公开(公告)号：KR101029999B1

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：KR1020090125024

申请日：2009-12-15

Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사

Inventor： 이충호 ,  오윤찬 ,  최승호 ,  정석원 ,  이정수

IPC: H01L51/56

CPC classification number: C23C14/042 ,  B23K26/0846 ,  H01L51/56

Abstract: PURPOSE: A mask and a method of manufacturing mask and an apparatus thereof are provided to space convenience in connection process by forming a through hole in a base substrate. CONSTITUTION: A first mask member(110) comprises a first pattern portion(111), a first junction(112), and a first buffer(113). The first pattern portion comprises a plurality of slits(111a). A second mask member(120) comprises a second pattern portion(121), a second junction point(122), and a second buffer(123). The second pattern portion comprises a plurality of slits(121a). The first mask member and the second mask member are connected through a welding method.

Abstract translation: 目的：提供掩模和掩模的制造方法及其装置，以便通过在基底基底中形成通孔来实现连接过程的便利。 构成：第一掩模构件（110）包括第一图案部分（111），第一结（112）和第一缓冲器（113）。 第一图案部分包括多个狭缝（111a）。 第二掩模构件（120）包括第二图案部分（121），第二接合点（122）和第二缓冲器（123）。 第二图形部分包括多个狭缝（121a）。 第一掩模构件和第二掩模构件通过焊接方法连接。