公开(公告)号：KR1020070057373A

公开(公告)日：2007-06-07

申请号：KR1020050116758

申请日：2005-12-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이주원 ,  김지기 ,  박연학 ,  이영석 ,  이현훈 ,  장영철

IPC: H01L21/027

Abstract: Semiconductor photo spinner equipment is provided to reduce a time required for measuring a thickness of photoresist formed on a wafer which is rotated by a spin chuck in real time. A spin coater applies photoresist onto a waver, and a baking unit bakes the photoresist applied on the spin coater. A wafer edge exposing unit has a spin chuck(214) rotating the wafer with the photoresist baked by the baking unit, and an exposing part(212) exposing an edge of the wafer rotated by the spin chuck. A thickness measuring unit(270) is provided on one side of the wafer edge exposing unit to measure a thickness of the photoresist formed on the water rotated by the spin chuck.

Abstract translation: 提供半导体光电旋转设备以减少测量由旋转卡盘实时旋转的晶片上形成的光致抗蚀剂所需的时间。 旋转涂布机将光致抗蚀剂施加到摇摆器上，并且烘烤单元将施加在旋涂机上的光致抗蚀剂烘烤。 晶片边缘曝光单元具有旋转卡盘（214），其旋转晶片与由烘焙单元烘烤的光致抗蚀剂;以及曝光部分（212），暴露由旋转卡盘旋转的晶片的边缘。 厚度测量单元（270）设置在晶片边缘曝光单元的一侧，以测量由旋转卡盘旋转的水上形成的光刻胶的厚度。

公开(公告)号：KR1020060036155A

公开(公告)日：2006-04-28

申请号：KR1020040085184

申请日：2004-10-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 장영철 ,  김종민 ,  김지기 ,  성재현 ,  이현훈

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F9/7007 ,  G03F7/2022 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67259

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 에지 노광장치에 관한 것으로서, 즉 본 발명은 웨이퍼 에지부의 감광막을 제거하는 웨이퍼 에지 노광장치에 있어서, 척을 중심으로 양측에 각각 구비되는 버퍼(10)는 별도의 구동 수단(20)에 의해서 동시에 반대 방향으로 미세한 길이를 수평이동하면서 상기 버퍼(10)의 안치면(11)에 얹혀지는 웨이퍼의 위치를 조정하도록 하는 구성이 특징인 바 양측에 구비되는 버퍼(10)의 업다운 작용과 함께 로딩되어 안치면(11)에 안치되는 웨이퍼(W)를 서로 반대 방향으로 동시에 버퍼(10)가 수평이동토록 하면서 웨이퍼(W)의 정확한 포지션 조정이 자동으로 이루어지도록 하여 웨이퍼(W)의 포지션 에러로 인한 공정 중단과 추가적인 인력 투입을 방지하여 생산성이 대폭적으로 향상될 수 있도록 한다.
웨이퍼 에지 노광, 버퍼, 웨이퍼 포지션 조정, 웨이퍼 센터링

Abstract translation: 本发明涉及一种用于去除晶片边缘部分上的光致抗蚀剂膜的晶片边缘曝光装置，该晶片边缘曝光装置包括设置在卡盘两侧的单独驱动装置（20） 通过设置在两侧的缓冲器10的升降操作，同时调节放置在缓冲器10的内表面11上的晶片的位置，同时水平地沿相反方向移动精细长度， 自动调整晶片W的位置，从而同时装载晶片W，同时使放置在面11上的晶片W沿相反方向移动，并使缓冲器10水平移动， 它可以防止由于错误和额外的人力输入造成的过程中断，从而大大提高生产力。

公开(公告)号：KR1020070106834A

公开(公告)日：2007-11-06

申请号：KR1020060039165

申请日：2006-05-01

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김지기 ,  김경호

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02

Abstract: An apparatus for removing the particles on the upper surface of a chuck on which a wafer is placed is provided to remove the particles on the upper surface of a chuck and improve productivity by inducing static electricity on the upper surface of the chuck. A static electricity inducing part(20) is composed of an electrified member(16) and a static electricity generating unit(18) for supplying static electricity to the electrified member wherein the electrified member is installed on a chuck(10) on which a wafer having a photoresist layer is placed. The electrified member can be a circular plate covering the upper surface of the chuck or a bar shape longer than the diameter of the upper surface of the chuck. The static electricity inducing part supplies static electricity to the electrified member and induces static electricity to the upper surface of the chuck to electrostatically absorb the particles absorbed to the upper surface of the chuck to the electrified member. A static electricity removing part(30) is composed of a nozzle(22) installed over the chuck and an ion air blowing part(24) for supplying ion air to the nozzle. The static electricity removing part blows ion air to the chuck to remove static electricity induced to the chuck by the static electricity inducing part.

Abstract translation: 提供一种用于去除其上放置晶片的卡盘的上表面上的颗粒的装置，以去除卡盘的上表面上的颗粒，并通过在卡盘的上表面上引起静电来提高生产率。 静电引导部（20）由带电部件（16）和静电发生部（18）构成，用于向通电部件供给静电，其中带电部件安装在卡盘（10）上，在该卡盘 具有光致抗蚀剂层。 带电构件可以是覆盖卡盘的上表面的圆形板或比卡盘的上表面的直径更长的条形。 静电引导部件向带电部件供给静电，并且对卡盘的上表面产生静电，以将吸附到卡盘上表面的颗粒静电吸收到带电部件。 静电除去部（30）由安装在卡盘上的喷嘴（22）和用于向喷嘴供给离子空气的离子风吹送部（24）构成。 静电除去部件将离子空气吹向卡盘，以除去由静电诱导部分引起的对卡盘的静电。

公开(公告)号：KR1020070057348A

公开(公告)日：2007-06-07

申请号：KR1020050116683

申请日：2005-12-02

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 성낙희 ,  김지기 ,  이주원

IPC: H01L21/027

Abstract: A projection device and an exposure apparatus having the same are provided to prevent a sustaining member from being slant by moving a substrate stage in a vertical direction to adjust a puddle dimension. A projection lens array(352) projects the light emitted from a light source(200) onto a substrate(W). A sustaining member(370) is fixed to a lower end of the projection lens array to guide flow of a fluid between projection lenses of the projection lens array and thus maintain the fluid in a puddle state. A stage supports the substrate and moves the substrate in a vertical direction to adjust a level of the puddle. The sustaining member has a body with a recessed portion and a hole, a supply nozzle supplying a fluid in the recessed portion, a recovery nozzle for discharging the fluid, and an air curtain.

Abstract translation: 提供一种投影装置和具有该投影装置的曝光装置，以通过沿垂直方向移动基板台来防止维持构件倾斜以调节水坑尺寸。 投影透镜阵列（352）将从光源（200）发射的光投射到基板（W）上。 支撑构件（370）固定到投影透镜阵列的下端以引导投影透镜阵列的投影透镜之间的流体流动，从而将流体保持在水坑状态。 舞台支撑衬底并沿垂直方向移动衬底以调整水坑的水平。 维持构件具有凹部和孔的主体，在凹部中供给流体的供给喷嘴，用于排出流体的回收喷嘴和气帘。

公开(公告)号：KR1020080056537A

公开(公告)日：2008-06-23

申请号：KR1020060129556

申请日：2006-12-18

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김경호 ,  장영철 ,  김지기

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: G03F7/162 ,  B05C11/10 ,  B05D1/005 ,  G03F7/707 ,  H01L21/6715

Abstract: An apparatus for processing a substrate is provided to smoothly exhaust a fume by forming a united exhaust unit for exhausting a coating solution and the fume together. A spin chuck(300) supports and rotates a substrate(110) to which a coating solution is supplied. A spin cup(400) surrounds the spin chuck. A united exhaust unit(500) is formed on the spin cup to intentionally exhaust the coating solution dispersed from the spin chuck and a fume generated from the coating solution. A coating solution exhaust unit(600) is communicated with the united exhaust unit to exhaust the coating solution. A fume exhaust unit(700) is communicated with the united exhaust unit and exhausts the fume. The spin cup includes a guide plate(430). The guide plate guides the coating solution and the fume to the united exhaust unit. The united exhaust unit has plural exhaust holes(510). The coating solution exhaust unit and the fume exhaust unit respectively include exhaust lines(610,710) connected to the united exhaust unit and exhaust pumps(620,720) connected to the exhaust lines.

Abstract translation: 提供一种处理基板的装置，通过形成用于将涂布溶液和烟雾排出在一起的联合排气单元来平滑地排出烟气。 旋转卡盘（300）支撑并旋转供应涂布溶液的基底（110）。 旋转杯（400）围绕旋转卡盘。 联合排气单元（500）形成在旋转杯上以有意地排出从旋转夹头分散的涂布溶液和从涂布溶液产生的烟雾。 涂布液排出单元（600）与联合排气单元连通以排出涂布溶液。 排烟单元（700）与联合排气单元连通并排出烟气。 旋转杯包括导板（430）。 引导板将涂层溶液和烟气引导到联合排气单元。 联合排气单元具有多个排气孔（510）。 涂布液排气单元和排烟单元分别包括连接到联合排气单元的排气管（610,710）和连接到排气管的排气泵（620,720）。

公开(公告)号：KR1020070048497A

公开(公告)日：2007-05-09

申请号：KR1020050105645

申请日：2005-11-04

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 이영석 ,  이주원 ,  장영철 ,  김지기

IPC: G03F7/20

Abstract: 본 발명은 이멀젼 리소그라피 장치에 관해 개시한다. 개시된 장치는 상부면에 웨이퍼가 장착되는 스테이지; 스테이지 상부에 배치된 투영렌즈부; 웨이퍼와 상기 투영렌즈부 사이의 공간에 배치되며, 액체를 수용하는 이멀젼 렌즈부; 이멀젼 렌즈부의 바닥면을 밀봉시켜 상기 액체의 유출을 방지하기 위한 개폐가능한 셔터부재;및 상기 이멀젼 렌즈부로부터 상기 셔터부재를 개폐시키기 위한 개폐수단을 구비한다.

公开(公告)号：KR100621767B1

公开(公告)日：2006-09-19

申请号：KR1020040085184

申请日：2004-10-25

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 장영철 ,  김종민 ,  김지기 ,  성재현 ,  이현훈

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/027

Abstract: 본 발명은 웨이퍼 에지 노광장치에 관한 것으로서, 즉 본 발명은 웨이퍼 에지부의 감광막을 제거하는 웨이퍼 에지 노광장치에 있어서, 척을 중심으로 양측에 각각 구비되는 버퍼(10)는 별도의 구동 수단(20)에 의해서 동시에 반대 방향으로 미세한 길이를 수평이동하면서 상기 버퍼(10)의 안치면(11)에 얹혀지는 웨이퍼의 위치를 조정하도록 하는 구성이 특징인 바 양측에 구비되는 버퍼(10)의 업다운 작용과 함께 로딩되어 안치면(11)에 안치되는 웨이퍼(W)를 서로 반대 방향으로 동시에 버퍼(10)가 수평이동토록 하면서 웨이퍼(W)의 정확한 포지션 조정이 자동으로 이루어지도록 하여 웨이퍼(W)의 포지션 에러로 인한 공정 중단과 추가적인 인력 투입을 방지하여 생산성이 대폭적으로 향상될 수 있도록 한다.
웨이퍼 에지 노광, 버퍼, 웨이퍼 포지션 조정, 웨이퍼 센터링