output of the seed laser oscillator and amplifying the output of the seed laser oscillator to form a laser system output comprising a laser output light beam of pulses, which may comprise a ring power amplification stage wherein the output of the seed laser oscillator passes through the amplifying gain medium of the ring power amplification stage at least two times per loop.
Abstract translation: 一种方法和装置可以包括线变窄的脉冲准分子或分子氟气放电激光系统，其可以包括种子激光振荡器，其产生包括可以包括第一气体放电准分子或分子氟激光室的脉冲的激光输出光束的输出; 第一振荡器腔内的线窄模块; 在第二气体放电准分子或分子氟激光室中包含放大增益介质的激光放大级，其接收种子激光振荡器的输出并放大种子激光振荡器的输出，以形成激光系统输出，该激光系统输出包括：激光输出光束 脉冲，其可以包括环形功率放大级，其中种子激光振荡器的输出通过环形功率放大级的放大增益介质至少每循环两次。
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公开(公告)号：KR1020080033465A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：KR1020087004734
申请日：2006-07-12
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 자크로버트엔. , 파트로윌리엄엠. , 브라운다니엘제이.더블유.
CPC classification number: H01S3/225 , H01S3/08022 , H01S3/09702 , H01S3/1301 , H01S3/134 , H01S3/2308 , H01S3/2366
Abstract: A method and apparatus are disclosed for controlling bandwidth in a multi-portion laser system comprising a first line narrowed oscillator laser system portion providing a line narrowed seed pulse to an amplifier laser system portion, may comprise utilizing a timing difference curve defining a relationship between a first' laser system operating parameter other than bandwidth and the timing difference and also a desired point on the curve defining a desired timing difference, wherein each unique operating point on the curve corresponds to a respective bandwidth value; determining an actual offset from the timing difference at the desired point on the curve to an actual operating point on the curve; determining an error between the actual offset and a desired offset corresponding to a desired bandwidth; modifying the firing differential timing to remove the error between the actual offset and the desired offset.
Abstract translation: 公开了一种用于控制多部分激光系统中的带宽的方法和装置，其包括向放大器激光系统部分提供线窄化种子脉冲的第一线窄化振荡器激光器系统部分，可以包括利用定时差分曲线来定义 第一'激光系统操作参数而不是带宽和定时差异，并且还在曲线上的期望点定义期望的时序差，其中曲线上的每个唯一操作点对应于相应的带宽值; 确定曲线上期望点处的定时差与曲线上的实际工作点的实际偏移; 确定实际偏移与对应于期望带宽的期望偏移之间的误差; 修改击发差分定时以消除实际偏移和所需偏移之间的误差。
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公开(公告)号：KR1020060125905A
公开(公告)日：2006-12-06
申请号：KR1020067019063
申请日：2005-03-03
Applicant: 사이머 엘엘씨
Inventor： 파르틀로윌리암엔. , 브라운다니엘제이.더블유. , 포멘코프이고르브이. , 보워링노버트알. , 레티그커티스엘. , 맥팔레인조셉제. , 어쇼프알렉산더아이. , 한손비요른에이엠.
CPC classification number: H05G2/003 , B82Y10/00 , G03F7/70033 , H01S3/0085 , H01S3/0092 , H01S3/1611 , H01S3/1653 , H01S3/2255 , H01S3/2325 , H01S3/2375 , H01S3/2383 , H05G2/005 , H05G2/008
Abstract: An LPP EUV light source (20) comprises a laser initial target irradiation pulse generating mechanism (60) for irradiating a plasma initiation target (94) with an initial target irradiation pulse (55) to form an EUV generating plasma (30) having an emission region emitting in-band EUV light (40); a laser plasma irradiation pulse generating mechanism (72) for irradiating the plasma (30) with a plasma irradiation pulse (76) after the initial target irradiation pulse (55) to compress emission material in the plasma (30).
Abstract translation: LPP EUV光源（20）包括激光初始靶照射脉冲发生机构（60），用于用初始靶照射脉冲（55）照射等离子体引发靶（94）以形成具有发射的EUV产生等离子体（30） 区域发射带内EUV光（40）; 用于在初始目标照射脉冲（55）之后用等离子体照射脉冲（76）照射等离子体（30）以压缩等离子体（30）中的发射材料的激光等离子体照射脉冲产生机构（72）。
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