公开(公告)号：KR101135535B1

公开(公告)日：2012-04-17

申请号：KR1020100058150

申请日：2010-06-18

Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사

Inventor： 권오섭 ,  이상조 ,  이홍로 ,  류제길

IPC: H01L21/324

Abstract: 본 발명은 레이저를 이용한 실리콘 결정화 시스템 및 실리콘 결정화 방법에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 실리콘 결정화 시스템은 라인 모양의 레이저 빔의 장축 방향을 따라 상기 레이저 빔을 진동시키기 위한 진동 장치를 포함하며, 상기 레이저 빔이 진동하는 진동 주파수는 주기적으로 생성되며 랜덤하게 변한다.

公开(公告)号：KR1020110046239A

公开(公告)日：2011-05-04

申请号：KR1020100058150

申请日：2010-06-18

Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사

Inventor： 권오섭 ,  이상조 ,  이홍로 ,  류제길

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/02675 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/082 ,  H01L21/02532 ,  H01L21/268

Abstract: PURPOSE: A silicon crystallizing system and silicon crystallizing method using laser are provided to reduce energy irregularity along with a long axis direction of a laser beam, thereby increasing the display quality of a display device. CONSTITUTION: An optical system(13) comprises a plurality of mirrors. The optical system scans an oscillated laser beam onto a substrate(14) by changing the energy distribution and direction of a laser beam. A vibration frequency controller(54) controls a vibration frequency to vibrate at least one mirror of the optical system. The vibration frequency controller includes a vibration frequency generator(54a) and a lookup table(54b) storing a vibration frequency. A data storage system(53) stores a vibration frequency generate by the vibration frequency generator.

Abstract translation: 目的：提供使用激光的硅结晶系统和硅结晶方法以减少与激光束的长轴方向的能量不均匀性，从而增加显示装置的显示质量。 构成：光学系统（13）包括多个反射镜。 光学系统通过改变激光束的能量分布和方向将振荡的激光束扫描到衬底（14）上。 振动频率控制器（54）控制振动频率以振动光学系统的至少一个反射镜。 振动频率控制器包括振动频率发生器（54a）和存储振动频率的查找表（54b）。 数据存储系统（53）存储由振动频率发生器产生的振动频率。

公开(公告)号：KR100874457B1

公开(公告)日：2008-12-17

申请号：KR1020070062189

申请日：2007-06-25

Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사

Inventor： 이홍로

IPC: H05B33/10 ,  H05B33/02

CPC classification number: H01L51/56 ,  H01L21/02356 ,  H01L22/10 ,  H01L51/529 ,  H01L2924/12044

Abstract: A method for manufacturing an organic light emitting device is provided to prevent the failure previously by determining a progressing state of the process after displaying a density range of the oxygen. A substrate is prepared(S1). An amorphous silicon film is formed on the substrate(S2). The density of the oxygen is measured on the surface of the amorphous silicon film(S3). If the oxygen content is between 2 at% and 35 at%, the amorphous silicon film is crystallized(S4). If the density of the oxygen is below 2 at%, the oxygen content at the surface of the amorphous silicon film is measured again after forming the silicon oxide film on the surface of the amorphous silicon film by performing a cleaning process and a standby process.

Abstract translation: 提供一种用于制造有机发光器件的方法，用于通过在显示氧气的密度范围之后确定处理的进行状态来先前防止故障。 制备底物（S1）。 在基板（S2）上形成非晶硅膜。 在非晶硅膜的表面测量氧的密度（S3）。 如果氧含量在2at％至35at％之间，则非晶硅膜结晶（S4）。 如果氧的密度低于2原子％，则通过进行清洁处理和待机处理，在形成非晶硅膜的表面上的氧化硅膜之后，再次测定非晶硅膜表面的氧含量。