公开(公告)号：KR1020020072374A

公开(公告)日：2002-09-14

申请号：KR1020010012251

申请日：2001-03-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서대만 ,  김재구 ,  김종식 ,  안계홍

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A semiconductor manufacturing apparatus having a cooling trap is provided to easily and simply perform a cleaning process without influences to a process tube and a pump operation. CONSTITUTION: A semiconductor manufacturing apparatus comprises a process tube for performing a series of processes, a cooling trap(50) connected with the process tube at one side of the cooling trap(50), a separation valve(58) connected with the other side of the cooling trap(50) and a pump connected with the other side of the separation valve(58). At this point, the semiconductor manufacturing apparatus has the cooling trap(50) having a transparent window(54). At this point, the cooling trap(50) is able to be connected or separated from the process tube and the separation valve(58).

Abstract translation: 目的：提供具有冷却阱的半导体制造装置，以容易且简单地进行清洁处理，而不影响处理管和泵的操作。 构成：半导体制造装置包括用于进行一系列处理的处理管，与冷却捕集器（50）一侧的处理管连接的冷却捕集器（50），与另一侧连接的分离阀（58） 和与分离阀（58）的另一侧连接的泵。 此时，半导体制造装置具有具有透明窗口（54）的冷却阱（50）。 此时，冷却捕集器（50）能够与处理管和分离阀（58）连接或分离。

公开(公告)号：KR1020020072373A

公开(公告)日：2002-09-14

申请号：KR1020010012250

申请日：2001-03-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서대만 ,  최우경 ,  안계홍 ,  고상국

IPC: H01L21/02

Abstract: PURPOSE: A semiconductor manufacturing apparatus having an ultrasonic generator is provided to prevent a power adsorption by generating an ultrasonic wave. CONSTITUTION: A semiconductor manufacturing apparatus comprises a process tube(200), a chamber(220), a pipe(230), a pump(240) for making the pipe(230) a vacuum state, a gas injection pipe(210) for supplying a reactive gas to the chamber(220) of the process tube(200) and a main valve(260) for controlling the pressure of the inner space of the pipe(230). The semiconductor manufacturing apparatus further includes an ultrasonic generator(280) connected with the pipe(230) for generating an ultrasonic wave into the pipe(230) and a controller(290) connected with the ultrasonic generator(280) for automatically controlling the frequency of the ultrasonic wave.

Abstract translation: 目的：提供一种具有超声波发生器的半导体制造装置，以通过产生超声波来防止功率吸收。 构成：半导体制造装置包括处理管（200），腔室（220），管道（230），用于使管道（230）形成真空状态的泵（240），气体注入管道（210），用于 向处理管（200）的腔室（220）供应反应气体，以及用于控制管道（230）的内​​部空间的压力的主阀门（260）。 半导体制造装置还包括与管（230）连接的超声波发生器（280），用于在管（230）中产生超声波，以及与超声波发生器（280）连接的控制器（290），用于自动控制 超声波。

公开(公告)号：KR1020020026669A

公开(公告)日：2002-04-12

申请号：KR1020000057894

申请日：2000-10-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서대만 ,  김종식 ,  안계홍

IPC: H01L21/205

Abstract: PURPOSE: A gas reaction chamber for preventing impurity particles from being attached to a semiconductor wafer is provided to prevent a defect of an integrated circuit caused by impurity particles, by reducing a possibility that impurity particles floating in a process are attached to a front surface of the semiconductor wafer. CONSTITUTION: The process is performed in a main body(111). A gas supply unit(116) supplies gas to the main body. A vacuum pump(118) maintains the inside of the main body at a low pressure. A wafer fix unit(112) fixes the back surface of the semiconductor wafer(114). The wafer fix unit fixes the semiconductor wafer to make the front surface of the semiconductor wafer face downward, positioned in the upper portion of the inside of the main body. The vacuum pump is connected to the lower portion of the outside of the main body.

Abstract translation: 目的：提供一种用于防止杂质颗粒附着到半导体晶片上的气体反应室，以防止由杂质颗粒引起的集成电路的缺陷，通过减少漂浮在工艺中的杂质颗粒附着到前体表面的可能性 半导体晶片。 构成：该过程在主体（111）中执行。 气体供给单元（116）向主体供给气体。 真空泵（118）将主体内部维持在低压下。 晶片固定单元（112）固定半导体晶片（114）的背面。 晶片固定单元固定半导体晶片，使得半导体晶片的前表面朝向下方，位于主体内部的上部。 真空泵连接到主体外部的下部。

公开(公告)号：KR100643488B1

公开(公告)日：2006-11-10

申请号：KR1020000066352

申请日：2000-11-09

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서대만 ,  김재구 ,  김종식 ,  안계홍

IPC: H01L21/02

Abstract: 본 발명은 반도체 제조 공정 수행에 필요한 가스량과 봄베로부터 유도되는 가스량을 자동 제어에 의해 정확히 체크되게 하므로서 이들의 비교에 의해 공급 가스량이 부족할 때에는 인터 락을 발생시켜 가스의 공급 불량에 따른 공정 불량 및 다량의 제품 불량의 사고를 미연에 방지할 수 있도록 하는 동시에 봄베에서의 가스 잔류량이 부족시 이를 경고하므로서 봄베의 정확한 교체 시기를 제공하므로서 조기 교체에 따른 경제적 손실을 예방할 수 있도록 하는 반도체 제조 공정에서의 가스 공급 장치와 그에 의한 가스 공급 방법에 관한 것으로서, 이를 위해 본 발명은 각 메인 설비(40)에 가스를 공급하는 각각의 가스 공급 수단인 봄베(10)와, 상기 봄베(10)로부터 공급되는 가스를 상기 각 메인 설비(40)에 일정량이 공급되도록 하는 레귤레이터 밸브(20)와, 상기 레귤레이터 밸브(20)로부터 공급되는 가스를 상기 각 메인 설비(10)에서 요구하는 압력으로 감압하는 가스 유량 제어 장치(30)로 이루어지는 가스 공급 구조에서, 상기 봄베(10)의 잔류 가스량을 체크하는 감지수단(50)과; 상기 가스 유량 제어 장치(30)에서 상기 각 메인 설비(40)로 공급되는 각 스텝에서 필요로 하는 가스량(GR)과 상기 봄베(10)의 잔류 가스량(GS)을 체크하여 인터 락 발생 여부를 판단하는 제어부를 구비하는 구성이 특징이다.
반도체 제조 공정, 봄베, 가스 유량 제어 장치, 잔량 검출, 인터 락

公开(公告)号：KR1020060024206A

公开(公告)日：2006-03-16

申请号：KR1020040073095

申请日：2004-09-13

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이동현 ,  서경명 ,  안계홍

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67772 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67201

Abstract: 로드록 챔버 및 이를 이용한 반도체 제조 장치가 제공된다. 로드록 챔버는 개구가 형성된 중공의 본체와, 개구의 주변에 설치되는 도어 지지대와, 마주보는 한쌍의 플레이트로서 도어 지지대에 의해 지지 및 가이드되고 한 쌍의 플레이트 사이에 삽입 설치되어 수축 및 이완 동작을 수행하는 내부 에어 실린더에 의해 개구를 개폐하는 도어 및 도어의 일측 결합되어 상승 및 하강 동작을 수행하는 외부 에어 실린더를 포함한다.
로드록 챔버, 이중 도어, RTP

公开(公告)号：KR1020050023807A

公开(公告)日：2005-03-10

申请号：KR1020030061247

申请日：2003-09-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안계홍 ,  김대우

IPC: H01L21/68

Abstract: PURPOSE: A wafer carrier mounting equipment is provided to confirm the alignment of wafers and to detect a defect of wafers using a sensor detecting being out of position of wafers. CONSTITUTION: Multistage tables(22) are installed to a body frame(2). Carriers(25) on which wafers(26) are stacked, are seated on the multistage tables. A plurality of perforated grooves(H') spaced apart from each other are formed on the multistage tables. Photosensors(23) are mounted on each end of a plurality of perforated grooves. A control unit(24) attached to a predetermined position of the body frame receives detection values from the photosensors. Detection sensors(3) are formed on the inner surface of a closed rear plate(21) of the body frame.

Abstract translation: 目的：提供晶片载体安装设备以确认晶片的对准并使用传感器检测不在晶片的位置来检测晶片的缺陷。 构成：多台（22）安装在车架（2）上。 堆叠有晶片（26）的载体（25）位于多级台上。 在多台台上形成有多个彼此间隔开的多孔槽（H'）。 光传感器（23）安装在多个穿孔槽的每一端。 附接到车体框架的预定位置的控制单元（24）接收来自光电传感器的检测值。 检测传感器（3）形成在主体框架的封闭后板（21）的内表面上。

公开(公告)号：KR100630373B1

公开(公告)日：2006-10-02

申请号：KR1020000057894

申请日：2000-10-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서대만 ,  김종식 ,  안계홍

IPC: H01L21/205

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼 위에 불순물 입자가 부착되는 것을 방지하기 위한 가스 반응실에 관한 것으로서, 공정이 진행되는 본체, 본체에 가스를 공급하는 가스 공급부, 본체 내부를 저압으로 유지하는 진공 펌프, 및 반도체 웨이퍼의 뒷면을 고정시키는 웨이퍼 고정부를 포함하는 가스 반응실에 있어서, 웨이퍼 고정부는 본체 내부의 상단부에 위치하여 반도체 웨이퍼의 앞면이 아래쪽을 향하도록 고정시키며, 진공 펌프는 본체 외부의 하단부에 연결되는 것을 특징으로 하는 가스 반응실을 제공한다.
가스 반응실, 반도체 웨이퍼, 불순물, 확산, 화학기상반응

公开(公告)号：KR1020050017782A

公开(公告)日：2005-02-23

申请号：KR1020030055130

申请日：2003-08-08

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이동현 ,  서경명 ,  안계홍

IPC: H01L21/324

Abstract: PURPOSE: An RTP(rapid thermal process) apparatus is provided to prevent a wafer from being warped by heat and vibration and avoid misalignment in a photolithography process by heating the wafer while a lamp part for heating the wafer is rotated. CONSTITUTION: A predetermined space is formed in a chamber to perform a predetermined heat treatment process. A wafer edge ring(222) is installed in the chamber so that a wafer is placed in the wafer edge ring. A lamp housing(263) is coupled to the upper part of the chamber to confront the wafer. A plurality of lamps(265) heat the wafer, coupled to the lower part of the lamp housing. A rotation unit rotates the lamp as the wafer is heated, coupled to the lamp housing.

Abstract translation: 目的：提供RTP（快速热处理）装置，以防止晶片受到热和振动的翘曲，并且通过在用于加热晶片的灯部件旋转的同时加热晶片来避免光刻工艺中的未对准。 构成：在室内形成规定的空间，进行规定的热处理。 晶片边缘环（222）安装在腔室中，使得晶片放置在晶片边缘环中。 灯壳体（263）联接到腔室的上部以面对晶片。 多个灯（265）加热晶片，耦合到灯壳体的下部。 当晶片被加热时，旋转单元旋转灯，耦合到灯壳体。

公开(公告)号：KR1020020086978A

公开(公告)日：2002-11-21

申请号：KR1020010025994

申请日：2001-05-12

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 서대만 ,  김재구 ,  김종식 ,  안계홍

IPC: H01L21/02

Abstract: PURPOSE: A cooling trap for cooling an exhaust gas and an exhaust apparatus of semiconductor fabrication equipment including the same are provided to remove effectively a non-reactant by increasing an indirect contact area between an exhaust gas passing a cooling trap and a coolant. CONSTITUTION: A heating portion(18) is used for controlling internal temperature of an exhaust apparatus of low chemical vapor deposition equipment. The exhaust apparatus of low chemical vapor deposition equipment includes an inner tube(14) and a dome-shaped outer tube(16) as a process chamber for supplying a reaction gas through a reaction gas supply line(12). A boat(20) is used for loading a plurality of wafers(22). The boat(20) is transferred to the inside or the outside of the internal tube(14). A cap base(10) is installed at a lower portion of the boat(20). A vacuum pump(26) is connected with one side of the cap base(10) by a main exhaust line(40). A cooling trap(60) is installed at the main exhaust line(40) by a couple of clamps(66a,66b). A plurality of stop valves(42,44) are installed on the main exhaust line(40). An auxiliary exhaust line(46) is installed on the main exhaust line(40) between the stop valve(44) and the vacuum pump(26). A couple of stop valves(48,50) is installed on the auxiliary exhaust line(46) of both sides of the cooling trap(60).

Abstract translation: 目的：提供一种用于冷却废气的冷却阱和包括其的半导体制造设备的排气装置，以通过增加通过冷却阱的排气与冷却剂之间的间接接触面积来有效地去除非反应物。 构成：加热部（18）用于控制低化学气相沉积设备的排气装置的内部温度。 低化学气相沉积设备的排气装置包括作为用于通过反应气体供应管线（12）供应反应气体的处理室的内管（14）和圆顶形外管（16）。 船（20）用于装载多个晶片（22）。 船（20）被转移到内管（14）的内部或外部。 盖基座（10）安装在船（20）的下部。 真空泵（26）通过主排气管（40）与盖基座（10）的一侧连接。 冷却捕集器（60）通过一对夹具（66a，66b）安装在主排气管线（40）处。 多个截止阀（42,44）安装在主排气管路（40）上。 辅助排气管路（46）安装在截止阀（44）和真空泵（26）之间的主排气管（40）上。 在冷却捕集器（60）的两侧的辅助排气管（46）上安装有几个截止阀（48,50）。

公开(公告)号：KR1020000028115A

公开(公告)日：2000-05-25

申请号：KR1019980046252

申请日：1998-10-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 안계홍

IPC: H01L21/00

Abstract: PURPOSE: A water flow meter system using many flow meters is provided to stably supply water by detecting the abnormality of one flow meter using many water flow meters and operating the other normal flow meter. CONSTITUTION: When a contact sensor(224) is closed to a level weight of a flow meter(222) by generating a fail in a water flow meter(22), the contact sensor(224) outputs by detecting the fail and by generating a fail signal. A control unit(25) generates a control signal for driving the other flow meter(24) by responding to the fed fail signal, and outputs the control signal to a solenoid valve(26). The solenoid valve(26) operates a water flow meter(24) by generating a driving signal to drive an air water valve(28). Therefore the flow meter(24) is operated by the air water valve(28), and is able to normally display the amount of water flowed from outside. The water flowed through the water flow meter(24) is supplied to an external equipment system through an output terminal OUT by passing a pipe(210).

Abstract translation: 目的：提供使用多个流量计的水流量计系统，通过使用许多水流量计检测一个流量计的异常情况并操作另一个正常流量计来稳定供水。 构成：当接触传感器（224）通过在水流量计（22）中产生故障而关闭到流量计（222）的水平重量时，接触传感器（224）通过检测故障并通过产生 失败信号。 控制单元（25）通过响应输入的故障信号产生用于驱动另一个流量计（24）的控制信号，并将控制信号输出到电磁阀（26）。 电磁阀（26）通过产生驱动空气水阀（28）的驱动信号来操作水流量计（24）。 因此，流量计（24）由空气水阀（28）操作，能够正常地显示从外部流出的水量。 流过水流量计（24）的水通过管道（210）通过输出端子OUT供给到外部设备系统。