Abstract:
화상통화 제공방법이 제공된다. 본 화상통화 제공방법에 따르면, 연결된 외부기기의 전화번호부를 수신하여 방송수신장치의 전화번호를 업데이트할 수 있게 된다. 또한, 외부 방송수신장치가 파워오프 상태인 경우 외부 방송수신장치 사용자의 정보통신단말로 통화요청신호를 송신할 수 있게 된다. 그리고, 음성신호의 송수신이 있는지 여부에 따라 화상통화의 상태를 변경할 수 있게 된다. 또한, 복수개의 윈도우들 각각에 대하여 볼륨조절이 되도록 제어할 수 있게 된다. 이에 따라, 사용자는 화상통화를 더욱 편리하게 이용할 수 있게 된다. 화상통화, TV, 전화번호부
Abstract:
나노크리스탈을 갖는 비 휘발성 메모리소자가 제공된다. 이 소자는 기판 및 상기 기판 상에 배치된 터널유전막을 구비한다. 상기 터널유전막 상에 나노크리스탈이 배치된다. 상기 나노크리스탈은 불소함유 유전막(fluorinated dielectrics)으로 둘러싸인다. 상기 불소함유 유전막으로 둘러싸인 상기 나노크리스탈은 제어유전막으로 덮인다. 상기 제어유전막 상에 제어게이트전극이 배치된다. 나노크리스탈 비 휘발성 메모리소자의 제조방법 또한 제공된다.
Abstract:
MOS transistors having an optimized channel plane orientation, semiconductor devices including the same, and a manufacturing method thereof are provided to improve a mobility degree of a carrier. A semiconductor substrate(11) includes a main surface on plane (100). A device isolation film(13) is provided at a predetermined region of the semiconductor substrate, and defines an active region. A source region and a drain region are provided in the active region. The source region and the drain region are arranged on a straight line, which is parallel with orientation . Gate electrodes(21a,21b) cover a channel region between the source region and the drain region. The semiconductor substrate(11) includes a flat zone plane perpendicular to the main surface. The source region and the drain region are disposed on a straight line, which is parallel with the flat zone plane.
Abstract:
본 발명인 SOI 트랜지스터의 제조 방법은, 실리콘 기판상에 일정 깊이의 홀을 갖는 제1 산화막을 형성하는 단계와, 그 홀내에 제1 게이트 도전막을 형성하는 단계와, 제1 게이트 도전막의 상부 일정 부분이 노출되도록 제1 산화막의 일부를 식각하는 단계와, 제1 게이트 도전막의 노출 부분상에 제2 산화막을 형성하는 단계와, 제1 산화막 및 제2 산화막 상에 일정 두께의 실리콘막을 형성하는 단계와, 실리콘막 상에 게이트 산화막 및 제2 게이트 도전막을 형성하는 단계와, 제2 게이트 도전막의 측벽에 스페이서를 형성하는 단계와, 실리콘막의 선택된 영역에 소스 영역 및 드레인 영역을 각각 형성하는 단계, 및 제2 게이트 도전막, 소스 영역 및 드레인 영역상에 실리사이드층을 형성하는 단계를 포함한다.
Abstract:
본 발명의 전계 효과 트래지스터 소자의 트랜치의 측벽 이온 주입 방법은 반도체 기판 상에 물질막 패턴을 형성하여 상기 반도체 기판의 표면을 노출시키는 단계와, 상기 물질막 패턴의 일측벽에 제1 스페이서와 상기 제1 스페이서의 일측벽에 상기 제1 스페이서와 식각선택비가 큰 제2 스페이서를 형성하는 단계와, 상기 제2 스페이서에 얼라인되게 상기 반도체 기판을 식각하여 트랜치를 형성하는 단계와, 상기 제2 스페이서를 제거하여 상기 트랜치 근방의 반도체 기판 표면을 노출시키는 단계와, 상기 제2 스페이서가 제거된 반도체 기판의 전면에 불순물을 이온주입하여 상기 트랜치의 양측벽에 측벽 불순물 도핑 영역을 형성하는 단계를 포함한다. 이에 따라, 본 발명은 트랜치 근방의 불순물이 도핑되는 영역 상부가 노출됨에 따라 수직하게 이온주입을 할 수 있고 제2 스페이서의 하부 면적을 미세하게 조절함으로써 측벽 불순물 도핑 영역의 미세한 조절이 가능하다.
Abstract:
본 발명은 저전압 저전력 SOI 트랜지스터 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 반도체 소자층 상에 소자격리막을 형성한다. 상기 소자격리막을 포함하여 상기 반도체 소자층 상에 제 1 층간절연막 및 폴리실리콘막을 차례로 형성한다. 상기 폴리실리콘막을 NMOS 트랜지스터 형성 영역은 p+형 불순물 이온으로 도핑시키고, PMOS 트랜지스터 형성 영역은 n+형 불순물 이온으로 각각 도핑시킨다. 상기 도핑된 폴리실리콘막을 패터닝 하여 백 게이트를 형성한다. 상기 백 게이트를 포함하여 상기 제 1 층간절연막 상에 평탄화된 상부 표면을 갖는 제 2 층간절연막을 형성한다. 그리고, 상기 제 2 층간절연막과 반도체 기판을 본딩 시킨다. 상기 반도체 소자층을 상기 소자격리막을 식각 정지층으로 하여 평탄화 식각 하여 얇은 반도체 소자층을 형성한다. 또는 수소 이온주입에 의한 스마트 컷 방법에 의해 얇은 반도체 소자층을 형성한다. 후속 공정으로 상기 백 게이트 및 상기 반도체 소자층 상에 형성되는 프론트 게이트에 동시에 전기적으로 접속되는 금속 라인을 형성한다. 이와 같은 반도체 장치의 제조 방법에 의해서, 백 게이트 형성 공정을 단순화시킬 수 있고, 소자의 신뢰도를 증가시킬 수 있으며, 따라서 안정된 저전압 저전력 소자를 형성할 수 있다. 또한, 본딩 공정 수를 줄임으로써 공정 단가를 줄일 수 있다
Abstract:
PURPOSE: An RJ45 serial input/output(SIO) interface device is provided to determine the direction of SIO by controlling the position of a tap switch and the installation of RJ 45 parts, thereby simplifying the circuit arrangement and improving the reliability of the circuit arrangement. CONSTITUTION: In an RJ45 serial input/output interface device, a PCB(30), to which an RJ45 socket(20) is mounted, is provided with ground terminals on upper and lower lines symmetrically and a nodal switch(40) is provided between the PCB and a line driver for selecting the short of Tx and Rx according to the manipulation of a tap switch(41).
Abstract:
An apparatus and method for generating a radio frequency (RF) signal and control signals are provided. In an apparatus for generating a radio frequency (RF) signal and control signals in which the current output from a plurality of light receiving elements is converted into voltage signals and the RF signal and the control signals are generated in response to the voltage signals, the apparatus includes an input data processing unit, a digital filter, a servo signal generating unit, a digital RF data generating unit, and a reference comparator. The input data processing unit performs time-sharing sampling on the voltage signals and converts the voltage signals into first digital signals in response to an analog/digital conversion clock signal having a predetermined period and a sequentially applied selection signal. The digital filter filters each of the first digital signals to modify the shape of the waveforms of the first digital signals and outputs the modified waveforms as second digital signals. The servo signal generating unit corrects delay time of the second digital signals and generates the control signals for servo control in response to the corrected signals. The digital RF data generating unit corrects delay time of the second digital signals before summing them to generate digital RF data. The reference comparator compares an average value of the digital RF data with the voltage level of the digital RF data in response to a predetermined demodulation clock signal and generates a non-return to zero (NRZ) signal in response to a compared result.