公开(公告)号：KR100685726B1

公开(公告)日：2007-02-26

申请号：KR1020050071227

申请日：2005-08-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임영규 ,  이병암 ,  고재균 ,  임송식 ,  이용우

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/94 ,  G01N2021/8854

Abstract: 결함 분류 방법에 따르면, 공정들이 순차적으로 수행된 대상물 상의 각 공정별 실제 결함들에 대한 실제 정보들을 수득한다. 이어서, 실제 정보들을 공정들의 순서대로 순차적으로 누적하여 각 공정별 복합 정보들을 수득한다. 그런 다음, 실제 정보들과 복합 정보들로부터 각 공정별 실제 결함들 중에서 각 공정 중에 발생된 결함들에 대한 부가 정보들을 수득한다. 각 공정에서 실질적으로 발생된 결함들에 대한 부가 정보들을 얻을 수가 있게 되므로, 결함들이 어느 공정에서 발생되었는지를 정확하게 파악할 수가 있다.

公开(公告)号：KR1020070016496A

公开(公告)日：2007-02-08

申请号：KR1020050071227

申请日：2005-08-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 임영규 ,  이병암 ,  고재균 ,  임송식 ,  이용우

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N21/9501 ,  G01N21/94 ,  G01N2021/8854

Abstract: 결함 분류 방법에 따르면, 공정들이 순차적으로 수행된 대상물 상의 각 공정별 실제 결함들에 대한 실제 정보들을 수득한다. 이어서, 실제 정보들을 공정들의 순서대로 순차적으로 누적하여 각 공정별 복합 정보들을 수득한다. 그런 다음, 실제 정보들과 복합 정보들로부터 각 공정별 실제 결함들 중에서 각 공정 중에 발생된 결함들에 대한 부가 정보들을 수득한다. 각 공정에서 실질적으로 발생된 결함들에 대한 부가 정보들을 얻을 수가 있게 되므로, 결함들이 어느 공정에서 발생되었는지를 정확하게 파악할 수가 있다.

Abstract translation: 根据缺陷分类方法，这些过程获得关于顺序执行的对象上的每个过程的实际缺陷的实际信息。 随后，按照处理的顺序依次累积实际信息以获得每个处理的合成信息。 然后，根据实际信息和复合信息，获得每个过程的实际缺陷之间在每个过程中产生的缺陷的附加信息。 可以获得关于在每个过程中基本上产生的缺陷的附加信息，从而可以准确地掌握缺陷发生的过程。

公开(公告)号：KR100823698B1

公开(公告)日：2008-04-21

申请号：KR1020070019793

申请日：2007-02-27

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 고재균 ,  임영규 ,  박제권 ,  김현희 ,  이규

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G06T7/0004 ,  G01N21/95607 ,  G06T2207/30148 ,  G06T2207/30204

Abstract: An identification mark inspecting method is provided to almost avoid generation of an additional time interval by inspecting a defect of an identification mark formation region while using an image obtained for inspecting whether an identification mark is read. The image of an identification mark formed on a wafer is obtained(S110). The identification mark is read by using the image of the identification mark(S120). When the identification mark is read, a region where the identification mark is formed is inspected by using the image of the identification mark(S130). Whether the identification mark is read is determined according as the identification marks of the image are compared with predetermined reference identification marks and every reference identification mark match one of the reference identification marks.

Abstract translation: 提供识别标记检查方法，以便在使用为检查识别标记是否被读取而获得的图像时，通过检查识别标记形成区域的缺陷来几乎避免产生额外的时间间隔。 获得形成在晶片上的识别标记的图像（S110）。 通过使用识别标记的图像来读取识别标记（S120）。 当读取识别标记时，通过使用识别标记的图像检查形成识别标记的区域（S130）。 根据图像的识别标记与预定的参考识别标记进行比较确定识别标记是否被读取，并且每个参考识别标记与参考识别标记中的一个相匹配。

公开(公告)号：KR1020080049160A

公开(公告)日：2008-06-04

申请号：KR1020060119419

申请日：2006-11-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박제권 ,  임영규 ,  고재균 ,  이규 ,  장혜림

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/66

CPC classification number: G03F7/7065 ,  H01L21/67288 ,  H01L22/12

Abstract: An inspection method and an inspection apparatus are provided to detect simultaneously a light beam having an ultraviolet wavelength band and a light beam having an extreme ultraviolet wavelength band. A light irradiation process is performed to irradiate light having continuous wavelength bands onto an inspection target(10). A light separation process is performed to separate selectively light beams having different wavelength bands from the light reflected on the inspection target. A detection process is performed to detect the light beams. The light beam having the ultraviolet wavelength band and the light beam having an extreme ultraviolet wavelength band are separated from the light reflected on the inspection target.

Abstract translation: 提供一种检查方法和检查装置，以同时检测具有紫外线波长带的光束和具有极紫外波长带的光束。 执行光照射处理以将具有连续波段的光照射到检查目标（10）上。 进行光分离处理，以从具有在检查对象上反射的光分离出具有不同波长带的光束。 执行检测处理以检测光束。 具有紫外线波长带的光束和具有极紫外波长带的光束与在检查对象物上反射的光分离。

公开(公告)号：KR1020080042411A

公开(公告)日：2008-05-15

申请号：KR1020060110799

申请日：2006-11-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 배종인 ,  이병암 ,  김영순 ,  고재균

IPC: H01L21/66

Abstract: A recipe management method and a recipe management system are provided to realize unification of a recipe and to reduce a recipe setting time for each equipment by storing all recipes without separating lines through one recipe generating unit. A recipe generating unit(100) generates a recipe being commonly applied on plural examining apparatuses(300,301,302). The examining apparatuses are arranged on process lines through which a target is carried. Recipe providing units(200,210,220) provide the recipe generated from the recipe generating unit to each examining apparatus arranged on the process lines. A pattern storing unit(110) stores pattern information of the target to determine an examining region of the target. A recipe selecting unit(120) selects at least one of the recipes. The pattern storing unit includes a common map determining unit(111), an align determining unit(112), and a measurement region determining unit(113). The common map determining unit determines a common map on the examining region. The alignment determining unit determines an alignment of the target. The measurement region determining unit determines a measurement region on the examining region.

Abstract translation: 提供配方管理方法和配方管理系统，以通过存储所有配方而不通过一个配方生成单元分离线来实现配方的统一并减少每个设备的配方设置时间。 食谱生成单元（100）生成通常应用于多个检查装置（300,301,302）的食谱。 检查装置被布置在承载目标的处理线上。 配方提供单元（200,210,220）将从配方生成单元生成的配方提供给布置在处理线上的每个检查装置。 图案存储单元（110）存储目标的图案信息以确定目标的检查区域。 配方选择单元（120）选择配方中的至少一个。 图案存储单元包括公共地图确定单元（111），对准确定单元（112）和测量区域确定单元（113）。 共同映射确定单元确定检查区域上的公共映射。 对准确定单元确定目标的对准。 测量区域确定单元确定检查区域上的测量区域。

公开(公告)号：KR1020040054049A

公开(公告)日：2004-06-25

申请号：KR1020020080609

申请日：2002-12-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 배종인 ,  고재균

IPC: H01L21/66

Abstract: PURPOSE: A method for inspecting an opening portion of a semiconductor device is provided to improve the exactness in inspecting opening portion without the damage of a substrate. CONSTITUTION: An insulating layer having a plurality of opening portions is formed on a substrate(S100). The substrate is loaded into optical inspection equipment(S110). Ultraviolet rays are irradiated on the substrate(S120). The image of the substrate is induced by using the irradiated ultraviolet rays. The induced image is supplied at an ultra-high resolution. Each opening portion is discriminated by using the brightness difference of the image. The shape of the opening portion is checked.

Abstract translation: 目的：提供一种用于检查半导体器件的开口部分的方法，以提高检查开口部分的准确性而不损坏基板。 构成：在基板上形成具有多个开口部的绝缘层（S100）。 将基板装载到光学检查设备（S110）中。 紫外线照射在基板上（S120）。 通过使用照射的紫外线来诱导基板的图像。 感应图像以超高分辨率提供。 通过使用图像的亮度差来区分每个开口部分。 检查开口部的形状。