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公开(公告)号：KR100899426B1
公开(公告)日：2009-05-27
申请号：KR1020070093538
申请日：2007-09-14
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
CPC classification number: H01L27/3258 , H01L21/31058 , H01L27/1248 , H01L2227/323
Abstract: 본 발명은 유기 전계 발광표시장치 제조방법에 관한 것으로 먼저, 평탄화막을 열처리하여 경화시키고, 에싱처리한다. 이어서, 상기 평탄화막을 표면처리하여 평탄화막의 거칠기를 더욱 감소시킬 수 있다.
따라서, 상기 평탄화막의 거칠기로 인한 유기 전계 발광표시장치의 반사율 저하 및 색좌표 변화 등의 문제점을 개선할 수 있다.
거칠기, 평탄화막-
公开(公告)号：KR1020090028166A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：KR1020070093538
申请日：2007-09-14
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
CPC classification number: H01L27/3258 , H01L21/31058 , H01L27/1248 , H01L2227/323
Abstract: A manufacturing method of the organic electroluminescent display device can solve the problem of the color coordinate change and reflection rate reduction by hardening the planarized film with the thermal process after forming the inner via-hole. The thin film transistor, the protective film(170), and the planarized film(180) are successively formed in the top of the substrate. The planarized film is exposed and developed. the first via-hole(190a) is formed to expose the protective film formed among the source/drain electrode of the thin film transistor. The thermal process is performed on the planarized film. The planarized film is hardened. The ashing process(500) is performed on the planarized film. The organic film including organic light-emitting layer is formed on the pixel electrode. The opposing electrode is formed in the front of substrate.
Abstract translation: 有机电致发光显示装置的制造方法可以通过在形成内部通孔之后通过热处理使平坦化膜硬化来解决色坐标变化和反射率降低的问题。 薄膜晶体管，保护膜（170）和平坦化膜（180）依次形成在基板的顶部。 平坦化的膜被曝光和显影。 第一通孔（190a）形成为暴露在薄膜晶体管的源/漏电极之间形成的保护膜。 在平坦化膜上进行热处理。 平坦化膜硬化。 在平坦化膜上进行灰化处理（500）。 包括有机发光层的有机膜形成在像素电极上。 对置电极形成在基板的前面。
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