公开(公告)号：KR1020050039062A

公开(公告)日：2005-04-29

申请号：KR1020030074424

申请日：2003-10-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이용위 ,  김대우 ,  서경명

IPC: H01L21/324

Abstract: 급속열처리설비는 열처리공간을 제공하는 공정 챔버와 상기 공정 챔버의 상부에 설치되는 열원장치와 상기 공정 챔버내의 하부에 설치되며 웨이퍼가 안착되는 에지링 및 상기 공정 챔버 내부 측벽에 설치되어 소정의 조사광을 발생시키는 송광기 및 상기 조사광을 감지하는 수광기로 구성된 감지기를 포함한 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1020050023807A

公开(公告)日：2005-03-10

申请号：KR1020030061247

申请日：2003-09-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안계홍 ,  김대우

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A wafer carrier mounting equipment is provided to confirm the alignment of wafers and to detect a defect of wafers using a sensor detecting being out of position of wafers. CONSTITUTION: Multistage tables(22) are installed to a body frame(2). Carriers(25) on which wafers(26) are stacked, are seated on the multistage tables. A plurality of perforated grooves(H') spaced apart from each other are formed on the multistage tables. Photosensors(23) are mounted on each end of a plurality of perforated grooves. A control unit(24) attached to a predetermined position of the body frame receives detection values from the photosensors. Detection sensors(3) are formed on the inner surface of a closed rear plate(21) of the body frame.

Abstract translation: 目的：提供晶片载体安装设备以确认晶片的对准并使用传感器检测不在晶片的位置来检测晶片的缺陷。 构成：多台（22）安装在车架（2）上。 堆叠有晶片（26）的载体（25）位于多级台上。 在多台台上形成有多个彼此间隔开的多孔槽（H'）。 光传感器（23）安装在多个穿孔槽的每一端。 附接到车体框架的预定位置的控制单元（24）接收来自光电传感器的检测值。 检测传感器（3）形成在主体框架的封闭后板（21）的内表面上。

公开(公告)号：KR100185056B1

公开(公告)日：1999-04-15

申请号：KR1019960012989

申请日：1996-04-26

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 조경환 ,  류세형 ,  박찬식 ,  김대우

IPC: H01L21/22

Abstract: 본 발명은 수직형 확산로에서의 실공정 후 발생한 폐가스 균일 배기를 위한 배플(Baffle Plate) 장치에 관한 것이다.
본 발명의 목적은 수직형 확산로에 균일 배기 배플 플레이트(Baffle Plate)를 하나 이상 설치하여, 웨이퍼 보트와 석영튜브 사이 이격된 공간으로 배기되는 폐가스의 배기 면적을 감소시킴으로써, 석영 튜브 내의 반응 가스 밀도를 균일하게 함에 있다.
본 발명의 효과는 석영튜브의 내측면 소정위치에 배플 플레이트를 설치하여 웨이퍼 캡과 이격되어 있는 폐가스 배출 공간의 면적을 감소시켜 반응 가스의 석영튜브내 체류시간을 길게 하여 실공정 진행시 웨이퍼와 반응 가스의 반응을 균일하게 하여 공정 균일도를 향상시키는 효과가 있다.

公开(公告)号：KR1020050039059A

公开(公告)日：2005-04-29

申请号：KR1020030074421

申请日：2003-10-23

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서경명 ,  김재구 ,  김대우

IPC: H01L21/22

Abstract: 반도체 제조용 반응로는 외관을 형성하는 본체와 본체의 내측에 설치되어 반응공간을 형성하는 이너튜브 및 아웃튜브와 아웃튜브의 외벽에 외감되어 반응공간 내에 열을 가하는 히팅코일과 히팅코일 외측에 설치되며 그 내부에 냉수를 공급하여 반응공간을 쿨링시키는 수냉각기와 수냉각기의 외측에 설치되며 냉각에어를 분사시키는 공냉각기를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020010084408A

公开(公告)日：2001-09-06

申请号：KR1020000009434

申请日：2000-02-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 양종문 ,  김대우

IPC: C10L3/00

CPC classification number: C10L3/00 ,  C10L2290/547 ,  C10L2290/56

Abstract: PURPOSE: Provided is an environmental gas diluting apparatus using charcoal, which contains a gas diluting barrel, a first and a second gas agglomerating pipe, and a charcoal filter pipe. CONSTITUTION: The gas diluting apparatus comprises: the gas diluting barrel(30) for diluting gas; the first gas agglomerating pipe(34) for agglomerating the gas eluted from the gas diluting barrel(30); at least one charcoal filter pipe(36) for filtering the gas eluted from the first gas agglomerating pipe(34); the second gas agglomerating pipe(38) for agglomerating the gas eluted from the charcoal filter pipe(36).

Abstract translation: 目的：提供一种使用木炭的环境气体稀释装置，其包含气体稀释桶，第一和第二气体聚集管和炭过滤管。 构成：气体稀释装置包括：用于稀释气体的气体稀释桶（30） 所述第一气体凝聚管（34）用于使从所述气体稀释筒（30）中洗脱的气体凝聚; 至少一个用于过滤从第一气体凝聚管（34）洗脱的气体的炭过滤管（36）; 所述第二气体聚集管（38）用于使从所述炭过滤管（36）洗脱的气体凝聚。

公开(公告)号：KR100161450B1

公开(公告)日：1999-02-01

申请号：KR1019950040266

申请日：1995-11-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대우 ,  이재경 ,  구본립 ,  김상운

IPC: H01L21/66

CPC classification number: G01N33/0011 ,  G01M3/20

Abstract: 반도체 장치의 누설가스 검출장치에 관한 것으로, 특히, 흡입압력을 증가시켜 누설가스의 감지능력을 향상시킨 누설가스 검출방법 및 그의 장치에 관한 것으로, 검출구를 구비한 누설가스 감지장치와, 외부공기를 흡입하는 다수의 흡입구 각각의 개폐시간을 조절하여 특정 흡입구만을 개폐시키도록 제어하는 제어장치와, 상기 제어장치에 의해 제어되며 각 흡입구와 상기 누설가스 감지장치의 검출구에 연결된 밸브를 구비한다.

公开(公告)号：KR1019980037402A

公开(公告)日：1998-08-05

申请号：KR1019960056147

申请日：1996-11-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대우 ,  양종문

IPC: H01L21/00

Abstract: 본 발명은 설비관리 시스템과 변경데이터 관리시스템을 서로 접속하여 설비의 변경데이터를 효율적으로 관리할 수 있도록 한 설비의 데이터 관리시스템에 관한 것이다.
본 발명의 목적은 설비관리 시스템에 입력되는 설비의 공정조건 변경데이터와 공정결과 데이터를 변경데이터 관리시스템에서 실시간으로 관리할 수 있도록 한 설비의 데이터 관리시스템을 제공하는데 있다.
이와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 설비의 데이터 관리시스템은 설비들에 공통으로 접속된 설비관리시스템과 변경데이터 관리시스템이 서로 접속되어 있다. 따라서, 설비관리시스템에 변경데이터가 입력되는 즉시 변경데이터 관리시스템에 입력되어 변경데이터 관리가 신속히 정확하게 이루어진다.

公开(公告)号：KR1019980019799A

公开(公告)日：1998-06-25

申请号：KR1019960038040

申请日：1996-09-03

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 신현진 ,  조경환 ,  김상운 ,  김대우

IPC: H01L21/205

Abstract: 본 발명은 CVD 종형 확산 장치에 관한 것으로, 확산로의 진공배관이 내측 진공배관과 외측 진공배관 사이에 열선코일이 설치된 구조로 이루어져 있어 온도감지 센서가 내측 진공배관과의 온도를 감지함에 따라 제어부가 전원부의 전류를 열선코일에 공급하거나 공급을 중단하여 내측 진공배관의 온도를 상승시키거나 하강시킨다.
따라서, 본 발명은 확산로로부터 배기되는 폐가스와 내측 진공배관 사이의 온도차를 줄여 폐가스 분말가루가 발생되는 것을 방지하고, 진공배관의 막힘을 방지하여 웨이퍼 수율을 향상시키고, 설비가동시간을 증가시키며, 노동력을 절감할 수 있다.

公开(公告)号：KR1019970030551A

公开(公告)日：1997-06-26

申请号：KR1019950040266

申请日：1995-11-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대우 ,  이재경 ,  구본립 ,  김상운

IPC: H01L21/66

Abstract: 반도체 장치의 누설가스 검출장치에 관한 것으로, 특히, 흡입압력을 증가시켜 누설가스의 감지능력을 향상시킨 누설가스 검출방법 및 그의 장치에 관한 것으로, 검출구를 구비한 누설가스 감지장치와, 외부공기를 흡입하는 다수의 흡입구 각각의 개폐시간을 조절하여 특정 흡입구만을 개폐시키도록 제어하는 제어장치와 상기 제어장치에 의해 제어되며 각 흡입구와 상기 누설가스 감지장치의 연결된 밸브를 구비한다.

公开(公告)号：KR2019970025787U

公开(公告)日：1997-06-20

申请号：KR2019950034564

申请日：1995-11-21

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김대우 ,  최상국 ,  박찬식 ,  조경환

IPC: H01L21/22

Abstract: 본고안은반도체종형확산로의보트회전축풀림방지장치에관한것으로서, 본고안은보트회전축의풀림을간편하게방지하여부품의수명을연장할수 있는보트회전축의풀림방지장치를제공하는데그 목적을두고있다. 상기의목적을달성하기위한본 고안에의한반도체종형확산로의보트회전축풀림방지장치는전동축에연동축이고정되어있는반도체종형확산로의보트회전축에있어서, 상기연동축은제1체결부재에의해전동축에고정되고, 상기제1체결부재는제2체결부재에의해그 풀림이방지됨을특징으로한다.